一种超低衰减单模光纤的制作方法

文档序号:12115453阅读:来源:国知局
技术总结
本发明涉及一种超低衰减单模光纤,包括有芯层和包层,其特征在于所述的芯层半径r1为3~5μm,芯层的相对折射率Δn1为0~0.20%,芯层外从内向外依次包覆内包层,下陷内包层和外包层,所述的内包层半径r2为6~10μm,相对折射率Δn2小于或等于‑0.23%,所述的下陷内包层半径r3为10.5~20μm,相对折射率Δn3小于或等于‑0.40%,所述外包层为全掺氟二氧化硅玻璃层,相对折射率Δn4小于或等于‑0.23%。本发明通过对芯包层进行不同材料组分设计,优化光纤各个部分粘度和光纤应力,降低了芯层和内包层玻璃材料在光纤制备过程中结构弛豫时间失配,减少了界面缺陷,并且芯层进行碱金属掺杂,有效降低芯层虚拟温度,从而实现单模光纤的超低衰减性能。

技术研发人员:朱继红;张磊;吴俊;艾靓;汪洪海;王瑞春
受保护的技术使用者:长飞光纤光缆股份有限公司
文档号码:201610702257
技术研发日:2016.08.22
技术公布日:2017.03.22

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