GPP工艺光刻机的制作方法

本实用新型涉及半导体芯片制造技术领域，尤其是一种GPP工艺光刻机。

背景技术：

GPP工艺广泛应用于半导体芯片制造行业，尤其是二极管芯片的制造，GPP工艺应用极为普遍。其中光刻工序的对位曝光过程是逐片进行的，采用普通双面光刻机，虽然对准精度高，但操作设备动作繁琐；吸片与吸版共用同一管路中的真空吸力，硅片凹凸不平整（GPP工艺的硅片均有此特性）的情况下容易造成硅片与光刻板之间间隙不均匀从而导致曝光不均匀；对位过程中现场小，“十”方向对准慢；硅片边缘与光刻板因版面图形遮挡视线不清楚经常发生错行；紫外热光源曝光灯，长时间使用需要特别注意设备降温；曝光后光刻版与硅片真空吸附时间长，取片困难，而且容易破损，效率难以提高。

技术实现要素：

为了克服现有的工艺光刻机制造成本高、操作复杂的不足，本实用新型提供了一种GPP工艺光刻机，

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种GPP工艺光刻机，包括第一冷光源曝光箱、第二冷光源曝光箱和光刻台，第一冷光源曝光箱和第二冷光源曝光箱为开口不漏光长方形箱体，第一冷光源曝光箱开口对面箱壁设有对位孔并置于光刻台桌面上方，第二冷光源曝光箱置于光刻台桌面下方，两个箱体开口合扣，光刻台中央设有一孔洞，孔洞连通第一冷光源曝光箱和第二冷光源曝光箱，第一冷光源曝光箱与第二冷光源曝光箱之间打造为曝光室，曝光室内设有电机，电机连接传动皮带，传动皮带两端分别伸入第一冷光源曝光箱和第二冷光源曝光箱，该GPP工艺光刻机相较于传统的光刻机结构更为简单，省去了昂贵的制造成本，操作起来简单高效，大大方便了员工的操作过程，提高了工作效率。

进一步的，包括第一冷光源曝光箱和第二冷光源曝光箱左侧设有箱门，能够随时对箱体内的情况进行检索与操作。

进一步的，包括第一冷光源曝光箱和第二冷光源曝光箱左右两侧各有一个散热口，第一冷光源曝光箱和第二冷光源曝光箱后方设有热气排风接口，有效防止光刻机在使用过程中出现过热现象而损坏设备，破坏曝光进程。

进一步的，包括第一冷光源曝光箱和第二冷光源曝光箱配有箱盖，防止灰尘进入箱体，而且有利于箱体的保存与运放，延长光刻机的使用寿命。

进一步的，包括第一冷光源曝光箱、第二冷光源曝光箱、箱门、散热口、热气排风接口和箱盖由不锈钢板材制成，产品坚固不易变形，在使用与存放过程中耐冲击、耐振动，大大加强了光刻机的使用年限。

本实用新型的有益效果是，在保持产品特性和可靠性的情况下，降低了制造成本，延长了产品的使用寿命，提升了工作人员的可操作性，减小了劳动强度，大大提高了工作效率。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是本实用新型的立体示意图；

图3是本实用新型的俯视图；

图4是本实用新型的仰视图；

图5是本实用新型的箱盖示意图。

图中1.第一冷光源曝光箱，2.第二冷光源曝光箱，3.光刻台，4.曝光室，5.对位孔，6.箱门，7.散热口，8.热气排风接口，9.电机，10.传动皮带，11.孔洞，12.箱盖。

具体实施方式

如图1~4所示，一种GPP工艺光刻机，包括第一冷光源曝光箱1、第二冷光源曝光箱2和光刻台3，两曝光箱为开口不漏光长方形箱体，且设有箱门6、箱盖12、散热口7和热气排风接口8，第一冷光源曝光箱1开口对面箱壁设有对位孔5并置于光刻台3桌面上方，第二冷光源曝光箱2置于光刻台3桌面下方，两个箱体开口合扣，光刻台3中央设有一孔洞11，孔洞11连通两个曝光箱，两曝光箱之间打造为曝光室4，曝光室4内设有电机9，电机9连接传动皮带10，传动皮带10两端分别伸入第一冷光源曝光箱1和第二冷光源曝光箱2。

操作时，首先将硅片固定在传动皮带10上，随后硅片上覆盖光刻版，通过对位孔5目视粗对位，通过外置显微镜手动微调整，然后启动电机9将硅片送入曝光室4进行曝光，曝光结束自动退片，取下硅片并重复操作，在曝光同时可进行下一片的对位，进一步节省时间，提高工作效率。

以上说明对本实用新型而言只是说明性的，而非限制性的，本领域普通技术人员理解，在不脱离所附权利要求所限定的精神和范围的情况下，可做出许多修改、变化或等效，但都将落入本实用新型的保护范围内。