气体阻隔性层叠膜和波长变换片的制作方法

本发明涉及气体阻隔性层叠膜和波长变换片。

背景技术：

在液晶显示器的背光单元和电致发光发光单元等发光单元中，通过发光体或荧光体与氧或水蒸汽接触而经过长时间，有时作为发光体或荧光体的性能降低。因此，这些发光单元中，常常使用具有在高分子膜中形成了具有气体阻隔性的阻隔层而成的结构的气体阻隔性层叠膜作为发光体或荧光体等的包装材料或保护材料。

例如，国际公开第2002/083408号中公开了：作为用作食品等的包装材料的气体阻隔性层叠膜，在基材上层叠了第1蒸镀薄膜层、气体阻隔性中间层和第2蒸镀薄膜层的层叠体。该层叠体通过具有2个蒸镀薄膜层夹持气体阻隔性中间层而层叠成的结构，从而实现了良好的气体阻隔性。

技术实现要素：

对于作为发光体或荧光体等的包装材料或保护材料使用的气体阻隔性层叠膜，不仅要求气体阻隔性，而且要求高透明性。更具体地说，对于气体阻隔性层叠膜，要求对波长为450nm附近的青色光、波长为550nm附近的绿色光和波长为650nm附近的红色光具有高透射率，特别是作为波长变换片的保护材料使用的情况下，由于主要使用青色led作为进行波长变换的光的光源，因此要求对于青色led的峰值波长即波长为450nm具有高透射率。对于这样的要求，就上述国际公开第2002/083408号中记载的层叠体而言，未必充分地获得了特别是对波长为450nm的光的高透射率。

本发明鉴于上述现有技术所具有的课题而完成的，其目的在于提供能够获得对波长为450nm、550nm和650nm的光的高透射率、特别是对波长为450nm的青色光能够获得高透射率的气体阻隔性层叠膜和使用了该层叠膜的波长变换片。

本发明者们为了实现上述目的反复进行深入了研究，结果本发明者们发现：就上述国际公开第2002/083408号中所记载的层叠体而言，在由金属、无机氧化物等形成的2个蒸镀薄膜层之间发生光学上的薄膜干涉，由此可见光区域的短波长侧即波长为450nm的青色光的透射率降低。而且，本发明者们发现：通过在特定的层构成中控制2个薄膜层间的距离，同时控制设置在该薄膜层间的层的折射率，从而能够使2个薄膜层间的光学上的薄膜干涉减轻。

即，本发明提供一种气体阻隔性层叠膜，其具有：第1阻隔膜，该第1阻隔膜具有第1基材、形成在该第1基材上的第1无机薄膜层和形成在该第1无机薄膜层上的第1气体阻隔性被覆层；以及第2阻隔膜，该第2阻隔膜具有第2基材、形成在该第2基材上的第2无机薄膜层和形成在该第2无机薄膜层上的第2气体阻隔性被覆层，其中，上述第1阻隔膜和上述第2阻隔膜处于以上述第1气体阻隔性被覆层与上述第2气体阻隔性被覆层相对置的方式经由(隔着)粘接层层叠而成的状态，上述第1无机薄膜层与上述第2无机薄膜层之间的距离为1.0μm以上，上述第1气体阻隔性被覆层与上述粘接层的折射率差以及上述第2气体阻隔性被覆层与上述粘接层的折射率差都为0.05以下。

上述气体阻隔性层叠膜通过具有在基材上形成了无机薄膜层和气体阻隔性被覆层而成的2张阻隔膜(第1和第2阻隔膜)经由粘接层贴合而得到的结构，同时使2个无机薄膜层间的距离为1.0μm以上，并且使配置在2个无机薄膜层间的2个气体阻隔性被覆层与粘接层的折射率差为0.05以下，从而能够减轻2个无机薄膜层间的光学上的薄膜干涉，其结果是，能够获得对波长为450nm、550nm和650nm的光的高透射率，特别是对波长为450nm的青色光能够获得高透射率。另外，通过使2个无机薄膜层间的距离为1.0μm以上，即使在粘接层、第1和第2气体阻隔性被覆层的厚度产生了波动的情况下，也能够抑制对波长为450nm的青色光的透射率的波动的产生，对波长为450nm的青色光能够稳定地获得高的透射率。另外，上述气体阻隔性层叠膜通过具有将2张阻隔膜层叠而成的结构，从而能够获得优异的气体阻隔性(水蒸汽阻隔性和氧阻隔性)。

上述气体阻隔性层叠膜中，优选上述第1无机薄膜层与上述第2无机薄膜层之间的距离为20μm以下。通过使距离为20μm以下，能够抑制粘接层变厚而使水蒸汽和氧容易从粘接层端部侵入，能够确保气体阻隔性层叠膜的优异的气体阻隔性。另外，通过使距离为20μm以下，能够抑制材料成本。

本发明还提供一种波长变换片，其具有含荧光体的荧光体层和上述本发明的气体阻隔性层叠膜。该波长变换片由于具有本发明的气体阻隔性层叠膜，因此能够获得对波长为450nm、550nm和650nm的光的高透射率，特别是对波长为450nm的青色光能够获得高透射率。

根据本发明，能够提供能够获得对波长为450nm、550nm和650nm的光的高透射率、特别是对波长为450nm的青色光能够获得高透射率的气体阻隔性层叠膜和使用了该层叠膜的波长变换片。

附图说明

图1为表示本发明的气体阻隔性层叠膜的一个实施方式的截面示意图。

图2为表示本发明的波长变换片的一个实施方式的截面示意图。

图3为表示使用了本发明的波长变换片的背光单元的一个实施方式的截面示意图。

附图标记的说明

1第1阻隔膜、2第2阻隔膜、4粘接层、5消光层、

7荧光体层、8荧光体、9密封树脂、11第1基材、

13第1无机薄膜层、14第1气体阻隔性被覆层、

15第1阻隔层、21第2基材、23第2无机薄膜层、

24第2气体阻隔性被覆层、25第2阻隔层、30led光源、

40导光板、100气体阻隔性层叠膜、200波长变换片、

500背光单元

具体实施方式

以下参照附图对本发明的优选的实施方式详细地说明。需要说明的是，附图中，对同一或相当部分标注同一附图标记，省略重复的说明。另外，附图的尺寸比率并不限于图示的比率。

[气体阻隔性层叠膜]

本实施方式的气体阻隔性层叠膜至少具有：第1阻隔膜，该第1阻隔膜具有第1基材、形成在该第1基材上的第1无机薄膜层和形成在该第1无机薄膜层上的第1气体阻隔性被覆层；第2阻隔膜，该第2阻隔膜具有第2基材、形成在该第2基材上的第2无机薄膜层和形成在该第2无机薄膜层上的第2气体阻隔性被覆层；以及将上述第1阻隔膜与上述第2阻隔膜贴合的粘接层。其中，上述第1阻隔膜和上述第2阻隔膜处于以上述第1气体阻隔性被覆层与上述第2气体阻隔性被覆层相对置的方式经由上述粘接层层叠而成的状态。另外，上述第1无机薄膜层与上述第2无机薄膜层之间的距离为1.0μm以上，上述第1气体阻隔性被覆层与上述粘接层的折射率差以及上述第2气体阻隔性被覆层与上述粘接层的折射率差都为0.05以下。本实施方式的气体阻隔性层叠膜在第1阻隔膜或第2阻隔膜上可还具有消光层。

图1为表示本发明的气体阻隔性层叠膜的一个实施方式的截面示意图。图1中所示的气体阻隔性层叠膜100具有：第1阻隔膜1、第2阻隔膜2、将第1阻隔膜1和第2阻隔膜2贴合的粘接层4、以及形成在第2阻隔膜2上的消光层5。其中，第1阻隔膜1具有第1基材11以及包括第1无机薄膜层13和第1气体阻隔性被覆层14的第1阻隔层15。与其同样地，第2阻隔膜2具有第2基材21以及包括第2无机薄膜层23和第2气体阻隔性被覆层24的第2阻隔层25。第1阻隔膜1和第2阻隔膜2处于以第1气体阻隔性被覆层14与第2气体阻隔性被覆层24相对置的方式经由粘接层4层叠而成的状态。消光层5被设置在第2阻隔膜2的第2基材21上。

在气体阻隔性层叠膜100中，第1无机薄膜层13与第2无机薄膜层23之间的距离d必须为1.0μm以上。距离d可以通过在第1无机薄膜层13与第2无机薄膜层23之间设置的各层的厚度来调节。在气体阻隔性层叠膜100中，第1气体阻隔性被覆层14、第2气体阻隔性被覆层24和粘接层4的厚度的合计就为距离d。通过使距离d为1.0μm以上，能够抑制在第1无机薄膜层13与第2无机薄膜层23之间发生光学上的薄膜干涉，气体阻隔性层叠膜100能够获得对波长为450nm、550nm和650nm的光的高透射率，特别是对波长为450nm的青色光能够获得高透射率。如果距离d不到1.0μm，则在第1无机薄膜层13与第2无机薄膜层23之间容易产生光学上的薄膜干涉，特别是对波长为450nm的青色光的透射率降低。此外，如果距离d低于1.0μm，则因为距离d的很小的波动(即，粘接层4、第1和第2气体阻隔性被覆层14、24的厚度的很小的波动)，就容易发生气体阻隔性层叠膜100对波长为450nm的青色光的透射率的波动，变得难于稳定地获得高透射率。

从进一步减轻薄膜干涉、对波长为450nm的青色光稳定地获得更高的透射率的观点出发，距离d优选为2.0μm以上，更优选为3.0μm以上，进一步优选为5.0μm以上。另一方面，在距离d过大的情况下，气体阻隔性层叠膜100的全体的厚度变厚，同时具有材料成本升高的倾向。另外，在距离d过大的情况下，粘接层4的厚度必然变厚。通常，粘接层4的水蒸汽透过度和氧透过度即使与第1和第2基材11、21比较也非常大，因此如果粘接层4的厚度变厚，则水蒸汽和氧容易从粘接层4的端部侵入，2张阻隔膜的贴合效果(用一个阻隔膜弥补另一个阻隔膜的缺陷的效果)降低，气体阻隔性层叠膜100的气体阻隔性降低。为了抑制这样的问题产生，距离d优选为20μm以下，更优选为15μm以下，进一步优选为10μm以下。通过使距离d为20μm以下，能够抑制材料成本，并且获得良好的气体阻隔性。

在气体阻隔性层叠膜100中，第1气体阻隔性被覆层14与粘接层4的折射率差(δr1)以及第2气体阻隔性被覆层24与粘接层4的折射率差(δr2)都必须为0.05以下。通过折射率差δr1和δr2都为0.05以下，从而能够抑制在第1无机薄膜层13和第2无机薄膜层23之间产生光学上的薄膜干涉，气体阻隔性层叠膜100特别是对波长为450nm的青色光能够获得高的透射率。从进一步提高对波长为450nm的青色光的透射率的观点出发，折射率差δr1和δr2都优选为0.03以下，更优选为0.01以下。折射率差δr1和δr2能够通过粘接层4以及第1和第2气体阻隔性被覆层14、24的材质进行调节。

以下对构成气体阻隔性层叠膜100的各层详细地说明。需要说明的是，在气体阻隔性层叠膜100中，第1基材11的构成与第2基材21的构成、第1无机薄膜层13的构成与第2无机薄膜层23的构成、以及第1气体阻隔性被覆层14的构成与第2气体阻隔性被覆层24的构成彼此可相同也可不同。

(基材)

对第1和第2基材11、21并无特别限定，优选为高分子膜，更优选为全光线透射率为85％以上的高分子膜。作为高分子膜的材质，例如可列举出聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯和聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯；尼龙等聚酰胺；聚丙烯和环烯烃等聚烯烃；聚碳酸酯；以及三乙酰纤维素等，但并不限于这些。高分子膜优选为聚酯膜、聚酰胺膜或聚烯烃膜，更优选为聚酯膜或聚酰胺膜，从透明性、加工适合性和密合性的观点出发，进一步优选为聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。另外，从透明性和气体阻隔性的观点出发，聚对苯二甲酸乙二醇酯膜优选为双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。

高分子膜根据需要可包含抗静电剂、紫外线吸收剂、增塑剂和润滑剂等添加剂。另外，对高分子膜的表面可实施电晕处理、火焰处理和等离子体处理。

对第1和第2基材11、21的厚度并无特别限制，优选为3μm以上且100μm以下，更优选为5μm以上且50μm以下。如果该厚度为3μm以上，则容易进行加工；如果该厚度为100μm以下，则能够使气体阻隔性层叠膜100的总厚变薄。

(无机薄膜层)

第1和第2无机薄膜层13、23例如可以采用真空蒸镀法、溅射法或等离子体cvd(pecvd)法形成。作为真空蒸镀法，更优选电阻加热式真空蒸镀法、电子束(electronbeam)加热式真空蒸镀法、感应加热式真空蒸镀法；作为溅射法，更优选反应性溅射法、双靶磁控溅射法。从膜的均质性的观点出发，优选溅射法，从成本的观点出发，优选真空蒸镀法，可以根据目的、用途进行选择。

作为溅射法和pecvd法中的等离子体的生成方法，可以列举出dc(直流；directcurrent)方式、rf(射频；radiofrequency)方式、mf(中频；middlefrequency)方式、dc脉冲方式、rf脉冲方式和dc+rf重叠方式等。

就真空成膜而言，通常形成金属或者硅等的氧化物、氮化物或氮化氧化物等的膜。作为第1和第2无机薄膜层13、23，优选铝、钛、铜、铟、锡等金属或者它们的氧化物(氧化铝等)、或者硅、硅氧化物的膜。另外，不仅可形成金属、硅的氧化物的膜，而且可形成金属、硅的氮化物、氮化氧化物的膜。另外，可形成包含多种金属的膜。上述的铝、钛、铜、铟、硅的氧化物、氮化物、氮化氧化物的透明性和阻隔性这两者优异。包含硅的氧化物、氮化氧化物的阻隔性高，因而特别优选。

通过真空成膜形成的第1和第2无机薄膜层13、23的厚度优选为5nm以上且100nm以下。如果第1和第2无机薄膜层13、23的厚度为5nm以上，则具有能够获得更良好的阻隔性的倾向。另外，如果第1和第2无机薄膜层13、23的厚度为100nm以下，则具有下述倾向：能够抑制裂纹的产生、抑制裂纹引起的水蒸汽阻隔性和氧阻隔性的降低。进而，如果第1和第2无机薄膜层13、23的厚度为100nm以下，由于材料使用量的减少和膜形成时间的缩短等，从而能够减少成本，因此从经济的观点出发是优选的。

(气体阻隔性被覆层)

第1和第2气体阻隔性被覆层14、24是为了防止后工序中的二次的各种损伤并且赋予高的阻隔性而设置的。第1和第2气体阻隔性被覆层14、24可含有硅氧烷键。第1和第2气体阻隔性被覆层14、24可以是在大气中形成的，也可以是在真空中形成的。在大气中形成第1和第2气体阻隔性被覆层14、24的情况下，例如可以通过方法来形成：将含有聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮、乙烯-乙烯醇这样的具有极性的化合物、聚偏氯乙烯等含氯的化合物、以及含有si原子的化合物、含有ti原子的化合物、含有al原子的化合物、含有zr原子的化合物等的涂布液涂布在第1和第2无机薄膜层13、23上，使其干燥固化。

作为在大气中形成第1和第2气体阻隔性被覆层14、24时的涂布液的涂布方法，具体地说，可列举出采用凹版涂布机、浸渍涂布机、反转涂布机、绕线棒涂布机和模压涂布机等进行的涂布方法。

含有硅氧烷键的化合物优选是例如使用硅烷化合物、使硅烷醇基反应而形成。作为这样的硅烷化合物，可列举出由下述式(1)表示的化合物。

r¹n(or²)4-nsi(1)

[式中，n表示0～3的整数，r¹和r²各自独立地表示烃基，优选地表示碳数1～4的烷基。]

作为由上述式(1)表示的化合物，例如可列举出四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、四丁氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷和二甲基二乙氧基硅烷等。可使用含有氮的聚硅氮烷。

另外，在第1和第2气体阻隔性被覆层14、24中，可使用由包含其他金属原子的前体制作的材料。作为包含ti原子的化合物，例如可列举出由下述式(2)表示的化合物。

r¹n(or²)4-nti(2)

[式中，n表示0～3的整数，r¹和r²各自独立地表示烃基，优选地表示碳数1～4的烷基。]

作为由上述式(2)表示的化合物，例如可列举出四甲氧基钛、四乙氧基钛、四异丙氧基钛和四丁氧基钛等。

作为包含al原子的化合物，例如可列举出由下述式(3)表示的化合物。

r¹m(or²)3-mal(3)

[式中，m表示0～2的整数，r¹和r²各自独立地表示烃基，优选地表示碳数1～4的烷基。]

作为由上述式(3)表示的化合物，例如可列举出三甲氧基铝、三乙氧基铝、三异丙氧基铝和三丁氧基铝等。

作为包含zr原子的化合物，例如可列举出由下述式(4)表示的化合物。

r¹n(or²)4-nzr(4)

[式中，n表示0～3的整数，r¹和r²各自独立地表示烃基，优选地表示碳数1～4的烷基。]

作为由上述式(4)表示的化合物，例如可列举出四甲氧基锆、四乙氧基锆、四异丙氧基锆和四丁氧基锆等。

在大气中形成第1和第2气体阻隔性被覆层14、24的情况下，将上述涂布液涂布后会固化。作为固化方法，并无特别限定，可列举出紫外线固化和热固化等。在紫外线固化的情况下，涂布液可包含聚合引发剂和具有双键的化合物。另外，根据需要也可进行加热熟化。

作为在大气中形成第1和第2气体阻隔性被覆层14、24的另外的方法，也可以采用如下的方法：将通过镁、钙、锌、铝、硅、钛、锆等无机氧化物的粒子彼此之间经由来自于磷化合物的磷原子进行脱水缩合而得到的反应产物作为气体阻隔性被覆层。具体地说，在无机氧化物的表面存在的官能团(例如羟基)和可与无机氧化物反应的磷化合物的部位(例如与磷原子直接键合的卤素原子、与磷原子直接键合的氧原子)发生缩合反应而键合。反应产物例如通过下述步骤来得到：将包含无机氧化物和磷化合物的涂布液涂布于第1和第2无机薄膜层13、23的表面上，对形成的涂膜进行热处理，从而无机氧化物的粒子彼此之间进行经由来自于磷化合物的磷原子键合的反应。热处理的温度的下限为110℃以上，优选为120℃以上，更优选为140℃以上，进一步优选为170℃以上。如果热处理温度低，则变得难于获得充分的反应速度，成为生产率降低的原因。热处理的温度的优选的上限因基材的种类等而异，但为220℃以下，优选为190℃以下。热处理能够在空气中、氮气氛下或氩气氛下等实施。

在大气中形成第1和第2气体阻隔性被覆层14、24的情况下，上述涂布液可进一步包含树脂，只要没有凝聚等就行。作为上述树脂，具体地说，可列举出丙烯酸系树脂、聚酯树脂等。上述涂布液优选包含这些树脂之中与涂布液中的其他材料的相容性高的树脂。

上述涂布液根据需要可进一步包含填料、流平剂、消泡剂、紫外线吸收剂、抗氧化剂、以及硅烷偶联剂和钛螯合剂等。

在大气中形成的第1和第2气体阻隔性被覆层14、24的厚度以固化后的膜厚计优选为50nm～2000nm，更优选为100nm～1000nm。如果在大气中形成的第1和第2气体阻隔性被覆层14、24的厚度为50nm以上，则有膜形成变得容易进行的倾向。如果在大气中形成的第1和第2气体阻隔性被覆层14、24的厚度为2000nm以下，则有能够抑制开裂或卷曲的倾向。

第1和第2气体阻隔性被覆层14、24的折射率只要为与粘接层4的折射率差δr1和δr2都成为0.05以下的值就行，并无特别限定，从其材质等出发，优选为1.40～1.60。

(粘接层)

如图1中所示那样，粘接层4为了将第1阻隔膜1与第2阻隔膜2贴合层叠而设置于第1阻隔膜1与第2阻隔膜2之间。作为粘接层4，可以使用作为高分子膜用的粘接剂或粘合剂一般采用的那些，根据第1阻隔膜1和第2阻隔膜2的贴合侧的表面来适当地选择。作为粘接层4的材料的候选者，可列举出环氧系、聚酯系、丙烯酸系、橡胶系、酚醛系和聚氨酯系等的粘接剂或粘合剂。

作为粘接剂或粘合剂的涂布方法，可列举出采用凹版涂布机、浸渍涂布机、反转涂布机、绕线棒涂布机和模压涂布机等的涂布方法。

粘接层4的厚度优选为0.5μm以上且20μm以下。通过粘接层4的厚度为0.5μm以上，从而具有获得充分的粘接性的倾向，并且具有容易使第1和第2无机薄膜层13、23间的距离d成为1.0μm以上的倾向，通过为20μm以下，能够使气体阻隔性层叠膜100的总厚变薄，并且具有能够抑制成本上升的倾向。另外，通过粘接层4的厚度为20μm以下，从而能够抑制水蒸汽和氧从粘接层4的端部侵入，能够抑制气体阻隔性层叠膜100的气体阻隔性降低。

另外，经由粘接层4将第1阻隔膜1和第2阻隔膜2贴合后，能够进行熟化。熟化例如在20～80℃下进行1～10天。

粘接层4的折射率只要为与第1和第2气体阻隔性被覆层14、24的折射率差δr1和δr2都成为0.05以下的值就行，并无特别限定，从容易使折射率差δr1和δr2减小出发，优选为1.40～1.60，最优选为与第1和第2气体阻隔性被覆层14、24的折射率同等的值。

为了调节折射率，粘接层4可含有微粒。关于微粒，作为低折射率调节剂，可列举出多孔二氧化硅微粒、中空二氧化硅，作为高折射率调节剂，可列举出氧化锆微粒、二氧化钛微粒等。这些可以单独地使用1种或者将2种以上组合使用。从维持充分的粘接性的观点出发，微粒的含量以粘接层4总量为基准计优选为25质量％以下。从维持充分的粘接性并且获得充分的折射率调节功能的观点出发，微粒的平均粒径优选为0.5nm以上且200nm以下。通过适当地调节含有的微粒的种类、含量，可以将粘接层4的折射率调节到所期望的值(例如折射率1.40～1.60)。

粘接层4根据需要可包含固化剂、抗静电剂、硅烷偶联剂、紫外线吸收剂、抗氧化剂、流平剂和分散剂等。

(消光层)

为了发挥1种以上的光学功能、抗静电功能，消光层5被设置在第2阻隔膜2的第2基材21表面。其中，作为光学功能，并无特别限定，可列举出防干涉条纹(莫尔条纹)功能、防反射功能、漫射功能等。这些之中，消光层5作为光学功能优选至少具有防干涉条纹功能。本实施方式中，对于消光层5至少具有防干涉条纹功能的情形进行说明。

消光层5可包含粘结剂树脂和微粒而构成。而且，通过以微粒的一部分从消光层5的表面露出的方式将微粒埋入粘结剂树脂中，从而可在消光层5的表面产生微细的凹凸。通过将这样的消光层5设置于气体阻隔性层叠膜的表面，能够更为充分地防止牛顿环等干涉条纹的产生，结果可以得到高效率且高精细、长寿命的发光器件。

作为粘结剂树脂，并无特别限定，可以使用光学透明性优异的树脂。更具体地说，例如可以使用聚酯系树脂、丙烯酸系树脂、丙烯酸氨基甲酸酯系树脂、聚酯丙烯酸酯系树脂、聚氨酯丙烯酸酯系树脂、聚氨酯系树脂、环氧系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、三聚氰胺系树脂、酚醛系树脂等热塑性树脂、热固化性树脂、电离放射线固化性树脂等。另外，除了有机树脂以外，也可以使用二氧化硅粘结剂。这些树脂之中，从材料的范围广这一点出发，优选使用丙烯酸系树脂、聚氨酯系树脂，从耐光性、光学特性优异出发，更优选使用丙烯酸系树脂。这些树脂不仅可以使用1种，而且可以将多种组合使用。

作为微粒，并无特别限定，例如，可以使用二氧化硅、粘土、滑石、碳酸钙、硫酸钙、硫酸钡、氧化钛、氧化铝等无机微粒，除此以外还可以使用苯乙烯树脂、聚氨酯树脂、硅氧烷树脂、丙烯酸系树脂、聚酰胺树脂等的有机微粒。这些之中，作为微粒，从光透射率来看优选使用由二氧化硅、丙烯酸系树脂、聚氨酯树脂、聚酰胺树脂等制成的折射率为1.40～1.55的微粒。折射率低的微粒的价格高，而折射率过高的微粒具有损害光透射率的倾向。这些微粒不仅可以使用1种，而且可以将多种组合使用。

微粒的平均粒径优选为0.1～30μm，更优选为0.5～10μm。如果微粒的平均粒径为0.1μm以上，则具有获得优异的防干涉条纹功能的倾向；如果微粒的平均粒径为30μm以下，则具有透明性进一步提高的倾向。

消光层5中的微粒的含量以消光层5总量为基准计优选为0.5～30质量％，更优选为3～10质量％。如果微粒的含量为0.5质量％以上，则具有光漫射功能和防止干涉条纹的产生的效果进一步提高的倾向；如果微粒的含量为30质量％以下，则不会使亮度降低。

消光层5可以通过将包含上述的粘结剂树脂和微粒的涂布液涂布在第1阻隔膜1或第2阻隔膜2的表面上、使其干燥固化来形成。作为涂布方法，可列举出采用凹版涂布机、浸渍涂布机、反转涂布机、绕线棒涂布机和模压涂布机等的涂布方法。

消光层5的厚度优选为0.1～20μm，更优选为0.3～10μm。通过消光层5的厚度为0.1μm以上，具有容易获得均匀的膜、容易充分地获得光学功能的倾向。另一方面，通过消光层5的厚度为20μm以下，在消光层5中使用了微粒的情况下，具有下述倾向：微粒向消光层5的表面露出、从而容易获得赋予了凹凸的效果。

[波长变换片]

图2为表示本发明的波长变换片的一个实施方式的截面示意图。图2中所示的波长变换片含有量子点等荧光体，例如作为led波长变换用，是能够在背光单元中使用的波长变换片。

图2中所示的波长变换片200具有含荧光体的荧光体层(波长变换层)7以及分别设置在荧光体层7的一面7a侧和另一面7b侧的气体阻隔性层叠膜100、100来概略地构成。由此，成为了下述结构：在气体阻隔性层叠膜100、100之间包入了(即封入了)荧光体层7。其中，对于荧光体层7，由于需要赋予阻隔性，因此优选成为通过一对气体阻隔性层叠膜100、100将荧光体层7夹持的构成。以下对构成波长变换片200的各层详细地说明。

(气体阻隔性层叠膜)

作为气体阻隔性层叠膜100、100，可以使用图1中所示的气体阻隔性层叠膜100。在波长变换片200中，在荧光体层7的一面7a侧配置的气体阻隔性层叠膜100与在另一面7b侧配置的气体阻隔性层叠膜100可以相同，也可不同。

(荧光体层)

荧光体层7为包含密封树脂9和荧光体8的数十～数百μm的厚度的薄膜。作为密封树脂9，例如可以使用感光性树脂或热固化性树脂。以在密封树脂9的内部混合了1种以上荧光体8的状态进行密封。密封树脂9在将荧光体层7与一对气体阻隔性层叠膜100、100层叠时起到在将它们接合并且将它们的空隙填埋的作用。另外，荧光体层7也可以是将2层以上的只密封了1种荧光体8的荧光体层层叠而成的。就这些1层或2层以上的荧光体层中使用的2种以上的荧光体8而言，选择激发波长相同的荧光体。该激发波长基于led光源照射的光的波长来选择。2种以上的荧光体8的荧光色彼此不同。在使用青色led(峰值波长为450nm)作为led光源的同时使用2种荧光体8的情况下，各荧光色优选为红色、绿色。各荧光的波长和led光源照射的光的波长基于滤色器的分光特性来选择。就荧光的峰值波长而言，例如红色为650nm，绿色为550nm。

接下来，对荧光体8的粒子结构进行说明。作为荧光体8，优选使用色纯度高、能够期待亮度的提高的量子点。作为量子点，例如可列举出作为发光部的核由作为保护膜的壳被覆而成的量子点。作为上述核，例如可列举出硒化镉(cdse)等；作为上述壳，例如可列举出硫化锌(zns)等。通过cdse的粒子的表面缺陷被带隙大的zns被覆，从而量子效率提高。另外，荧光体8也可以是核由第1壳和第2壳双重被覆的。这种情况下，对于核，可以使用cdse；对于第1壳，可以使用硒化锌(znse)；对于第2壳，可以使用zns。另外，作为量子点以外的荧光体8，也可以使用yag：ce等。

上述荧光体8的平均粒径优选为1～20nm。另外，荧光体层7的厚度优选为1～500μm。

荧光体层7中的荧光体8的含量以荧光体层7总量为基准计优选为1～20质量％，更优选为3～10质量％。

作为密封树脂9，例如，可以使用热塑性树脂、热固化性树脂和紫外线固化型树脂等。这些树脂可以单独地使用1种或者将2种以上组合使用。

作为热塑性树脂，例如可以使用乙酰纤维素、硝基纤维素、乙酰基丁基纤维素、乙基纤维素和甲基纤维素等纤维素衍生物；醋酸乙烯酯及其共聚物、氯乙烯及其共聚物、以及偏氯乙烯及其共聚物等乙烯基系树脂；聚乙烯醇缩甲醛和聚乙烯醇缩丁醛等缩醛树脂；丙烯酸系树脂及其共聚物、甲基丙烯酸系树脂及其共聚物等丙烯酸系树脂；聚苯乙烯树脂；聚酰胺树脂；线状聚酯树脂；氟树脂；以及聚碳酸酯树脂等。

作为热固化性树脂，可列举出酚醛树脂、脲-三聚氰胺树脂、聚酯树脂和硅氧烷树脂等。

作为紫外线固化型树脂，可列举出环氧丙烯酸酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯和聚酯丙烯酸酯等光聚合性预聚物。另外，也可以以这些光聚合性预聚物作为主成分，使用单官能、多官能的单体作为稀释剂。

[背光单元]

图3中示出背光单元的一个实施方式。本实施方式的背光单元500具有led(发光二极管)光源30、导光板40和波长变换片200。另外，虽然图中省略了，但背光单元500可具有反射板、漫射板、棱镜片等。

将led光源30设置在导光板40的侧面，在导光板40上(光的行进方向)配置波长变换片200。在led光源30的内部设置了多个发光色为青色的led元件。该led元件可以为紫色led或者更低波长的led。led光源面向导光板侧面照射光。在使用了本实施方式的波长变换片200的背光单元的情况下，该照射的光例如经过导光板而射入将丙烯酸系、环氧等的树脂和荧光体混合而成的层(荧光体层)7。

导光板40高效率地传导从led光源30照射的光，使用公知的材料。作为导光板40，例如，使用丙烯酸系膜、聚碳酸酯膜和环烯烃膜等。导光板40例如可以通过丝网印刷方式、注塑成型、挤出成型等成型方式、喷墨方式等形成。导光板40的厚度例如为100～1000μm。

以上对本发明的优选的实施方式详细地进行了说明，但本发明的技术范围并不限于上述实施方式，可在不脱离本发明的主旨的范围内进行各种变更。例如，上述的气体阻隔性层叠膜100的构成、波长变换片200的构成以及背光单元500的构成是一个例子，并不限于此。

另外，图1中所示的气体阻隔性层叠膜100具有2张阻隔膜(第1和第2阻隔膜1、2)，但本发明的气体阻隔性层叠膜也可进一步具有1张以上的第1和第2阻隔膜1、2以外的另外的阻隔膜。在这种情况下，虽然并无特别限定，但从抑制多个无机薄膜层间的光学上的薄膜干涉的发生、从而充分地获得本发明的效果的观点出发，优选另外的阻隔膜的无机薄膜层和与其相邻的第1无机薄膜层13或第2无机薄膜层23的距离也为1.0μm以上。即，在气体阻隔性层叠膜中含有3个以上的无机薄膜层的情况下，从充分地获得本发明的效果的观点出发，优选全部的相邻的无机薄膜层间的距离为1.0μm以上。

另外，在图1中所示的气体阻隔性层叠膜100中，为了提高基材与无机薄膜层的密合性，可在第1基材11与第1无机薄膜层13之间以及第2基材21与第2无机薄膜层23之间设置锚定涂层。锚定涂层可具有防止水分、氧的透过的阻隔性。

锚定涂层例如可以使用选自聚酯树脂、异氰酸酯树脂、聚氨酯树脂、丙烯酸系树脂、聚乙烯醇树脂、乙烯-乙烯醇树脂、乙烯基改性树脂、环氧树脂、含有噁唑啉基的树脂、改性苯乙烯树脂、改性硅氧烷树脂或钛酸烷基酯等中的树脂形成。锚定涂层可以单独使用上述的树脂或者使用将2种以上的上述树脂组合而成的复合树脂形成。

锚定涂层可以通过将包含上述的树脂的溶液涂布在第1和第2基材11、21上，使其干燥固化来形成。作为涂布方法，可列举出采用凹版涂布机、浸渍涂布机、反转涂布机、绕线棒涂布机和模压涂布机等的涂布方法。

锚定涂层的厚度优选设为5～500nm的范围内，更优选设为10～100nm的范围内。其中，如果厚度为5nm以上，则具有下述的倾向：第1和第2基材11、21与第1和第2无机薄膜层13、23之间的密合性以及对于水分、氧的阻隔性提高；如果厚度为500nm以下，具有能够形成内部应力得到了充分抑制的均匀的层的倾向。

另外，在图2中所示的波长变换片200中，示出了2张气体阻隔性层叠膜都为具有图1中所示的本发明的构成的气体阻隔性层叠膜100的情形，但任一方的气体阻隔性层叠膜可不具有本发明的构成。需要说明的是，在这种情况下，从容易透过来自led光源的青色光出发，优选在led光源和导光板侧配置的气体阻隔性层叠膜为具有图1中所示的本发明的构成的气体阻隔性层叠膜100。

另外，在图2中所示的波长变换片200中，在两个面设置了消光层5，但也可只在单个面设置消光层5。

另外，在图2中所示的波长变换片200中，为了提高气体阻隔性层叠膜100、100与荧光体层7的粘接性，可对气体阻隔性层叠膜100、100的与荧光体层7相接触的一侧的面实施改性处理或者设置由聚氨酯树脂等制成的易粘接层。

进而，在图2中所示的波长变换片200中，荧光体层7的两端面(未被气体阻隔性层叠膜100、100被覆的图中的左右的端面)可用密封树脂密封，也可用密封树脂将荧光体层7整体覆盖。

需要说明的是，本发明的气体阻隔性层叠膜不限于波长变换片的保护膜，也能够用作电致发光发光单元、以及太阳能电池等的产业材料的基材(保护膜)。

实施例

以下基于实施例和比较例对本发明更具体地说明，但本发明并不限于以下的实施例。

(实施例1)

作为第1基材，准备了厚23μm的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)膜。使用电子束加热式的真空蒸镀装置，在1.5×10^-2pa的压力下通过电子束加热使氧化硅材料(canonoptolonco.,ltd.制造)蒸发，在上述pet膜上形成了厚30nm的氧化硅层作为第1无机薄膜层。需要说明的是，蒸镀中的加速电压为40kv，发射电流为0.2a。

在该第1无机薄膜层上采用棒涂法涂布将四乙氧基硅烷的水解物和聚乙烯醇以质量比1:1混合而成的涂布液，在120℃下使其干燥固化1分钟，形成了厚300nm的第1气体阻隔性被覆层。由此，得到了包括第1基材、第1无机薄膜层和第1气体阻隔性被覆层的第1阻隔膜。

另外，采用与上述第1阻隔膜同样的方法，制作了包括第2基材(厚23μm)、第2无机薄膜层(厚30nm)和第2气体阻隔性被覆层(厚300nm)的第2阻隔膜。

接下来，在第1阻隔膜的第1气体阻隔性被覆层上涂布粘接剂而形成粘接层，将第2阻隔膜的第2气体阻隔性被覆层侧的面贴合于该粘接层而制成层叠体。粘接层是将在以丙烯酸系共聚物溶液为主剂的粘合剂用涂布液(saiden化学株式会社制造)中混合了异氰酸酯系固化剂(三井化学株式会社制造、商品名：d-110n)而成的丙烯酸系粘合剂涂布液涂布并加热干燥而得到的。粘接层的固化后的厚度为5.0μm。

接下来，在第2阻隔膜的第2基材上采用湿涂法涂布包含丙烯酸系树脂和二氧化硅微粒(平均粒径为3μm)的涂布液，形成了3μm的厚度的消光层。由此得到了具有与图1中所示的构成同样的构成的气体阻隔性层叠膜。

(实施例2)

除了调节粘接剂的涂布量而使粘接层的固化后的厚度成为3.0μm以外，与实施例1同样地操作而得到了气体阻隔性层叠膜。

(实施例3)

除了调节粘接剂的涂布量而使粘接层的固化后的厚度成为9.0μm以外，与实施例1同样地操作而得到了气体阻隔性层叠膜。

(实施例4)

除了作为粘接剂使用在实施例1中所用的丙烯酸系粘合剂涂布液中添加了多孔二氧化硅微粒分散液而成的产物，进行调节以使得粘接层的折射率成为1.45以外，与实施例1同样地操作而得到了气体阻隔性层叠膜。

(实施例5)

除了作为粘接剂使用在实施例1中所用的丙烯酸系粘合剂涂布液中添加了氧化锆微粒分散液而成的产物，进行调节以使得粘接层的折射率成为1.55以外，与实施例1同样地操作而得到了气体阻隔性层叠膜。

(比较例1)

作为基材，准备了厚23μm的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)膜。使用电子束加热式的真空蒸镀装置，在1.5×10^-2pa的压力下通过电子束加热使氧化硅材料(canonoptolonco.,ltd.制造)蒸发，在上述pet膜上形成了厚30nm的氧化硅层作为无机薄膜层。需要说明的是，蒸镀中的加速电压为40kv，发射电流为0.2a。

在该无机薄膜层上采用棒涂法涂布将四乙氧基硅烷的水解物和聚乙烯醇以质量比1:1混合而成的涂布液，在120℃下使其干燥固化1分钟，形成了厚300nm的气体阻隔性被覆层。

在该气体阻隔性被覆层上，采用与上述同样的方法形成厚30nm的氧化硅层作为无机薄膜层，进而在该无机薄膜层上，采用与上述同样的方法形成了厚300nm的气体阻隔性被覆层。由此，得到了包括基材、无机薄膜层、气体阻隔性被覆层、无机薄膜层和气体阻隔性被覆层的第1阻隔膜。

接下来，在第1阻隔膜的气体阻隔性被覆层上涂布粘接剂而制成粘接层，将作为第2膜的厚16μm的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)膜贴合于该粘接层，在40℃下实施了2天熟化。作为粘接剂，使用了与实施例1中使用的粘接剂同样的粘接剂。粘接层的固化后的厚度为5.0μm。

接下来，在第2膜上采用湿涂法涂布包含丙烯酸系树脂和二氧化硅微粒(平均粒径为3μm)的涂布液，形成了3μm的厚度的消光层。由此得到了气体阻隔性层叠膜。

(比较例2)

除了调节粘接剂的涂布量而使粘接层的固化后的厚度成为0.3μm以外，与实施例1同样地操作而得到了气体阻隔性层叠膜。

(比较例3)

除了作为粘接剂使用在实施例1中所用的丙烯酸系粘合剂涂布液中添加了多孔二氧化硅微粒分散液而成的产物，进行调节以使得粘接层的折射率成为1.40以外，与实施例1同样地操作而得到了气体阻隔性层叠膜。

(比较例4)

除了作为粘接剂使用在实施例1中所用的丙烯酸系粘合剂涂布液中添加了氧化锆微粒分散液而成的产物，进行调节以使得粘接层的折射率成为1.60以外，与实施例1同样地操作而得到了气体阻隔性层叠膜。

<折射率的测定>

实施例和比较例中制作的气体阻隔性层叠膜中的粘接层和气体阻隔性被覆层的折射率通过形成各层而限定了厚度后，对于分光反射率曲线进行光学模拟而求出。需要说明的是，实施例1～5和比较例2～4中，第1气体阻隔性被覆层与第2气体阻隔性被覆层的折射率相同。另外，比较例1中，测定了与粘接层相邻的气体阻隔性被覆层的折射率。另外，使用折射率的测定结果，求出了粘接层与气体阻隔性被覆层的折射率差。将结果示于表1中。

<光透射率的测定>

实施例和比较例中制作的气体阻隔性层叠膜的光透射率是使用分光光度计(商品名，shimazuuv-2450)，在波长为450nm、550nm和650nm下测定。在测定时，从气体阻隔性层叠膜的与消光层相反侧(pet膜侧)的面照射了测定光。其中，最重要的透射率为波长为450nm的青色光的透射率，优选其值为85.0％以上。将结果示于表1中。

表1

如由表1中所示的结果可知那样，确认了2个无机薄膜层间的距离d为1.0μm以上、并且粘接层与气体阻隔性被覆层的折射率差为0.05以下的实施例1～5的气体阻隔性层叠膜与不满足上述条件的比较例1～4的气体阻隔性层叠膜相比，具有良好的光透射率，特别是对于450nm的青色光具有85.0％以上的高透射率。

产业上的可利用性

本发明的气体阻隔性层叠膜能够适合用作在液晶显示器的背光单元中使用的含有发光体的波长变换片、特别是含有量子点发光体的波长变换片、电致发光发光单元以及太阳能电池等的产业材料的基材。