技术总结
一种曝光装置及曝光方法，在逐次曝光中不使生产能力下降而进行按每次拍摄的校准。曝光装置(100)将形成在掩模(M)上的图案经由投影光学系统(30)向形成在工件(W)上的多个拍摄区域依次转印。曝光装置(100)具备：检测形成在工件(W)上的第1拍摄区域的校准标记的第1检测部(51)；检测形成在工件(W)上的、相邻于第1拍摄区域的第2拍摄区域的校准标记的第2检测部(52)；控制部(62)，控制上述多个拍摄区域的转印。控制部同时进行由第1检测部对校准标记的检测和由第2检测部对校准标记的检测，基于第1检测部的检测结果及第2检测部的检测结果控制向第1拍摄区域及第2拍摄区域的转印。
技术研发人员：铃木启之;杉山茂久
受保护的技术使用者：优志旺电机株式会社
技术研发日：2018.03.29
技术公布日：2018.10.23