一种高强度光学镜片的制作方法

文档序号:14711830发布日期:2018-06-16 00:33阅读:437来源:国知局
一种高强度光学镜片的制作方法

本实用新型涉及光学镜片技术领域,具体为一种高强度光学镜片。



背景技术:

光学玻璃是用高纯度硅、硼、钠、钾、锌、铅、镁、钙、钡等的氧化物按特定配方混合,在白金坩埚中高温融化,用超声波搅拌均匀,去气泡;然后经长时间缓慢地降温,以免玻璃块产生内应力,冷却后的玻璃块,必须经过光学仪器测量,检验纯度、透明度、均匀度、折射率和色散率是否合规格,合格的玻璃块经过加热锻压,成光学透镜毛胚。

光学镜片的运用十分广泛,在光学仪器的镜片和眼镜都能运用到,但是现有光学镜片的强度低,实用性差,降低了光学镜片的实用性,不便于使用者使用。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于提供一种高强度光学镜片,具备强度高和实用性很强的优点,解决了现有光学镜片的强度低和实用性差的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种高强度光学镜片,包括基片,所述基片的顶部固定连接有第一纳米膜,所述基片的底部固定连接有第二纳米膜,所述第一纳米膜和第二纳米膜均包括易洁层、耐磨层、加强层、防辐射层、防蓝光层、防反射层、增透层、抗氧化层,所述易洁层位于耐磨层的外侧,所述加强层位于耐磨层的内侧,所述防辐射层位于加强层的内侧,所述防蓝光层位于防辐射层的内侧,所述防反射层位于防蓝光层的内侧,所述增透层位于防反射层的内侧,所述抗氧化层位于增透层的内侧。

优选的,所述第一纳米膜与第二纳米膜的结构相同。

优选的,所述第一纳米膜与第二纳米膜关于基片呈中心对称设置。

优选的,所述第一纳米膜与第二纳米膜的厚度均小于零点一毫米。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果如下:

1、本实用新型通过基片、第一纳米膜、第二纳米膜、易洁层、耐磨层、加强层、防辐射层、防蓝光层、防反射层、增透层和抗氧化层的配合,解决了现有光学镜片的强度低和实用性差的问题,该光学镜片具备强度高和实用性很强的优点,增强了该光学镜片的实用性,便于使用者使用。

2、本实用新型通过耐磨层的设置,能够避免镜片刮伤,保证了镜片的清洗度,通过易洁层的设置,能够便于使用在擦洗,避免污渍残留,通过加强层的设置,能够加强该镜片的硬度,能够延长镜片的使用寿命。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图;

图2为本实用新型第一纳米膜的剖面图。

图中:1基片、2第一纳米膜、3第二纳米膜、4易洁层、5耐磨层、6加强层、7防辐射层、8防蓝光层、9防反射层、10增透层、11抗氧化层。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-2,一种高强度光学镜片,包括基片1,基片1的顶部固定连接有第一纳米膜2,基片1的底部固定连接有第二纳米膜3,第一纳米膜2与第二纳米膜3的结构相同,第一纳米膜2与第二纳米膜3的厚度均小于零点一毫米,第一纳米膜2与第二纳米膜3关于基片1呈中心对称设置,第一纳米膜2和第二纳米膜3均包括易洁层4、耐磨层5、加强层6、防辐射层7、防蓝光层8、防反射层9、增透层10和抗氧化层11,通过耐磨层5的设置,能够避免镜片刮伤,保证了镜片的清洗度,通过易洁层4的设置,能够便于使用在擦洗,避免污渍残留,通过加强层6的设置,能够加强该镜片的硬度,能够延长镜片的使用寿命,易洁层4位于耐磨层5的外侧,加强层6位于耐磨层5的内侧,防辐射层7位于加强层6的内侧,防蓝光层8位于防辐射层7的内侧,防反射层9位于防蓝光层8的内侧,增透层10位于防反射层9的内侧,抗氧化层11位于增透层10的内侧。

使用时,通过耐磨层5的设置,能够避免镜片刮伤,保证了镜片的清洗度,通过易洁层4的设置,能够便于使用在擦洗,避免污渍残留,通过加强层6的设置,能够加强该镜片的硬度,能够延长镜片的使用寿命,通过基片1、第一纳米膜2、第二纳米膜3、易洁层4、耐磨层5、加强层6、防辐射层7、防蓝光层8、防反射层9、增透层10和抗氧化层11的配合,解决了现有光学镜片的强度低和实用性差的问题,该光学镜片具备强度高和实用性很强的优点,增强了该光学镜片的实用性,便于使用者使用。

综上所述:该高强度光学镜片,通过基片1、第一纳米膜2、第二纳米膜3、易洁层4、耐磨层5、加强层6、防辐射层7、防蓝光层8、防反射层9、增透层10和抗氧化层11的配合,解决了现有光学镜片的强度低和实用性差的问题。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

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