一种耐高低温红外光学窗口片的制作方法

本发明涉及红外光学器件技术领域，具体涉及一种耐高低温红外光学窗口片。

背景技术：

光学窗口是高低温光学试验中必不可少的光学部件，其材质与结构的优劣必将影响光学试验的成败。然而，一般现有的光学窗口在高低温(零摄氏度以下)试验时，很容易由于窗口两侧的温度梯度导致窗口处于常温侧结霜，致使光学成像模糊，导致试验失败。

技术实现要素：

本发明提供如下技术方案：一种耐高低温红外光学窗口片，包括：基板、增透膜、耐高温膜和隔层；所述基板两侧分别沉积有增透膜，在所述基板处于常温的一侧还沉积有耐高温膜；所述耐高温膜、增透膜与基板的外侧周边上包绕有隔层。

进一步，增透膜设置有4层，每层厚度为30-40nm

进一步，耐高温膜有2层每层厚度为35-50nm。

进一步，耐高温膜由气态硅氧烷在pecvd设备上射频沉积而得。

进一步，增透膜为hfon膜，其材料为乙烯基倍半硅氧烷。

本发明采用双层镀膜结构，用隔层将窗口片及增透膜和耐高低温膜密封，使得窗口片与低温环境隔离，可避免窗口结霜，同时增透膜能增加透光率，增大成像的清晰度，进一步保证实验的成功率。

附图说明

图1为一种耐高低温红外光学窗口片的结构示意图。

其中，1、基板；2、增透膜；3、耐高温膜；4、隔层。

具体实施方式

下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细地描述：

实施例1：

本发明提供一种耐高低温红外光学窗口片，包括：基板1、增透膜2、耐高温膜3和隔层4；所述基板1两侧分别沉积有增透膜2，所述增透膜2设置有4层，每层厚度为30nm，增透膜2为hfon膜，其材料为乙烯基倍半硅氧烷；在所述基板1处于常温的一侧还沉积有耐高温膜3，所述耐高温膜3有2层每层厚度为35nm，耐高温膜3由气态硅氧烷在pecvd设备上射频沉积而得；所述耐高温膜3、增透膜2与基板1的外侧周边上包绕有隔层4。

实施例2：

一种耐高低温红外光学窗口片，包括：基板1、增透膜2、耐高温膜3和隔层4；所述基板1两侧分别沉积有增透膜2，所述增透膜2设置有4层，每层厚度为35nm，增透膜2为hfon膜，其材料为乙烯基倍半硅氧烷；在所述基板1处于常温的一侧还沉积有耐高温膜3，所述耐高温膜3有2层每层厚度为43nm，耐高温膜3由气态硅氧烷在pecvd设备上射频沉积而得；所述耐高温膜3、增透膜2与基板1的外侧周边上包绕有隔层4。

实施例3：

一种耐高低温红外光学窗口片，包括：基板1、增透膜2、耐高温膜3和隔层4；所述基板1两侧分别沉积有增透膜2，所述增透膜2设置有4层，每层厚度为40nm，增透膜2为hfon膜，其材料为乙烯基倍半硅氧烷；在所述基板1处于常温的一侧还沉积有耐高温膜3，所述耐高温膜3有2层每层厚度为50nm，耐高温膜3由气态硅氧烷在pecvd设备上射频沉积而得；所述耐高温膜3、增透膜2与基板1的外侧周边上包绕有隔层4。

本发明采用双层镀膜结构，用隔层4将窗口片及增透膜2和耐高低温膜密封，使得窗口片与低温环境隔离，可避免窗口结霜；同时增透膜2能增加透光率，增大成像的清晰度，进一步保证实验的成功率。

本发明并不限于上述实例，在本发明的权利要求书所限定的范围内，本领域技术人员不经创造性劳动即可做出的各种变形或修改均受本专利的保护。

技术特征：

技术总结
本发明涉及一种耐高低温红外光学窗口片，包括：基板、增透膜、耐高温膜和隔层；所述基板两侧分别沉积有增透膜，所述增透膜设置有4层，每层厚度为30‑40nm，增透膜为HfON膜，其材料为乙烯基倍半硅氧烷；在所述基板处于常温的一侧还沉积有耐高温膜，所述耐高温膜有2层每层厚度为35‑50nm，耐高温膜由气态硅氧烷在PECVD设备上射频沉积而得；所述耐高温膜、增透膜与基板的外侧周边上包绕有隔层；本发明采用双层镀膜结构，用隔层将窗口片及增透膜和耐高低温膜密封，使得窗口片与低温环境隔离，可避免窗口结霜，同时增透膜能增加透光率，增大成像的清晰度，进一步保证实验的成功率。

技术研发人员：韩崇利
受保护的技术使用者：成都中源红科技有限公司
技术研发日：2017.11.27
技术公布日：2019.06.04