本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种减反层及其制作方法、显示装置。
背景技术：
随着显示技术的进步，对显示产品的显示效果的要求也越来越多，如减少反射、防炫以及防指纹等。其中，减反层(anti-reflection，AR层)和防指纹层(anti-fingerprints，AF层)是常用的功能膜层。在生产制程中，需要对显示产品的耐磨性进行检测，其中，水滴角测试是主要的测试方法之一。通常，当减反层表面形成的水滴角达到一定大小(如，大于20°)时，才有可能使减反层上形成的防指纹膜的耐磨性满足规格要求(如，利用钢丝棉在防指纹膜表面摩擦一定次数后，水滴角大于90°)。
但是，目前形成的减反层表面的疏水性较差，从而导致在减反层上形成防指纹层后，防指纹层的疏水性较差，进而导致防指纹层在受到摩擦后形成的水滴角较小，即，耐磨性较差。
技术实现要素：
本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种减反层及其制作方法、显示装置，以提高减反层表面的疏水性，从而提高防指纹层的疏水性，使得防指纹层在受到摩擦后形成较大的水滴角，即，提高防指纹层的耐磨性。
为了解决上述技术问题之一，本发明提供一种减反层的制作方法，包括：
在基板上形成减反材料层；
对所述减反材料层背离所述基板的表面进行疏水处理，以在所述减反材料层上形成呈预定规则排布的多个微凸起，经过疏水处理后的减反材料层即为所述减反层；其中，所述微凸起沿任意方向的尺寸均小于30nm。
优选地，所述在基板上形成减反材料层的步骤中，所述减反材料层的厚度大于目标厚度；
所述疏水处理包括：
对所述减反材料层进行研磨，直至所述减反材料层达到目标厚度。
优选地，对所述减反材料层进行研磨的步骤包括：沿预定方向，采用金属布或抛光液对所述减反材料层进行研磨。
优选地，所述在基板上形成减反材料层的步骤中，所述减反材料层的厚度与所述目标厚度之差在10nm～100nm之间。
优选地，所述减反材料层包括交替叠置的第一膜层和第二膜层，所述微凸起形成在所述第一膜层上；
所述第一膜层为氧化硅层，所述第二膜层为氮化硅层或五氧化二铌层。
优选地，在基板上形成减反材料层的步骤中，所述减反材料层采用镀膜工艺形成。
相应地，本发明还提供一种减反层，包括设置在基板上的减反材料层，所述减反材料层背离所述基板的表面上形成有呈预定规则排布的多个微凸起，所述微凸起沿任意方向的尺寸均小于30nm。
优选地，所述减反材料层包括交替叠置的第一膜层和第二膜层，所述微凸起形成在所述第一膜层上；
所述第一膜层为氧化硅层，所述第二膜层为氮化硅层或五氧化二铌层。
相应地，本发明还提供一种显示装置，包括显示面板和设置在所述显示面板出光侧的减反层，所述减反层为上述减反层，所述减反材料层位于所述基板背离所述显示面板的一侧。
优选地，所述减反层背离所述显示面板的一侧还设置有防指纹层。
附图说明
附图是用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本发明，但并不构成对本发明的限制。在附图中：
图1是本发明提供的减反层的制作方法流程图；
图2a至图2b是本发明中减反层的制作过程示意图；
图3是本发明提供的显示装置的示意图。
其中，附图标记为：
10、基板；20、减反材料层；201、第一膜层；202、第二膜层；21、微凸起；30、显示面板；40、防指纹层。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。
本发明提供一种减反层的制作方法，所述减反层用于显示装置中，以减小对外界环境光的反射，改善显示效果。图1是本发明提供减反层的制作方法流程图，图2a至图2b是本发明在制作减反层过程中的结构示意图。如图1至图2b所示，所述减反层的制作方法包括：
S1、在基板10上形成减反材料层20，如图2a所示。
S2、对减反材料层20背离所述基板的表面进行疏水处理，以在减反材料层20上形成呈预定规则排布的多个微凸起21，如图2b所示。经过疏水处理后的减反材料层20即为所述减反层；其中，微凸起21沿任意方向的尺寸均小于30nm。其中，所述预定规则可以为：多个微凸起21均匀分布，且每平方微米的区域内均设置有多个微凸起21。
现有技术在制作减反层时，直接在基板上形成一层减反材料层，并不对减反材料层进行疏水处理，而由于在基板上形成减反材料层的过程中，会受到杂质的影响或工艺水平的限制，因此，很容易导致减反材料层的表面形成尺寸较大、形状不规则且分布不均匀的凸起(如图2a所示)，从而导致减反层表面的疏水性较差；而后续的防指纹层通常是溶液固化后形成的膜层，因此，当减反层表面的疏水性较差时，会直接导致形成的防指纹层疏水性差，进而导致防指纹层无法满足耐磨性测试的要求(即，利用钢丝棉在膜层表面摩擦多次后，水滴角不满足测试要求)。
而本发明在制作减反层时，会对减反材料层20的表面进行疏水处理，以在减反材料层20表面形成规则排布且尺寸很小的微凸起21，从而改善减反层的表面形貌，提高减反层表面的疏水性，进而在后续形成防指纹层或其他膜层后，能够得到疏水性更高的膜层表面，从而在对防指纹层进行耐磨性测试时，能够形成较大的水滴角，即，使得减反层和防指纹层形成的复合膜层具有较好的耐磨性能。
下面对本发明的减反层的制作方法进行具体介绍。所述制作方法包括：
S1、在基板10上形成减反材料层20。
如图2a所示，减反材料层20可以包括多个膜层。具体地，减反材料层20包括交替叠置的第一膜层201和第二膜层202，第一膜层201为氧化硅层(SiO2)，第二膜层202为氮化硅层(SiN)或五氧化二铌层(Nb2O5)。由于氧化硅的耐磨性较好，因此，将最远离基板10的膜层设置为氧化硅层，即，第一膜层201。需要说明的是，第一膜层201和第二膜层202的数量不作限定，如图2a所示，减反材料层20可以包括两层第一膜层201和第二膜层202；当然，也可以包括一层第一膜层201和一层第二膜层202。
各第一膜层201和各第二膜层202可以采用镀膜工艺形成，以提高膜层的均一性和生产效率。当然，也可以采用涂覆(coating)等其他工艺形成。
另外，步骤S1中形成的减反材料层20的厚度大于目标厚度，以便于后续通过物理方式进行疏水处理。形成的减反材料层20的厚度与目标厚度差值可以在10～100nm之间。其中，可以将最远离基板10的第一膜层201的厚度制作的较大，而其余的各膜层按照所需厚度进行设置即可。
S2、对减反材料层20背离基板10的表面进行疏水处理，以在减反材料层20上形成呈预定规则排布的多个微凸起21，经过疏水处理后的减反材料层20即为所述减反层；其中，微凸起21沿任意方向的尺寸均小于30nm。更具体地，微凸起21的高度小于微凸起21沿与基板平行的任意方向的尺寸小于30nm。
具体地，步骤S2中的疏水处理包括：对减反材料层20进行研磨，直至减反材料层20达到目标厚度。更进一步地，对减反材料层20进行研磨的步骤包括：沿预定方向，采用较高硬度的金属布或抛光液对最远离基板10的第一膜层201进行研磨，以在第一膜层201上形成上述沿预定规则均匀排布的多个微凸起21。其中，利用抛光液对第一膜层201进行研磨即，将浸有抛光液的无尘布对第一膜层201进行研磨，或者，在第一膜层201上喷淋抛光液，并采用无尘布对第一膜层201进行研磨。抛光液中分布有粒径小于20nm的摩擦颗粒，从而可以将第一膜层201的表面均匀形成多个微凸起。
相应地，本发明还提供一种采用上述制作方法所制作的减反层，如图2b所示，所述减反层包括设置在基板10上的减反材料层20，减反材料层20背离基板10的表面上形成有呈预定规则排布的多个微凸起21，微凸起21沿任意方向的尺寸均小于30nm。具体地，微凸起21的高度小于微凸起21的直径小于30nm。
其中，减反材料层20包括交替叠置的第一膜层201和第二膜层202，微凸起21形成在第一膜层201上。第一膜层201为氧化硅层，第二膜层202为氮化硅层或五氧化二铌层。
相应地，本发明还提供一种显示装置，图3是本发明提供的显示装置的示意图，如图3所示，所述显示装置包括显示面板30和设置在显示面板30上的上述减反层，减反层位于显示面板30的出光侧，减反材料层20位于基板10背离显示面板30的一侧，其中，基板10可以用作设置在显示面板30出光侧的盖板。
进一步地，减反层背离显示面板30的一侧还设置有防指纹层40，用于减少油污、水汽附着在显示装置上。防指纹层40通过溶液法制成。
由于本发明制作的减反层的表面形成具有小尺寸且均匀分布的微结构形貌，提高减反层的疏水性，因此，在形成防指纹层之后，可以得到更疏水的表面形貌，从而在进行耐磨性测试时，能够形成较大的水滴角，即，提高显示装置屏幕的耐磨性能。在本发明中，对防指纹层进行耐磨性测试时，对膜层表面摩擦多次后，形成的水滴角基本不变，并保持大于110°。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。