技术总结
本实用新型涉及一种超广角半球透镜增透膜。改变传统的设计思维，从膜系设计的角度出发，将增透膜的光谱范围展宽，使边缘膜层薄的位置仍能达到增透效果。无需对传统设备做任何改造，只需控制膜料层沉积速率与工件盘公转速度，即可保证透镜同一圆周内的膜厚均匀。采用离子源刻蚀和离子源辅助沉积的镀膜工艺，提高膜层的附着力和致密性。设计上靠近基底的膜层使用TiO2和SiO2，并且增加离子源辅助，有效的解决TiO2与MgF2膜层的应力问题，消除膜裂风险；最外层采用低折射率MgF2，能够最大限度的降低整个带宽的反射率，在带宽展宽的同时仍然能保证较低的反射率，并且能减少膜层应力，降低膜裂风险。
技术研发人员：吴小春
受保护的技术使用者：三明福特科光电有限公司
文档号码：201620746099
技术研发日：2016.07.15
技术公布日：2017.01.11