本发明涉及眼镜领域，尤其涉及一种镀有电气石的眼镜片。
背景技术：
随着消费电子产品的普及以及工作环境等因素，佩戴眼镜或者因近视而佩戴视力矫正功能眼镜的人越来越多。眼镜通常是由镜片和镜架组成，从镜片的功能上讲，它具有调节进入眼睛之光量，增加视力，保护眼睛安全和临床治疗眼病等作用。
经研究表明，正静电对人体会产生很多不良影响，是多种疾病及健康障碍的催化剂，当人体内存在很多正静电时，会造成新陈代谢不旺盛，容易疲劳无力；在空气中含有大量正离子的情况下，对人体会有兴奋、不舒服、睡不着及食欲减退等影响，会导致血压上升、血糖增加和血管收缩等症状。而负离子却有令细胞、肌肉及血液活化的良好影响，在空气中含有大量负离子的情况下，对人体会有镇静、舒适、催眠及食欲增进等影响，另外还具有降低血压、减少血糖、扩张血管及利尿等积极作用。
纵观目前市场上已经出现的各类眼镜，可以产生负离子的具有保健作用的眼镜非常稀少，而且制造工艺复杂，难以加工，价格昂贵。
技术实现要素：
为了解决现有技术中的不足，本发明的目的在于提供一种镀有电气石的眼镜片。
为实现上述目的，本发明采用以下技术方案：
一种镀有电气石的眼镜片，包括基片，所述基片的内、外两个表面从里到外对称依序设有第一层、第二层、第三层、第四层、第五层、第六层、第七层、第八层、第九层、第十层、第十一层、第十二层和第十三层；所述第一层、第四层和第六层均为五氧化三钛层，所述第二层、第五层和第七层均为二氧化硅层，所述第三层为金属层，所述第八层为ito层，所述第九层为纳米银层，所述第十层为高硬度层，所述第十一层为氟化物层，所述第十二层为防紫外线层，所述第十三层为电气石层。
所述电气石层的材料为电气石粉，并采用电子枪蒸镀成型，电气石层的厚度为5-10nm。
所述电气石粉由静态负离子数值≥600ions/cm3的电气石原料破碎而成。
所述电气石粉经过环氧基硅烷偶联剂改性处理，具体方法为：在电气石粉中加入电气石粉重量1-1.5％的环氧基硅烷偶联剂，在研磨设备中以6000-8000r/min的转速剪切10-15min。
进一步，每层五氧化三钛层的厚度均为10-100nm，每层二氧化硅层的厚度均为50-100nm，金属层的厚度为5-20nm，ito层的厚度为10-100nm，纳米银层的厚度为5-20nm，高硬度层的厚度为10-50nm，氟化物层的厚度为3-10nm，防紫外线层的厚度为3-10nm。
进一步，所述纳米银层的材料为银的氧化物，并由电子枪蒸镀成型；所述高硬度层的材料为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并由电子枪蒸镀成型；所述氟化物层的材料为氟化镁，并由电阻蒸镀成型。
本发明采用以上技术方案，先将活化处理后的电气石粉用环氧基硅烷偶联剂进行改性处理，使环氧基硅烷偶联剂有效的对电气石粉表面浸润包裹，达到不同粒径颗粒互粘自聚现象的消失，而呈高度自由分散状态；然后采用真空蒸镀的方式在眼镜片上镀上电气石层，采用该镜片的眼镜具有电气石的成分，佩戴时不断释放负离子，能够中和眼部及面部的阳离子，激发细胞活性，使人眼部有清爽感，缓解眼部疲劳，长时间佩戴可起到眼部保养和预防眼病的作用。此外，本发明在基片上真空蒸镀有诸如过氧化银等纳米银层，利用银的氧化物在电子枪蒸镀的作用下氧离子分离，银的氧化物中的银离子以纳米级单质银的形式附着形成薄层的纳米银层，纳米单质银杀菌效应使其拥有杀菌能力，能够有效抑制细菌或其它微生物生长，避免了因细菌感染引起急性红眼等问题。本发明在基片内、外表面上设置高硬度层，有效提高了镜片的耐磨性，可以防止其刮花。本发明在基片上通过采用电阻蒸镀的方式来镀诸如氟化镁层等低熔点的氟化物层，使其具有很好的疏水性和防油污功能。本发明的金属层，不仅提升了防蓝光效果和清晰度，而且也可以反射有害光、炫目光波、强闪动光波等。
附图说明
图1为本发明镀有电气石的眼镜片的分解图。
具体实施方式
一种镀有电气石的眼镜片，包括基片14，所述基片14的内、外两个表面从里到外对称依序设有第一层4、第二层2、第三层3、第四层4、第五层5、第六层6、第七层7、第八层8、第九层9、第十层10、第十一层11、第十二层12和第十三层13；所述第一层1、第四层4和第六层6均为五氧化三钛层，所述第二层2、第五层5和第七层7均为二氧化硅层，所述第三层3为金属层，所述第八层8为ito层，所述第九层9为纳米银层，所述第十层10为高硬度层，所述第十一层11为氟化物层，所述第十二层12为防紫外线层，所述第十三层13为电气石层。
所述电气石层的材料为电气石粉并采用电子枪蒸镀成型，所述电气石粉由静态负离子数值≥600ions/cm3的电气石原料破碎而成，并且经过环氧基硅烷偶联剂改性处理，具体方法为：在电气石粉中加入电气石粉重量1-1.5％的环氧基硅烷偶联剂，在研磨设备中以6000-8000r/min的转速剪切10-15min。
作为本发明的一种实施例每层五氧化三钛层的厚度均为10-100nm，每层二氧化硅层的厚度均为50-100nm，金属层的厚度为5-20nm，ito层的厚度为10-100nm，纳米银层的厚度为5-20nm，高硬度层的厚度为10-50nm，氟化物层的厚度为3-10nm，防紫外线层的厚度为3-10nm，电气石层的厚度为5-10nm。
纳米银层的材料为银的氧化物，并由电子枪蒸镀成型；高硬度层的材料为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并由电子枪蒸镀成型；氟化物层的材料为氟化镁，并由电阻蒸镀成型。