技术特征：
技术总结
通过光刻过程形成重叠量测目标(T)。使用具有第一角度分布的辐射照射目标结构，获得所述目标结构的第一图像，所述第一图像是通过使用在第一方向(X)上衍射的辐射和在第二方向(Y)上衍射的辐射而形成。使用具有第二角度照射分布的辐射照射所述目标结构的第二图像(740(R))，所述第二角度照射分布与所述第一角度照射分布相同但被旋转90度。可以一起使用所述第一图像和所述第二图像，以便判别由所述目标结构的同一部分在所述第一方向上衍射的辐射与在所述第二方向上衍射的辐射。该判别允许在X和Y上独立地测量重叠和其他与不对称性有关的属性，甚至在该目标结构的同一部分内存在二维结构的情况下也是如此。
技术研发人员：M·J·J·杰克;K·巴塔查里亚
受保护的技术使用者：ASML荷兰有限公司
技术研发日：2017.11.27
技术公布日：2019.07.26