一种显示面板和显示设备的制作方法

本实用新型实施例涉及通信技术领域，尤其涉及一种显示面板和显示设备。

背景技术：

当前的主动发光显示器件的裸眼3D显示技术，大多采用前置柱状透镜(柱状透镜设置在像素的前面)的方式实现裸眼3D显示。

在像素前采用前置柱状透镜的方式实现裸眼3D显示的原理如图1所示，透过标记为Left的像素的光线经过与该像素对应的透镜折射后，射入观察者的左眼，同时透过标记为Right的像素的光线经过相应透镜折射后，射入观察者的右眼。这样，从而使观察者左眼看到的图像与右眼看到的图像分离，左眼图像和右眼图像经人的大脑的处理，使观察者感受到3D立体画面。

前置柱状透镜裸眼3D显示方式与其他裸眼3D显示方式相比，柱状透镜方式亮度损失少，但是对位精度不高。通常采用薄膜挤压方式制备柱状透镜，先在软衬底上制备柱状透镜，然后在将软衬底与显示面板贴合，这种软衬底上的柱状透镜的圆弧形状在制备过程中较难控制，而且软衬底上的柱状透镜容易受温度或应力等因素的影响发生变形，发生变形的柱状透镜与显示像素之间的对位关系发生偏差，降低柱状透镜与显示像素的对位精度，进而影响3D显示器件的3D显示效果。

综上，现有技术中存在着柱状透镜与显示像素的对位精度不容易控制的技术问题。

技术实现要素：

本实用新型实施例提供一种显示面板和显示设备，用以解决现有前置柱状透镜3D显示技术中存在的柱状透镜与显示像素的对位精度不容易控制的技术 问题。

本实用新型实施例提供一种显示面板，包括：

透镜模组和显示模组，所述透镜模组与所述显示模组满足预先设置的对位关系，所述透镜模组是对具有设定图形的透明介质层进行烘烤之后形成的；

其中，所述透镜模组形成于第一基底的上表面，所述显示模组形成于第二基底的上表面；所述第一基底与所述第二基底叠置且所述第一基底设置在所述第二基底上方。

进一步地，所述具有设定图形的透明介质层为一系列平行排列的条形介质；

所述各个条形介质是采用掩膜板对所述第一基底上的透明介质层进行光刻后得到的；

所述各个条形介质的宽度，相邻条形介质之间的间隙，以及所述各个条形介质在所述第一基底上的位置，是根据预先设置的所述透镜模组与所述显示模组之间的对位关系确定的。

进一步地，所述透镜模组包括一系列平行排列的柱状透镜，所述各个平行排列的柱状透镜的表面形状为沿远离所述第一基底的方向凸起的弧形，所述柱状透镜是所述各个条形介质在一定温度下烘烤后变形得到的。

进一步地，所述第一基底为叠置于所述第二基底上方的彩膜玻璃或封装玻璃，或封装薄膜。

进一步地，所述显示面板包括第三基底，所述第三基底叠置在所述第二基底上方；

所述第一基底为硬质玻璃，所述硬质玻璃叠置于所述第三基底上方。

进一步地，所述第一基底的上表面未形成所述透镜模组的区域，以及所述透镜模组的上表面涂覆有透明保护层。

进一步地，所述透明保护层的上表面包括遮挡图形，所述遮挡图形至少覆盖所述第一基底的上表面未形成所述透镜模组的区域，以减少杂散光对所述透镜模组的影响。

进一步地，所述第一基底的上表面包括遮挡图形，所述遮挡图形至少覆盖所述第一基底的上表面未形成所述透镜模组的区域，以减少杂散光对所述透镜模组的影响。

进一步地，所述遮挡图形以及所述透镜模组的上表面涂覆有透明保护层。

本实用新型实施例还提供一种显示设备，包括上述显示面板。

上述实施例中，透镜模组是对具有设定图形的透明介质层进行烘烤之后得到的，对具有设定图形的透明介质层进行烘烤之后，具有设定图形的透明介质层烘烤后发生变形，具有设定图形的透明介质层变形后的宽度、位置和形状由烘烤工艺精确控制，进而保证了透镜模组与显示模组的对位精度。其中，设定图形可预先根据透镜模组与显示模组的对位关系确定，具有设定图形的透明介质层变形后的宽度和位置、表面形状、曲率半径，厚度等都可以通过烘烤工艺参数得以精确控制，这样，基于预先设置的显示模组和透镜模组的对位关系，结合烘烤工艺得到的第一基底上表面的透镜模组，将第一基底叠置于第二基底之后，使得透镜模组与第二基底上的显示模组满足预先设置的对位关系，进而保证了透镜模组与显示模组的对位精度。

附图说明

图1为现有技术中的一种基于柱状透镜的3D显示设备的光路示意图；

图2为本实用新型实施例提供的一种显示面板的制备方法流程图；

图3为本实用新型实施例提供的一种显示模组与透镜模组的对位关系的示意图；

图4为本实用新型实施例提供的一种显示面板的制备方法流程图；

图5至图9为本实用新型实施例提供的显示面板的制备方法所对应的结构示意图；

图10为本实用新型实施例提供的一种显示面板的制备方法流程图；

图11至图16为本实用新型实施例提供的与图10示意的显示面板的制备 方法流程所对应的结构示意图。

具体实施方式

现有技术采用的薄膜挤压式制备透镜模组的方法只能在软衬底上制备，并且在软衬底上采用薄膜挤压式制备透镜模组智能粗略的控制透镜模组在软衬底上的位置、以及形状。而且软衬底上的透镜模组不稳定，容易随温度、应力等因素产生变形，进而影响透镜模组与显示模组的对位精度。

为了解决现有前置柱状透镜3D显示技术中存在的柱状透镜与显示像素的对位精度不容易控制的技术问题。本实用新型实施例提供了一种显示面板、显示设备及其制备方法。在本实用新型实施例提供的显示面板的制备方法中，第一基底的上表面形成透镜模组，第二基底的上表面形成显示模组。

透镜模组是对具有设定图形的透明介质层进行烘烤之后得到的，对具有设定图形的透明介质层进行烘烤之后，具有设定图形的透明介质层烘烤后发生变形，具有设定图形的透明介质层变形后的宽度、位置和形状由烘烤工艺精确控制，进而保证了透镜模组与显示模组的对位精度。其中，设定图形可预先根据透镜模组与显示模组的对位关系确定，具有设定图形的透明介质层变形后的宽度和位置、表面形状、曲率半径，厚度等都可以通过烘烤工艺参数得以精确控制，这样，基于预先设置的显示模组和透镜模组的对位关系，结合烘烤工艺得到的第一基底上表面的透镜模组，将第一基底叠置于第二基底之后，使得透镜模组与第二基底上的显示模组满足预先设置的对位关系，进而保证了透镜模组与显示模组的对位精度。

为了使本实用新型所解决的技术问题、技术方案以及有效果更加清楚明白，以下结合说明书附图对本实用新型的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。并且在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

本实用新型实施例提供一种显示面板，包括：上述实施例中的透镜模组和显示模组，透镜模组与显示模组满足预先设置的对位关系，透镜模组是对第一基底上表面的具有设定图形的透明介质层进行烘烤之后形成的；其中，透镜模组形成于第一基底的上表面，显示模组形成于第二基底的上表面；第一基底叠置于第二基底上方。

一种优选的实施例中，所述第一基底为叠置于所述第二基底上方的彩膜玻璃或封装玻璃，或封装薄膜。

可选的，显示面板包括如下结构：第一基底和第二基底，第一基底叠置在第二基底的上方。其中，第一基底为覆盖在显示模组上方的彩膜玻璃，透镜模组形成于彩膜玻璃的上表面。第二基底为TFT阵列基板，显示模组形成于TFT阵列基板的上表面。第一基底上表面的透镜模组与第二基底上表面的显示模组满足预先设置的对位关系。

可选的，显示面板包括如下结构：第一基底和第二基底，第一基底叠置在第二基底的上方。第一基底为覆盖在显示模组上方的封装玻璃，透镜模组形成于封装玻璃的上表面。第二基底为TFT阵列基板，显示模组形成于TFT阵列基板的上表面，第一基底上表面的透镜模组与第二基底上表面的显示模组满足预先设置的对位关系。

可选的，显示面板包括如下结构：第一基底和第二基底，第一基底叠置在第二基底的上方。第一基底为覆盖在显示模组上方的封装薄膜玻璃，透镜模组形成于封装薄膜的上表面，第二基底为TFT阵列基板，显示模组形成于TFT阵列基板的上表面，第一基底上表面的透镜模组与第二基底上表面的显示模组满足预先设置的对位关系。

一种可选的实施例中，所述显示面板包括第三基底，所述第三基底叠置在所述第二基底上方；所述第一基底为硬质玻璃，所述硬质玻璃叠置于所述第三基底上方。

具体的，显示面板包括如下结构：第一基底，彩膜玻璃(第三基底)和第 二基底，第一基底叠置在彩膜玻璃上方，彩膜玻璃叠置在第二基底上方。第一基底为硬质玻璃，透镜模组形成于硬质玻璃的上表面。第二基底为TFT阵列基板，显示模组形成于TFT阵列基板的上表面，第一基底上表面的透镜模组与第二基底上表面的显示模组满足预先设置的对位关系。

优选的，所述具有设定图形的透明介质层为一系列平行排列的条形介质；

所述各个条形介质是采用掩膜板对所述第一基底上的透明介质层进行光刻后得到的；所述各个条形介质的宽度，相邻条形介质之间的间隙，以及所述各个条形介质在所述第一基底上的位置，是根据预先设置的所述透镜模组与所述显示模组之间的对位关系确定的。

优选的，所述透镜模组包括一系列平行排列的柱状透镜，所述柱状透镜远离所述第一基底的表面的形状为设定曲率半径的圆弧状，所述柱状透镜是所述各个条形介质在一定温度下烘烤后变形得到的。

上述几种显示面板的透镜模组是对第一基底上表面的具有设定图形的透明介质层进行烘烤之后形成的。下面结合具体的实施例说明上述几种显示面板的制备方法，尤其是透镜模组的制备方法。

具体实施例中，在第一基底的上表面形成透镜模组的方法与现有技术采用的薄膜挤压式完全不同。

具体的，在第一基底的上表面形成透镜模组时，先采用光刻工艺先制备具有设定图形的透明介质层，设定图形可根据显示模组与透镜模组的对位关系预先确定，比如通过预先设定掩膜板的图形来控制刻蚀后的透明介质层的图形，通过这种光刻工艺，实现具有设定图形的透明介质层的图形位置和幅宽都可精确控制。然后再利用烘烤对具有设定图形的透明介质层在一定温度下进行烘烤，使得烘烤后的透明介质层发送变形，变形的透明介质层即为形成的透镜模组，透镜模组的表面形状，曲率半径，厚度透明介质层变形后的宽度等都可以通过烘烤工艺得以控制。这样，基于预先设置的显示模组和透镜模组的对位关系，结合刻蚀工艺和烘烤工艺制备出第一基底上表面的透镜模组之后，将第一基底 叠置于第二基底之后，使得透镜模组与第二基底上的显示模组满足预先设置的对位关系，进而保证了透镜模组与显示模组的对位精度。

如图2所示，本实用新型实施例提供的一种显示面板的制备方法流程，尤其是第一基底上的透镜模组的制备方法，主要包括：

步骤201，在第一基底的上表面形成一层透明介质层；

步骤202，采用掩膜板对透明介质层进行光刻，得到具有设定图形的透明介质层；

步骤203，对具有设定图形的透明介质层在一定温度下进行烘烤，得到形成于第一基底的上表面的透镜模组；其中，第一基底叠置于第二基底上方，以使透镜模组与第二基底上的显示模组满足预先设置的对位关系。

第一基底叠置于第二基底上方，具体的，可以在执行步骤201至步骤203之后将第一基底叠置在第二基底上方，也可以在执行步骤201之前，将第一基底叠置于在第二基底上方。

上述方法步骤中，透明介质层具有高透光性，且为感光材料，可以被光刻。并且，因显示面板的3D显示效果与透镜模组的折射率相关，可根据满足透镜模组中柱状透镜所需具备的折射率，确定透明介质层的材质，本实用新型对透明介质层的材质不作具体限定。

步骤202中，得到的具有设定图形的透明介质层为一系列平行排列的条形介质，即透明介质层在光刻后未被刻蚀的部分；各个条形介质的宽度，相邻条形介质之间的间隙的宽度，以及各个条形介质在第一基底上的位置，可预先根据透镜模组与显示模组的对位关系确定。各个条形介质在第一基底上的实际位置，可以根据各个条形介质与第一基底沿宽度方向的两边缘的距离来衡量。

各个条形介质的宽度，相邻条形介质之间的间隙的宽度，以及各个条形介质在第一基底上的位置，可预先根据透镜模组与显示模组的对位关系确定，具体为：根据预先设置的显示面板上透镜模组与显示模组的对位关系，确定掩膜板图形，按照掩膜板图形对透明介质层进行光刻，掩膜板覆盖的区域即为刻蚀 后形成的具有设定图形的透明介质层的各个条形介质。各个条形介质的宽度，相邻条形介质之间的空隙的宽度，以及各个条形介质在第一基底上的位置都是依照掩模板图形得到。

但是掩膜板图形，即各个条形介质在第一基底上的位置并不完全匹配透镜模组600与显示模组300的对位关系，这是因为各个条形介质还需要进行烘烤才能得到透镜模组，各个条形介质在烘烤过程中会发生变形，各个条形介质在变形后的宽度(会变宽)，变形后的相邻条形介质之间的空隙的宽度(会变窄)，以及各个条形介质变形后在第一基底上的位置需要匹配透镜模组600与显示模组300的对位关系，因此，需要结合烘烤工艺来控制各个条形介质在变形后的宽度，变形后的相邻条形介质之间的空隙的宽度，以及各个条形介质变形后在第一基底上的位置，各个条形介质变形后得到的透镜模组满足预先设置的透镜模组与显示模组的对位关系。

步骤203对具有设定图形的透明介质层在一定温度下进行烘烤，得到形成于第一基底的上表面的透镜模组，具体包括：对各个条形介质在一定温度下进行烘烤，所述各个条形介质烘烤后形成各个平行排列的柱状透镜；所述各个平行排列的柱状透镜的表面形状为沿远离所述第一基底的方向凸起的弧形，各个平行排列的柱状透镜为形成于第一基底的上表面的透镜模组。各个平行排列的条形介质在烘烤后变形为各个平行排列的柱状透镜，每个柱状透镜的上表面为圆弧状或近似圆弧状。烘烤后得到的各个平行排列的柱状透镜的厚度和宽度、相邻柱状透镜之间的间隙的宽度，以及各个平行排列的柱状透镜在第一基底上的实际位置，以及柱状透镜上表面圆弧的曲率半径，由烘烤工艺参数决定，如烘烤的温度和烘烤的时间。若要各个平行排列的柱状透镜满足预先设置的透镜模组与显示模组的对位关系，需要设定最佳烘烤工艺参数，最佳烘烤工艺参数可根据大量实验数据得到。

本实用新型实施例中，各个柱状透镜之间可以没有间隙，也可以由间隙。若存在间隙，需要在间隙处设置遮挡图形，以免其他杂散光从间隙中进入透镜 模组，透镜模组中的光产生干扰。

为了解决上述问题，本实用新型提出两种优选结构。

第一种优选结构中，所述第一基底的上表面包括遮挡图形，所述遮挡图形至少覆盖所述第一基底的上表面未形成所述透镜模组的区域，以减少杂散光对所述透镜模组的影响。所述遮挡图形以及所述透镜模组的上表面涂覆有透明保护层。第一种优选结构可参照图16。

比如，使用光刻工艺在透镜模组的上表面制备多个不透光的遮挡图形，遮挡图形在透镜模组上的位置，与任两个相邻的柱状透镜之间的间隙在第一基底上的位置对应。遮挡图形用于遮挡第一基底上表面没有形成柱状透镜的区域，包括相邻柱状透镜之间的间隙，以减少杂散光对透镜模组的影响。

基于上述第一种优选结构，在步骤203之后，上述方法还包括：在第一基底的上表面制备若干不透光的遮挡图形，遮挡图形至少覆盖第一基底的上表面未形成透镜模组的区域，比如遮挡图形要覆盖相邻两个柱状透镜之间的间隙，也可以覆盖第一基底边缘未形成柱状透镜的区域，以减少杂散光对透镜模组的影响。

在制备若干不透光的遮挡图形之后，还包括：在所述遮挡图形以及所述透镜模组的上表面涂覆透明保护层。

第二种优选结构为：所述第一基底的上表面未形成所述透镜模组的区域，以及所述透镜模组的上表面涂覆有透明保护层。所述透明保护层的上表面包括遮挡图形，所述遮挡图形至少覆盖所述第一基底的上表面未形成所述透镜模组的区域，以减少杂散光对所述透镜模组的影响。第二种优选结构可参照图9。

基于上述第二种优选结构，在步骤203之后，上述方法还包括：

在第一基底的上表面未形成透镜模组的区域以及在透镜模组的上表面涂覆透明保护层。

基于上述第二种优选结构，在涂覆透明保护层之后，上述方法还包括：

在透明保护层的上表面制备若干不透光的遮挡图形，遮挡图形至少覆盖第 一基底的上表面未形成透镜模组的区域，以减少杂散光对透镜模组的影响。

比如，使用光刻工艺在透明保护层的表面制备多个不透光的遮挡图形，遮挡图形在透明保护层上的位置应该至少与相邻两个柱状透镜之间的间隙在第一基底上的位置对应，使遮挡图形要覆盖相邻两个柱状透镜之间的间隙；再比如，遮挡图形在透明保护层上的位置也可以与第一基底边缘未形成柱状透镜的区域对应，以使遮挡图形覆盖第一基底边缘未形成柱状透镜的区域。

步骤204中，显示模组包括一系列平行排列的显示像素列；透镜模组与第二基底上的显示模组满足预先设置的对位关系，具体为：透镜模组中平行排列的柱状透镜与显示模组中平行排列的显示像素列之间的实际位置关系满足预先设置的柱状透镜与显示像素列之间的对位关系。

透镜模组与显示模组之间预先设置的对位关系，即各个柱状透镜与各个显示像素列之间的对位关系可参照图3。如图3所示，显示模组300的每两列像素倾斜对应透镜模组600的一个柱状透镜，如相邻的1L列像素和2R列像素对应第1个柱状透镜，使1L列像素发出的光信号透过第1个柱状透镜，并在该柱状透镜表面发生折射后进入人的左眼视角，2R列像素发出的光信号透过第1个柱状透镜柱状透镜，并在该柱状透镜表面发生折射后进入人的右眼视角；3L列像素和4R列像素对应第2个柱状透镜，使3L列像素发出的光信号透过第2个柱状透镜并在第2个柱状透镜表面发生折射后进入人的左眼视角，4R列像素发出的光信号透过第2个柱状透镜，并在该第2个柱状透镜表面发生折射后进入人的右眼视角，依此类推，因此，显示模组300的每两列像素与透镜模组600的各个柱状透镜的对位关系，可以实现奇数列像素显示的图像内容进入人的左眼视角，偶数列像素显示的图像内容进入人的右眼视角，实现左右眼图像的分离。因此，透镜模组与显示模组之间预先设置的对位关系，可以根据透镜模组中的各个柱状透镜的折射率，柱状透镜弧形表面的曲率半径，以及柱状透镜的厚度来确定。柱状透镜的折射率，柱状透镜弧形表面的曲率半径，以及柱状透镜的厚度这些值预先设置好，然后基于设定值，通过烘烤工艺参数(温度 随时间变化的曲线)来保证制备出的柱状透镜的折射率，柱状透镜弧形表面的曲率半径，以及柱状透镜的厚度匹配这些设定值。

基于上述方法流程，第二基底为TFT阵列基板，TFT阵列基板上形成有显示模组，第一基底可以不局限于第二基底上方的一种玻璃基底，本实用新型实施例中的显示面板可扩展为多种应用场景。

一种优选的实施例中，上述第一基底是叠置于第二基底上方的彩膜玻璃或封装玻璃，或封装薄膜。现有技术中彩膜玻璃通常叠置于第二基底上方，即彩膜玻璃叠置于TFT阵列基板上方，某一基底上的透镜模组贴合在彩膜玻璃的上方，封装玻璃或封装薄膜为彩膜玻璃的可替代基底。在此应用实例中，将透镜模组直接制作在彩膜玻璃的上表面，或者是将透镜模组直接制作在封装玻璃的上表面，或是将透镜模组直接制作在封装薄膜的上表面，可以减少在彩膜玻璃(或封装玻璃，或封装薄膜)的上方贴合一层专门用于承载透镜模组的基底，有利于显示面板的薄型化。具体步骤包括：

基于上述步骤201至步骤204，下面以第一基底为彩膜玻璃为例，对在彩膜玻璃的上表面制备透镜模组的步骤进行更详细的说明。如图4所示，具体包括：

步骤A1，彩膜玻璃叠置在第二基底上，在彩膜玻璃的上表面形成一层透明介质层；

如图5所示，彩膜玻璃100即为上述实施例中的第一基底，彩膜玻璃100的上表面形成的透明介质层50，其中，第二基底为TFT阵列基板200，彩膜玻璃100和TFT阵列基板200之间为显示模组300，显示模组300形成于TFT阵列基板200的上表面。透明介质层50具有高透光性，且为感光材料，可以被光刻，透明介质层50的折射率满足透镜模组中柱状透镜所需具备的折射率。

步骤A2，采用掩膜板对透明介质层进行光刻，得到具有设定图形的透明介质层，具有设定图形的透明介质层为一系列平行排列的条形介质；

如图6a所示，采用掩膜板对透明介质层50进行光刻，在彩膜玻璃100的 上表面形成具有设定图形的透明介质层500。具有设定图形的透明介质层500为一系列平行排列的条形介质51，即透明介质层在光刻后未被刻蚀的部分，条形介质51的形状为矩形或者近似矩形。彩膜玻璃100上表面形成的一系列平行排列的条形介质51的俯视图参照图6b。

各个平行排列的条形介质的宽度D，相邻条形介质之间的空隙的宽度d，以及各个条形介质在彩膜玻璃100上的位置(可以理解为各个条形介质与彩膜玻璃沿宽度方向的两边缘的距离)如图6b所示。各个条形介质51的宽度D，相邻条形介质之间的空隙的宽度d，以及各个条形介质51在彩膜玻璃100上的位置是预先根据显示面板上透镜模组与显示模组的对位关系确定的。

例如，当显示模组的各个显示像素列在第二基底(TFT阵列基板)上的位置确定之后，根据显示面板上透镜模组与显示模组的对位关系，确定将要形成的各个平行排列的柱状透镜的曲率半径的设定值、预先设定的柱状透镜的宽度值、预先设定的相邻柱状透镜之间的宽度值，然后根据这些设定值和各个条形介质在烘烤工艺参数下变形为所述各个透镜柱状的变形规律来确定掩膜图形，掩模图形决定各个条形介质的宽度，相邻条形介质之间的空隙的宽度，以及各个条形介质在第一基底上的位置；确定掩膜板图形之后，按照掩膜板图形对透明介质层50进行光刻，掩膜板覆盖的区域即为刻蚀后形成的具有设定图形的透明介质层500的各个条形介质51，各个条形介质51的宽度，相邻条形介质51之间的空隙的宽度，以及各个条形介质51在彩膜玻璃100上的位置有掩模图形确定，这样对各个条形介质51进行烘烤之后，形成的各个柱状透镜52在彩膜玻璃100上的位置(参考图7b)，可以设置最佳烘烤工艺参数来控制各个条形介质变形后形成的各个柱状透镜的形状和位置匹配上述设定值，使透镜模组600与显示模组300之间的位置关系满足预先设置的对位关系。

透镜模组与显示模组的对位关系为预先设置的透镜模组中各个平行排列的柱状透镜与显示模组中平行排列的显示像素列之间存在的对位关系，先根据透镜模组与显示模组的对位关系，确定各个柱状透镜形成之前所对应的各个条 形介质的宽度以及在彩膜玻璃上的位置，以使各个条形介质烘烤后形成的各个柱状透镜在彩膜玻璃上的位置满足透镜模组与显示模组的对位关系。

步骤A3，对一系列平行排列的条形介质在一定温度下进行烘烤，得到各个平行排列的柱状透镜；

其中，对具有设定图形的透明介质层500的每一个条形介质51进行烘烤，使得任一条形介质51远离彩膜玻璃100的表面烘烤后的形状为圆弧状或近似圆弧状，如图7a所示，各个条形介质51烘烤后形成各个平行排列的柱状透镜52，所述各个平行排列的柱状透镜的表面形状为沿远离所述第一基底的方向凸起的弧形，各个平行排列的柱状透镜52为形成于彩膜玻璃100的上表面的透镜模组600。各个平行排列的柱状透镜52的宽度要大于各个条形介质51的宽度，这是因为各个条形介质在一定温度下，如200至300℃，进行烘烤后发生了塑性变形，由于重力作用，发生变形的条形介质的宽度大于变形前条形介质的宽度，各个平行排列的柱状透镜52的俯视图如图7b所示，各个平行排列的柱状透镜52的宽度大于图6b中各个条形介质的宽度，相邻柱状透镜52之间的间隙宽度小于相邻条形介质51之间的间隙宽度。

发生变形的条形介质的宽度大小与柱状透镜表面的圆弧的曲率半径有关，柱状透镜表面的圆弧的曲率半径由烘烤工艺参数控制，在烘烤工艺参数的控制下，如设置的温度曲线，各个平行排列的条形介质51变形为各个平行排列的柱状透镜52。其中，柱状透镜52远离彩膜玻璃100的表面为圆弧状，柱状透镜52圆弧状的曲率半径与曲率半径的设定值匹配。图7a各个平行排列的柱状透镜52的宽度与预先设定的柱状透镜的宽度值匹配，相邻柱状透镜52的间隙的宽度与预先设定的相邻柱状透镜之间的宽度值匹配，曲率半径的设定值、预先设定的柱状透镜的宽度值、预先设定的相邻柱状透镜之间的宽度值都是根据透镜模组600和显示模组300的对位关系以及柱状透镜的折射率等因素预先设置好的。

由于各个平行排列的条形介质51在彩膜玻璃100上的位置，各个条形介 质51的宽度，相邻条形介质51之间的空隙的宽度，是根据预先设置的透镜模组和显示模组的对位关系确定的。各个平行排列的条形介质51变形后的宽度，即各个柱状透镜52的宽度、相邻柱状透镜52的间隙的宽度，各个柱状透镜52的厚度以及圆弧状的曲率半径，是由烘烤工艺参数控制的，如烘烤温度、烘烤时间等。因此，结合光刻工艺和烘烤工艺，可通过实验数据实现精确控制透镜模组600和显示模组300的对位关系，即可通过最佳烘烤工艺参数精确控制各个平行排列的柱状透镜52与显示模组300上的平行排列的各个显示像素列60之间的对位关系。最佳烘烤工艺参数如烘烤的温度、时间，可根据大量实验数据得出。

步骤A4，在彩膜玻璃的上表面以及各个柱状透镜的上表面涂覆透明保护层。

具体的，如图8所示，在彩膜玻璃100的上表面未形成透镜模组的区域，以及在透镜模组600的上表面涂覆透明保护层700。

步骤A5，在透明保护层的上表面制备若干不透光的遮挡图形，遮挡图形至少覆盖第一基底的上表面未形成柱状透镜的区域；

具体的，如图9所示，使用光刻工艺在透明保护层700的上表面制备多个不透光的遮挡图形800，一部分遮挡图形800在透明保护层700上的位置，与任两个相邻的柱状透镜52之间的间隙在彩膜玻璃100上的位置对应，还有一部分遮挡图形800位于透明保护层700的边缘，用于遮挡彩膜玻璃边缘没有形成柱状透镜52的区域，形成的不透光的遮挡图形800，可以减少杂散光对透镜模组600的影响。

上述显示面板的制备方法，通过光刻工艺和烘烤工艺保证了显示模组300与透镜模组600之间的对位精度，透镜模组直接形成在彩膜玻璃上表面，进而可以减小显示面板的厚度，而且在在彩膜玻璃上表面的透镜模组不容易变形，其光学性能稳定。

下面介绍另一种可选的实施例，上述第一基底是用于贴合在显示模组上方 的硬质玻璃。该硬质玻璃仅作为透镜模组的基底，在硬质玻璃上形成透镜模组，可以避免透镜模组变形，能够保证透镜模组和显示模组之间的对位关系。下面以第一基底为硬质玻璃为例，对显示面板的制备方法进行详细。如图10所示，具体为：

步骤B1，在硬质玻璃的上表面形成一层透明介质层；

如图11所示，在硬质玻璃400的上表面形成透明介质层50，硬质玻璃400相当于上述实施例中的第一基底。透明介质层50具有高透光性，且为感光材料，可以被光刻，透明介质层50的折射率满足透镜模组中柱状透镜所需具备的折射率。

步骤B2，采用掩膜板对透明介质层进行光刻，得到具有设定图形的透明介质层，具有设定图形的透明介质层为一系列平行排列的条形介质；

如图12a所示，采用掩膜板对透明介质层50进行光刻，在硬质玻璃400的上表面形成具有设定图形的透明介质层500。具有设定图形的透明介质层500为一系列平行排列的条形介质51，即透明介质层在光刻后未被刻蚀的部分，条形介质51的形状为矩形或者近似矩形。硬质玻璃的上表面形成的一系列平行排列的条形介质51的俯视图参照图12b。

各个条形介质的宽度D，相邻条形介质之间的空隙的宽度d，以及各个条形介质在第一基底上的位置(可以理解为各个条形介质与硬质玻璃沿宽度方向的两边缘的距离)如图12b所示。各个条形介质51的宽度D，相邻条形介质之间的空隙的宽度d，以及各个条形介质51在硬质玻璃上的位置是预先根据显示面板上透镜模组与显示模组的对位关系确定的。

例如，当显示模组的各个显示像素列在第二基底(TFT阵列基板)上的位置确定之后，根据显示面板上透镜模组与显示模组的对位关系，确定将要形成的各个平行排列的柱状透镜的曲率半径的设定值、预先设定的柱状透镜的宽度值、预先设定的相邻柱状透镜之间的宽度值，然后根据这些设定值和各个条形介质在烘烤工艺参数下变形为所述各个透镜柱状的变形规律来确定掩膜图形， 掩模图形决定各个条形介质的宽度，相邻条形介质之间的空隙的宽度，以及各个条形介质在第一基底上的位置；确定掩膜板图形之后，按照掩膜板图形对透明介质层50进行光刻，掩膜板覆盖的区域即为刻蚀后形成的具有设定图形的透明介质层500的各个条形介质51，各个条形介质的宽度，相邻条形介质之间的空隙的宽度，以及各个条形介质在第一基底上的位置有掩模图形确定，这样对各个条形介质51进行烘烤之后，形成的各个柱状透镜52在硬质玻璃上的位置(参考图13b)，可以设置最佳烘烤工艺参数来控制各个条形介质变形后形成的各个柱状透镜的形状和位置匹配上述设定值，使透镜模组600与显示模组300之间的位置关系满足预先设置的对位关系。

步骤B3，对一系列平行排列的条形介质在一定温度下进行烘烤，得到各个平行排列的柱状透镜；

其中，对具有设定图形的透明介质层500的每一个条形介质51进行烘烤，使得任一条形介质51远离硬质玻璃的表面烘烤后的形状为圆弧状或近似圆弧状，各个条形介质51烘烤后形成各个平行排列的柱状透镜52，如图13a所示，各个平行排列的柱状透镜的表面形状为沿远离所述第一基底的方向凸起的弧形，各个平行排列的柱状透镜52的宽度要大于各个条形介质51的宽度，这是因为各个条形介质在一定温度下，如200至300℃，进行烘烤后发生了塑性变形，由于重力作用，发生变形的条形介质的宽度大于变形前条形介质的宽度，各个平行排列的柱状透镜52的俯视图如图13b所示，各个平行排列的柱状透镜52的宽度大于图6b中各个条形介质的宽度，相邻柱状透镜52之间的间隙宽度小于相邻条形介质51之间的间隙宽度。发生变形的条形介质的宽度大小与柱状透镜表面的圆弧的曲率半径有关，柱状透镜表面的圆弧的曲率半径由烘烤工艺参数控制，在烘烤工艺参数下，各个平行排列的条形介质51变形为各个平行排列的柱状透镜52，各个平行排列的柱状透镜52即为形成于硬质玻璃400的上表面的透镜模组600。其中，柱状透镜52远离硬质玻璃400的表面为圆弧状，柱状透镜52圆弧状的曲率半径是根据透镜模组600和显示模组300 的对位关系以及柱状透镜的折射率等因素确定的。

由于各个平行排列的条形介质在硬质玻璃400上的位置，各个条形介质的宽度，相邻条形介质之间的空隙的宽度，是根据透镜模组600和显示模组300的对位关系确定的，而且各个平行排列的条形介质51变形后的宽度，即各个柱状透镜52的宽度、相邻柱状透镜52的间隙的宽度，各个柱状透镜52的厚度以及圆弧状的曲率半径，是由烘烤工艺参数控制的，如烘烤温度、烘烤时间等。因此，结合光刻工艺和烘烤工艺，可通过实验数据实现精确控制透镜模组600和显示模组300的对位关系，即可通过最佳烘烤工艺参数精确控制各个平行排列的柱状透镜52与显示模组300上的平行排列的各个显示像素列60之间的对位关系。最佳烘烤工艺参数如烘烤的温度、时间，可根据大量实验数据得出。

各个平行排列的柱状透镜52与显示模组300上的平行排列的各个显示像素列60满足预先设置的对位关系，参照图16。

步骤B4，在透镜模组的上表面制备若干不透光的遮挡图形，遮挡图形至少覆盖第一基底的上表面未形成柱状透镜的区域；

具体的，如图14所示，使用光刻工艺在透镜模组的上表面制备多个不透光的遮挡图形800，遮挡图形800在透镜模组600上的位置，与任两个相邻的柱状透镜52之间的间隙在硬质玻璃400上的位置对应。遮挡图形800用于遮挡硬质玻璃400上表面没有形成柱状透镜52的区域，包括相邻柱状透镜之间的间隙，以减少杂散光对透镜模组600的影响。

步骤B5，在硬质玻璃的上表面以及各个柱状透镜的上表面涂覆透明保护层；

如图15所示，在硬质玻璃400的上表面未形成透镜模组600的区域，以及在透镜模组600的上表面涂覆透明保护层700。

步骤B6，将硬质玻璃与第二基底叠置，即将硬质玻璃贴合在彩膜玻璃上，彩膜玻璃叠置在第二基底上；

其中，第二基底为TFT阵列基板200，彩膜玻璃100和TFT阵列基板200之间为显示模组300，即显示模组300形成于TFT阵列基板200的上表面。此处的彩膜玻璃100也可替换为叠置在第二基板上的封装玻璃或者封装薄膜。

上述几种显示面板中，采用光刻工艺制备具有设定图形的透明介质层，具有设定图形的透明介质层的宽度、位置由预先设计的掩膜板图形精确控制；再对具有设定图形的透明介质层进行烘烤，具有设定图形的透明介质层烘烤后发生变形，具有设定图形的透明介质层变形后的宽度、位置和形状由烘烤工艺精确控制，进而保证了透镜模组与显示模组的对位精度。其中，掩膜板的图形预先根据透镜模组与显示模组的对位关系确定，具有设定图形的透明介质层变形后的宽度和位置、表面形状、曲率半径，厚度等都可以通过烘烤工艺参数得以精确控制，这样，基于预先设置的显示模组和透镜模组的对位关系，结合刻蚀工艺和烘烤工艺制备出第一基底上表面的透镜模组之后，将第一基底叠置于第二基底之后，使得透镜模组与第二基底上的显示模组满足预先设置的对位关系，进而保证了透镜模组与显示模组的对位精度。

本实用新型实施例还提供一种显示设备，包括上述实施例中的显示面板。

尽管已描述了本实用新型的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本实用新型范围的所有变更和修改。

显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。