本实用新型涉及镜片材料技术领域，具体涉及一种防蓝光镜片。
背景技术：
蓝光是指波长为400～500nm的高能量可见光。这种光线对人眼存在各种各样的伤害和影响，包括以下几个方面：(1)蓝光照射视网膜会产生自由基，而这些自由基会导致视网膜色素上皮细胞衰亡，上皮细胞的衰亡会导致光敏感细胞缺少养分从而引起视力损伤，极易引起视网膜黄斑部病变。(2)蓝光射入眼底经过聚焦后，焦点没有落在视网膜上，而是落在视网膜与晶状体之间，这就增大了光线在眼内聚焦的色差距离，加剧色差和视觉模糊度，导致眼部肌肉过度紧张，眼部供血过度紧张，眼部血液供应加强，从而加重疲劳。(3)日常生活中常用的LED灯、电脑和手机等发出蓝光的强度已经接近中午阳光中蓝光的强度，并且离眼镜非常近，这时蓝光对视网膜的伤害及对褪黑素分泌的影响已远远超过了1.3勒克斯蓝光的照射强度，由于蓝光刺激大脑，抑制褪黑素分泌并提高肾上腺皮质激素的生成从而破坏激素分泌平衡直接影响睡眠质量。研究显示蓝光大量存在于LED灯、电脑显示器、手机、数码产品、液晶显示屏、浴霸等光线中。为了防止几乎无处不在的蓝光损害，急需开发一种真正具有防蓝光作用的蓝光防护眼镜。
技术实现要素：
为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：一种防蓝光镜片，包括有基片，基片的前表面依次镀有第一SiO2层、第一ZrO2层、第二SiO2层、第二ZrO2层、第一ITO层、第三SiO2层、第一Hydro 层，基片的后表面依次镀有第四SiO2层、第三ZrO2层、第五SiO2层、第四ZrO2层、第二ITO层、第六SiO2层、第二Hydro层。
基片为透明树脂片。
作为优选，第一SiO2层的厚度为72～78nm，第一ZrO2层的厚度为32～38nm，第二SiO2层的厚度为18～22nm，第二ZrO2层的厚度为 112～116nm，第一ITO层的厚度为8～11nm，第三SiO2层的厚度为 100～105nm，第一Hydro层的厚度为12～16nm，第四SiO2层的厚度为122～127nm，第三ZrO2层的厚度为27～32nm，第五SiO2层的厚度为10～14nm，第四ZrO2层的厚度为75～80nm，第二ITO层的厚度为 8～12nm，第六SiO2层的厚度为85～90nm，第二Hydro层的厚度为 12～16nm。
进一步优选，第一SiO2层的厚度为75nm，第一ZrO2层的厚度为 35nm，第二SiO2层的厚度为20nm，第二ZrO2层的厚度为114nm，第一 ITO层的厚度为10nm，第三SiO2层的厚度为103nm，第一Hydro层的厚度为15nm，第四SiO2层的厚度为125nm，第三ZrO2层的厚度为30nm，第五SiO2层的厚度为11.5nm，第四ZrO2层的厚度为77nm，第二ITO 层的厚度为10nm，第六SiO2层的厚度为87nm，第二Hydro层的厚度为15nm。
本实用新型的工作原理及有益效果是：基片的前表面的多个膜层对波长为400-450nm的可见光能够有效阻挡23.2％，波长380-500nm 的可见光能够有效阻挡6.2％，其反射波峰在420nm左右，能够有效阻挡420nm左右的蓝光，减少蓝光对眼睛的伤害。基片的后表面的多个膜层的能够增加白光透过率，减少基片对白光的反射，使得镜片白光透过率增加3.5％-4％，透过眼镜识物更加清晰。ITO(透明氧化铟锡导电薄膜)层能够导电，过滤电磁波，阻挡电磁波透过镜片，从而有效减少电磁波对眼睛的伤害。基片的前表面和后表面的Hydro层(憎水层)使镜片具有防水、防尘性能，有利于镜片的清洗，同时不影响镜片的透光性能。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
图中：1、第一Hydro层，2、第三SiO2层,3、第一ITO层,4、第二ZrO2层,5、第二SiO2层，6、第一ZrO2层，7、第一SiO2层，8、基片，9、第四SiO2层，10、第三ZrO2层，11、第五SiO2层,12、第四 ZrO2层,13、第二ITO层,14、第六SiO2层,15、第二Hydro层。
具体实施方式
现结合附图对本实用新型作进一步说明。
如图1所示，一种防蓝光镜片，包括有基片，基片的前表面依次镀有第一SiO2层、第一ZrO2层、第二SiO2层、第二ZrO2层、第一ITO 层、第三SiO2层、第一Hydro层，基片的后表面依次镀有第四SiO2层、第三ZrO2层、第五SiO2层、第四ZrO2层、第二ITO层、第六SiO2层、第二Hydro层，基片为透明树脂片。
实施例一：
第一SiO2层的厚度为72nm，第一ZrO2层的厚度为38nm，第二 SiO2层的厚度为22nm，第二ZrO2层的厚度为112nm，第一ITO层的厚度为11nm，第三SiO2层的厚度为100nm，第一Hydro层的厚度为16nm，第四SiO2层的厚度为122nm，第三ZrO2层的厚度为32nm，第五SiO2层的厚度为14nm，第四ZrO2层的厚度为75nm，第二ITO层的厚度为 12nm，第六SiO2层的厚度为85nm，第二Hydro层的厚度为16nm。
实施例二：
第一SiO2层的厚度为78nm，第一ZrO2层的厚度为32nm，第二 SiO2层的厚度为18nm，第二ZrO2层的厚度为116nm，第一ITO层的厚度为8nm，第三SiO2层的厚度为105nm，第一Hydro层的厚度为12nm，第四SiO2层的厚度为127nm，第三ZrO2层的厚度为27nm，第五SiO2层的厚度为10nm，第四ZrO2层的厚度为80nm，第二ITO层的厚度为 8nm，第六SiO2层的厚度为90nm，第二Hydro层的厚度为12nm。
实施例三：
第一SiO2层的厚度为75nm，第一ZrO2层的厚度为35nm，第二 SiO2层的厚度为20nm，第二ZrO2层的厚度为114nm，第一ITO层的厚度为10nm，第三SiO2层的厚度为103nm，第一Hydro层的厚度为15nm，第四SiO2层的厚度为125nm，第三ZrO2层的厚度为30nm，第五SiO2层的厚度为11.5nm，第四ZrO2层的厚度为77nm，第二ITO层的厚度为10nm，第六SiO2层的厚度为87nm，第二Hydro层的厚度为15nm。
以上详细描述了本实用新型的较佳具体实施例，应当理解，本领域的普通技术人员无需创造性劳动就可以根据本实用新型的构思做出诸多修改和变化，因此，凡本技术领域中技术人员依本实用新型的构思在现有技术的基础上通过逻辑分析、推理或者有限的实验可以得到的技术方案，皆应在由权利要求书所确定的保护范围内。