凹面结构上贴反射镜阵列的方法、凹面反射镜阵列和灯具与流程

文档序号:12886400阅读:528来源:国知局
凹面结构上贴反射镜阵列的方法、凹面反射镜阵列和灯具与流程

本发明涉及照明领域,特别是装饰照明领域。



背景技术:

凹面反射镜阵列在装饰照明中很常用。目前的加工方法是,在凹面上涂胶,将已经分割好的小片反射镜用手工一片一片粘上去,在固化胶水。这样的问题有很多。首先是手工摆放的速度慢,成本高。第二是为了便于生产控制,一般只摆放同一形状的小片反射镜(例如正方形),在一个凹面上摆放多种形状、尺寸的小反射镜对于生产控制来说很困难。第三是不能覆盖满凹面,小片反射镜之间总会有缝隙。



技术实现要素:

本发明提出一种在凹面结构上贴装反射镜阵列的方法,包括以下步骤:

a.将整块的、一面划出阵列划痕另一面覆膜的反射镜,以划痕面面对凹面结构并整体按压贴合,其中凹面结构表面有压敏胶或者反射镜的划痕面有压敏胶;

b.按压反射镜的阵列划痕,使其局部从划痕处裂开,同时通过按压使裂开的局部与凹面结构之间的压敏胶粘接;

c.揭去反射镜上的覆膜。

本发明还提出一种凹面反射镜阵列,该凹面反射镜阵列包括凹面结构和多个平面反射镜,该多个平面反射镜沿凹面结构的表面排列成阵列;该凹面反射镜阵列采用根据上述的在凹面结构上贴装反射镜阵列的方法制作而成。

本发明还提出一种灯具,包括出射准直光束的发光装置和位于发光装置光路后端的凹面反射镜阵列,从发光装置出射的光经过凹面反射镜阵列反射后形成多个汇聚的子光束。

利用该方法,多个小反射镜整齐高效的粘接于一个凹面结构上,而不需要一块一块的进行贴装。而且利用该方法,容易实现不同形状的小反射镜有规律贴装。

附图说明

图1表示了本发明中一个步骤的示意图;

图2表示了本发明另一个步骤的示意图;

图3表示了执行图2所示的步骤后的结果示意图;

图4、5和6分别表示了反射镜上可能的划痕阵列的示意图;

图7表示了本发明灯具的结构示意图;

图8表示了本发明灯具的另一个实施例的结构示意图。

具体实施方式

本发明提出一种在凹面结构上贴装反射镜阵列的方法,包括以下步骤:

a.将整块的、一面划出阵列划痕另一面覆膜的反射镜,以划痕面面对凹面结构并整体按压贴合,其中凹面结构表面有压敏胶;

b.按压反射镜的阵列划痕,使其局部从划痕处裂开,同时通过按压使裂开的局部与凹面结构之间的压敏胶粘接牢固;

c.揭掉反射镜上的覆膜。

步骤a所对应的各部件的结构示意图如图1所示。整块的反射镜111包括两个面,图中的下表面被划出阵列划痕112a、112b、112c、112d、112e、112f和112g,上表面贴附有薄膜113。将划痕面(下表面)面对凹面结构114的凹面114a,整体的按压下去。凹面114a表面有压敏胶。为了表示的更清晰,图1中只画出7个阵列划痕,实际中的阵列划痕可能要多得多。

该步骤a执行后的样子如图2所示。整块的反射镜在整体按压下,会沿着某些划痕断裂。例如在图2中表示的,沿着划痕212d发生断裂。实际中断裂的划痕使随机的,与整体按压的着力点有关。一般来说,对于凹面结构来说整体按压的着力点可以放在中心附件,因为中心点附近较低。当然按压中心边缘区域也是可以的。

在整体按压下,整块的反射镜沿着某些划痕发生断裂,形成多块反射镜。这多块反射镜上往往还包括未断裂的划痕,如图2所示的。由于整体按压的压力的作用,这多块反射镜的边缘依靠压敏胶216与凹面结构面214a固定在一起。由于薄膜213的作用,这多块反射镜仍然靠薄膜213连在一起。这样即使存在没有和凹面结构面214a固定住的反射镜块,这样的反射镜块也不会单独掉落下来,而是被薄膜213连接着呈现紧贴凹面结构面的状态,为下一步动作做准备。

在该实施例中凹面结构表面有压敏胶,而实际上也可以使反射镜的划痕面有压敏胶,同样能够达到将反射镜作为整体的与凹面结构相固定的目的。

在这种状态下执行步骤b,图2中的多个空心箭头表示对反射镜的阵列划痕进行局部的按压动作。步骤b执行后的结果如图3所示。在按压动作的压力下,反射镜沿阵列划痕一一断裂开形成多个子反射镜311a、311b、311c、311d、311e、311f、311g等。由于面积小,这些局部的子反射镜与凹面314a的贴合度更好(因为中间的空隙小),因此在按压压力下可以通过压敏胶(图中未画出)与凹面结构面314a粘接。在这个步骤中薄膜313依然起到了连接多个子反射镜的作用,这样就可以从容的执行按压局部的阵列划痕的动作而不用担心出现由于用力不均造成的局部子反射镜脱落。

最后,执行步骤c揭去反射镜上的覆膜,就可以实现凹面结构上反射镜阵列的贴装。

利用本发明可以快速的制造凹面反射镜阵列,而且具有没有缝隙、小反射镜形状可以定制设计等优点。

由于步骤a直接使用了整块的、一面划出阵列划痕另一面覆膜的反射镜,而这样的反射镜往往也需要进行加工(当然也可以外发加工后拿来直接使用),因此在步骤a前还可能包括步骤:

a0.将整块的、一面覆膜的反射镜的另一面划出阵列划痕。

在反射镜上划出阵列划痕是非常成熟的技术,可以手动完成更可以机器完成。划痕并不是将反射镜完全切割开,而是划出如图1中112a等的局部凹槽,使用金刚石玻璃刀等刀具就可以实现。

对于反射镜来说,一般包括反射面,反射面是由镀反射膜形成的,容易沾污或出现损伤。为了保护这个反射面,优选的我们在这个面上覆膜。这样所覆的薄膜(如图1中的薄膜113)除了在前面所述的作用外,同时还能起到保护反射面的作用。相对应的,反射镜的另一面上就被划出阵列划痕。

在以上实施例中所使用的压敏胶就是双面胶,当然也可以使用其他压敏胶。由于压敏胶的粘接力不是很强,在对粘接牢固度要求高的场合,优选的在步骤b后还包括步骤:

d:在反射镜阵列和凹面结构之间渗入胶水,并固化。

这样利用压敏胶将反射镜阵列和凹面结构进行预固定,再利用步骤d渗入的胶水进行完全固定,就能够满足更高粘接牢固度的要求。值得注意的是,步骤d可以在步骤c之后进行,也可能在步骤c之前进行。

在实际操作中发明人发现,优选的,阵列划痕中相邻划痕之间的间距大于反射镜的厚度,这样当按压时反射镜更容易沿着划痕整齐的断裂开,而不容易发生倾斜的、粉碎式的断裂。

通过以上描述可以理解,反射镜上的阵列划痕就决定了各个子反射镜的形状。而各个子反射镜的形状可以是不同的。图4、5和6分别列举了可能的反射镜的阵列划痕形状,图中整块的反射镜的轮廓都是圆形的,圆形内的线就是阵列划痕。在图4中,水平线是均匀的,竖直线左侧稀疏右侧密集,这样就实现了左侧的子反射镜稀疏而右侧的子反射镜密集的情况。在图5中,水平线是上侧密集下侧稀疏,竖直线左侧稀疏右侧密集,这样就实现了左下的子反射镜稀疏而右上的子反射镜密集的情况。在图6中,水平线是向右侧汇聚,竖直线左侧稀疏右侧密集,这样同样实现了左侧的子反射镜稀疏而右侧的子反射镜密集的情况。因此利用阵列划痕中不同位置的相邻划痕之间的间距不同,就可以实现尺寸不同的子反射镜。

图4的实现方式中,右侧的子反射镜的尺寸,只在水平方向上小于左侧子反射镜的尺寸,在竖直方向上则是相同的。而图5和图6的实现方式,与4所表现的不同的是,都可以实现一个区域的子反射镜在两个相互正交的方向维度上的长度都小于另一个区域的子反射镜在两个方向维度上的长度。这样的视觉效果更好,所以是更加优选的方式。对应于阵列划痕来说,优选的,阵列划痕所划分形成的多个区域中,至少包括第一区域和第二区域,在两个相互正交的方向维度上第一区域都小于第二区域。

本发明还提出一种凹面反射镜阵列,该凹面反射镜阵列包括凹面基底和多个平面反射镜,该多个平面反射镜沿凹面基底的表面排列成阵列;该凹面反射镜阵列采用上述的在凹面结构上贴装反射镜阵列的方法制作而成。

本发明还提出一种灯具,其结构示意图如图7所示。该灯具包括出射准直光束743的发光装置730和位于发光装置730光路后端的凹面反射镜阵列701。该凹面反射镜阵列采用上述的在凹面结构上贴装反射镜阵列的方法制作而成。从发光装置出射的准直光743经过凹面反射镜阵列701反射后形成多个汇聚的子光束744。由于入射光743是准直的,反射镜不改变光束的准直度,因此每个子光束也是准直的。这样能够形成在远处(例如几米外)形成多个小光点的装饰照明效果。

在本实施例中,发光装置730包括光源,光源包括激光二极管731、荧光片732,激光二极管731发出的激光741聚焦于荧光片732并激发荧光片732发出荧光742;发光装置还包括光准直元件733,该光准直元件733用于接收光源发出的光并将其准直出射。激光二极管731发出的激光可以汇聚成一个点来激发荧光片从而产生高亮度的白光,这样的光经过光准直元件733准直后平行度非常高,因此经过凹面反射镜阵列701的反射后所得到的小光点就更小更亮。当然,本实施例并不限定于使用激光光源。

图8所示的实施例是在图7的实施例中的进一步改进。在本实施例的灯具中,位于发光装置光路后端的凹面反射镜阵列包括多个平面反射镜,该多个平面反射镜沿一个凹面排列成阵列,从发光装置出射的光经过该凹面反射镜阵列反射后形成多个子光束825u、825v和825w等,该多个子光束照射于目标面851形成多个子光斑。

很明显,子光束825u入射于目标面851的入射角(入射光线与目标面在入射点法线的夹角),大于子光束825w入射于目标面851的入射角。假设凹面反射镜阵列中,单位面积的平面反射镜个数(即平面反射镜的密度)是均匀的,那么由于投射角度的影响,子光束825u在目标面851形成的光点到相邻子光束在目标面851形成的光点的距离,就必然大于子光束825w在目标面851形成的光点到相邻子光束在目标面851形成的光点的距离。这样在目标面851上形成的光点阵列就是不均匀的:子光束825u入射的区域852u的光点密度小于子光束825w入射的区域852w的光点密度。

然而,均匀的光点密度可以实现更好的视觉效果。为了实现更加均匀的光点密度,在本实施例中,考虑到凹面反射镜阵列上的区域814u反射形成子光束825u,区域814w反射形成子光束825w,那么使区域814u上单位面积平面反射镜的数量(平面反射镜的密度)大于区域814w的单位面积平面反射镜的数量,就可以至少部分的补偿投射角度带来的相邻光点之间的距离差异。对于子光束825v和子光束825w,两者入射于目标面851的入射角相近,因此可以设置其对应的区域814v和814w上平面反射镜的密度相近。

概括来说,凹面反射镜阵列上包括密集区和稀疏区,密集区的单位面积平面反射镜的数量大于稀疏区的单位面积平面反射镜的数量,且密集区内的平面反射镜上出射的子光束入射于目标面的平均入射角大于稀疏区内的平面反射镜上出射的子光束入射于目标面的平均入射角。这样密集区依靠更高的平面反射镜密度,来补偿其反射的子光束在目标面上入射角较大带来的光点距离拉大的影响,使得密集区和稀疏区在目标面上形成的相邻光点距离更接近。在本实施例中,凹面反射镜阵列上区域814u就是密集区,区域814u就是稀疏区。在本实施例中,密集区位于凹面上靠近光出射方向的一端,稀疏区位于凹面上远离光出射方向的一端。可以理解,凹面反射镜阵列上可以存在多对密集区和稀疏区。图4、图5、图6就是在凹面反射镜阵列实现密集区和稀疏区的举例。例如图4和图5中,左侧为稀疏区,右侧为密集区。在图6中,左下为稀疏区右上为密集区。

以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。

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