1.一种用于处理半导体基板的热处理设备，所述热处理设备包括：
基板支撑件，所述基板支撑件具有基板接收表面；
光束源，所述光束源具有快轴，用于沿着与所述基板支撑件的所述基板接收表面交叉的光学路径发射光束；
均化器，所述均化器沿着所述光学路径设置在所述光束源与所述基板支撑件之间，所述均化器包括：
第一透镜阵列，所述第一透镜阵列具有柱状透镜的小透镜阵列；和
第二透镜阵列，所述第二透镜阵列具有柱状透镜的小透镜阵列，其中所述第二透镜阵列的小透镜阵列的至少两个相邻柱状透镜具有比所述第一透镜阵列的小透镜阵列的至少两个相邻柱状透镜的间距更大的间距。
2.如权利要求1所述的设备，所述设备进一步包括：
多个聚光透镜，所述多个聚光透镜沿着所述光学路径设置在所述均化器与所述基板支撑件之间，其中所述多个聚光透镜包括至少五个球面透镜。
3.如权利要求1所述的设备，其中所述光束源以在约190nm与约950nm之间的波长发射光束。
4.如权利要求1所述的设备，其中所述第二透镜阵列的小透镜阵列的每一个柱状透镜和所述第一透镜阵列的小透镜阵列的每一个柱状透镜都沿平行于所述快轴的轴定向。
5.一种用于处理半导体基板的热处理设备，所述热处理设备包括：
基板支撑件，所述基板支撑件具有基板接收表面；
激光二极管杆阵列，所述激光二极管杆阵列沿着与所述基板支撑件的所述基板接收表面交叉的光学路径以第一波长发射激光辐射，所述激光二极管杆阵列布置在沿着慢轴延伸的多个平行列内，所述列的激光二极管杆沿着快轴布置在堆叠中，其中所述慢轴和所述快轴与在所述激光二极管杆阵列和所述基板支撑件之间的光学路径正交；
照明光学器件，所述照明光学器件沿着所述光学路径设置在所述激光二极管杆阵列和所述基板支撑件之间，所述照明光学器件包括：
慢轴透镜集合，所述慢轴透镜集合具有彼此间隔开的至少第一柱状透镜和第二柱状透镜；和
快轴透镜集合，所述快轴透镜集合具有彼此间隔开的至少第一柱状透镜和第二柱状透镜，所述快轴透镜集合设置在所述慢轴透镜集合的所述第一柱状透镜与所述第二柱状透镜之间；和
均化器，所述均化器沿着所述光学路径设置在所述照明光学器件与所述基板支撑件之间，用于沿着所述慢轴均化激光辐射，所述均化器包括：
第一透镜阵列，所述第一透镜阵列具有柱状透镜的小透镜阵列；和
第二透镜阵列，所述第二透镜阵列具有柱状透镜的小透镜阵列，其中所述第二透镜阵列的小透镜阵列的至少两个相邻柱状透镜具有比所述第一透镜阵列的小透镜阵列的至少两个相邻柱状透镜的间距更大的间距。
6.如权利要求5所述的设备，其中所述照明光学器件进一步包括：
二向分光镜，所述二向分光镜设置在所述快轴透镜集合的下游且构造为将自加热基板反射的第二波长和第三波长的激光辐射重导引至高温计；和
波片，所述波片设置在所述二向分光镜的下游以将激光辐射的线性偏振变换成为圆偏振。
7.如权利要求5所述的设备，进一步包括：
聚光透镜集合，所述聚光透镜集合沿着所述光学路径设置在所述均化器与所述基板支撑件之间，用于在所述基板的表面处聚焦线路图像。
8.如权利要求7所述的设备，其中所述聚光透镜集合包括至少五个球面透镜。
9.如权利要求5所述的设备，其中所述慢轴透镜集合的所述第一柱状透镜具有面朝所述激光二极管杆阵列的凸透镜表面且所述慢轴透镜集合的所述第二柱状透镜具有面朝所述基板的表面的凸透镜表面。
10.如权利要求5所述的设备，其中所述快轴透镜集合的所述第一柱状透镜具有面朝所述激光二极管杆阵列的凹透镜表面且所述快轴透镜集合的所述第二柱状透镜具有面朝所述基板的表面的凸透镜表面。
11.如权利要求5所述的设备，其中所述第一透镜阵列的每一个透镜的轴和所述第二透镜阵列的每一个透镜的轴平行于所述快轴定向。
12.如权利要求5所述的设备，其中所述第一波长为约808nm，所述第二波长为约940nm，并且所述第三波长为约1550nm。
13.一种用于处理半导体基板的热处理设备，所述热处理设备包括：
基板支撑件，所述基板支撑件具有基板接收表面；
激光二极管杆阵列，所述激光二极管杆阵列沿着与所述基板支撑件的所述基板接收表面交叉的光学路径发射激光辐射，所述激光二极管杆阵列布置在沿着慢轴延伸的多个平行列内，其中所述列的激光二极管杆沿着快轴排列在堆叠中，所述慢轴大体垂直于所述快轴，并且所述慢轴和所述快轴与所述光学路径正交；
照明光学器件，所述照明光学器件沿着所述光学路径设置在所述激光二极管杆阵列和所述基板支撑件之间；
均化器，所述均化器设置在所述照明光学器件与所述基板支撑件之间，所述均化器包括：
柱状透镜的第一透镜阵列；和
柱状透镜的第二透镜阵列，所述第二透镜阵列平行于柱状透镜的所述第一透镜阵列设置且与柱状透镜的所述第一透镜阵列间隔开，其中所述第二透镜阵列的至少两个相邻柱状透镜具有比所述第一透镜阵列的至少两个相邻柱状透镜的间距更大的间距，且所述第一透镜阵列的每一个透镜的轴和所述第二透镜阵列的每一个透镜的轴平行于所述快轴定向；和
聚光透镜集合，所述聚光透镜集合沿着所述光学路径设置在所述均化器与所述基板支撑件之间，所述聚光透镜集合包括至少五个球面透镜。
14.如权利要求13所述的设备，其中所述照明光学器件包括：
慢轴透镜集合，所述慢轴透镜集合具有彼此间隔开的至少第一柱状透镜和第二柱状透镜，所述慢轴透镜集合沿着所述慢轴准直激光束辐射；和
快轴透镜集合，所述快轴透镜集合具有彼此间隔开的至少第一柱状透镜和第二柱状透镜，所述快轴透镜集合设置在所述慢轴透镜集合的所述第一柱状透镜与所述第二柱状透镜之间以沿着所述快轴准直激光束辐射。
15.如权利要求14所述的设备，其中所述慢轴透镜集合的所述第一柱状透镜具有面朝所述激光二极管杆阵列的凸透镜表面且所述慢轴透镜集合的所述第二柱状透镜具有面朝所述基板的表面的凸透镜表面，并且所述快轴透镜集合的所述第一柱状透镜具有面朝所述激光二极管杆阵列的凹透镜表面且所述快轴透镜集合的所述第二柱状透镜具有面朝所述基板的所述表面的凸透镜表面。