技术特征：
技术总结
提供一种微影图案化的方法，包括：形成光阻层于基板上，以及对光阻层进行曝光制程。光阻层包含聚合物主链、键结至聚合物主链的酸活性基团、键结至聚合物主链的敏化剂、光酸产生剂、与热碱产生剂。上述方法亦包括在第一温度下烘烤光阻层，接着在第二温度下烘烤光阻层。第二温度高于第一温度。上述方法亦包括在显影剂中显影光阻层，以形成图案化的光阻层。
技术研发人员：刘朕与;张雅晴;吴承翰;张庆裕;林进祥
受保护的技术使用者：台湾积体电路制造股份有限公司
技术研发日：2017.08.29
技术公布日：2018.12.11