金属线栅偏光片的制作方法及金属线栅偏光片与流程

本发明涉及偏光片技术领域，特别涉及一种金属线栅偏光片的制作方法及金属线栅偏光片。

背景技术

金属线栅偏光片透过入射光的能力远远大于传统偏光片，被普遍用于显示装置或者光传感装置中。而金属线栅偏光片制作方法一般采用在镀铝基板上形成pr薄膜，使用压印机台搭配模板完成压印，除底胶后刻蚀金属膜形成光栅；此方法制作复杂不说，对于目前技术限制，模板面积很难做大，因此单次压印只能得到小面积光栅区域，无法实现大面积压印，而且拼接会增加制作难度。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种比较简单的金属线栅偏光片的制作方法及金属线栅偏光片。

本发明提一种金属线栅偏光片的制作方法，所述方法包括，提供一模板，所述模板的一个表面设有多个平行的模齿和设于每两个模齿之间的纳米间隙，所述多个模齿包括刮涂端，

在基板表面涂布未固化的包含有光引发剂的聚合物层，

所述模板相对所述聚合物层呈一倾斜角，并通过所述刮涂端刮过所述聚合物层形成纳米栅结构，与此同时对所述纳米栅结构进行加热，得到固化后的纳米栅结构，所述纳米栅结构包括数个平行设置的线栅和间隔所述线栅的沟槽，

采用掠射角沉积方式在所述线栅的外表面上形成金属导电膜，使所述纳米栅结构形成金属线栅。

其中，所述模板上与所述模齿相对的另一个表面上设有加热器，所述聚合物层的初始端设置uv灯，

所述模板相对所述聚合物层呈一倾斜角，并通过所述刮涂端刮过所述聚合物层形成纳米栅结构，与此同时对所述纳米栅结构进行加热，得到固化后的纳米栅结构的步骤包括，从所述聚合物层的初始端刮过所述聚合物层，通过所述加热器和所述uv灯照射被所述刮涂端刮过的位置。

其中，所述聚合物包括环氧树脂或硅氧烷。

其中，所述聚合物层的厚度为100-500mm。

其中，所述模板为不透光材料制成。

其中，所述模齿为导热材料制成。

其中，所述采用掠射角沉积方式在所述线栅的外表面上形成金属导电膜的步骤包括：提供一金属靶材，

将所述基板倾斜第一角度露出所述数个线栅的侧面，然后进行第一次沉积，将所述数个线栅的部分表面上形成金属膜；

然后将所述基板倾斜第二角度，在所述数个线栅的另一部分表面上形成金属膜。

其中，所述光引发剂在uv光照时使液态聚合物发生聚合反应而固化且挥发多余溶剂。

本发明提供一种金属线栅偏光片，其包括基板及位于所述基板表面的纳米金属线栅，所述金属线栅包括聚合物基体和覆盖所述聚合物基体表面的金属膜。

其中，所述聚合物基体通过模板刮涂未固化的聚合物并加热形成，所述金属膜未掠射角沉积方式形成。所述金属线栅的周期小于等于100nm。

本发明所述的金属线栅偏光片的制作方制作成本。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例提供的金属线栅偏光片的制作方法步骤流程图。

图2-图5是本发明实施例提供的金属线栅偏光片的制作方法的步骤形成的结构的简易图。

图6是本发明金属线栅偏光片侧面示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参阅图1，本发明提供一种金属线栅偏光片的制作方法，用于制作金属线栅偏光片。所述方法包括，

步骤s1，提供一模板10，如图2和图3，所述模10的一个表面101设有多个平行的模齿12和设于每两个模齿12之间的纳米间隙14，所述多个模齿12包括刮涂端15。具体的，所述模板10为条形块体，并且所述模板10为不透光材料制成。所述多个模齿12为截面呈矩形的长条凸起，凸设于所述表面上，并且模齿的12的长度延伸方向与所述模板10的长度延伸方向垂直。所述刮涂端15为每个模齿12的朝向相同的端部，多个模齿12的刮涂端15构成齿爬结构。

步骤s2，在基板20表面涂布未固化的包含有光引发剂的聚合物层22。所述聚合物层22的聚合物为包括环氧树脂或硅氧烷。本实施例中，所述聚合物层22的厚度为100-500mm。所述未固化是指熔融状态或者溶液状态的包含有光引发剂的聚合物，而且溶液状态的情况下也可以使涂布后的聚合物呈层状停留在基板20的表面，以便后续加工。进一步的，所述光引发剂在uv光照时使液态聚合物发生聚合反应而固化且挥发多余溶剂。

步骤s3，如图4，所述模板10相对所述聚合物层22呈一倾斜角，并通过所述刮涂端15刮过所述聚合物层22形成纳米栅结构24，且刮涂过程中对所述纳米栅结构24进行加热，得到固化后的纳米栅结构24。所述纳米栅结构24包括数个平行设置的线栅241和间隔所述线栅241的沟槽242。本方法中，所述基板20是被承载于一载物平台40上，所述模板10可以通过机械手或者移动装置带动其运动并且进行刮涂。

进一步的，如图2，所述模板10上与所述模齿12相对的，也就是和表面101相对的另一个表面102上设有加热器11。所述聚合物层22的初始端设置uv灯30。所述uv灯30固定于所述载物平台40上，所述聚合物层22的初始端就是被所述模板10开始刮涂的端部。具体的，模板10从所述聚合物层22的初始端刮过所述聚合物层22，刮过的部分为纳米栅结构24，同时通过所述加热器11和所述uv灯30同时对被所述刮涂端15刮过的位置进行加热，使纳米栅结构24固化成型，也就是边刮涂边固化，未固化的聚合物层比较容易被所述模板10的模齿刮开，加工比较简单。进一步的，所述模齿12为导热材料制成，可以增加固化效果。所述模板10为不透光材料制成，可以保证足够的uv光被聚合物层吸收而固化，固化的过程中多余的溶剂被挥发。

步骤s4，如图5，采用掠射角沉积方式在所述线栅241的外表面上形成金属导电膜25，使所述纳米栅结构24形成金属线栅26。其中金属线栅26包括了有聚合物形成的所述的线栅(基体)和金属导电膜。本步骤中，包括：提供一金属靶材50；

将所述基板20倾斜第一角度露出所述数个线栅241的侧面，然后进行第一次沉积，将所述数个线241的部分表面a上形成金属膜；主要说通过物理气相沉积将金属靶材的金属沉积到所述部分表面a上。此步骤中，可以保证基板20上两个金属线栅26之间的基板表面无金属膜。

然后将所述基板20倾斜第二角度，在所述数个线栅241的另一部分表面b上形成金属膜。所述部分表面a上和所述部分表面b上的金属膜可以完全覆盖所述线栅241的外表面，就是所述侧金属导电膜25。所述金属导电膜为铝。

所述模板10的长度可以适应基板20的宽度，而在基板20上形成纳米栅结构的线栅241的长度不受所述模板10长度的限制，只要一直移动模板10就可以刮涂初想要的线栅长度，因此可以在快速连续状态下获得大面积纳米金属线栅26，这样就在做大面积的偏光片时，不需要拼接多个模板，减少加工难度。

请参阅图6，本发明提供一种金属线栅偏光片，其包括基板20及位于所述基板20表面的纳米金属线栅26，所述金属线栅26包括聚合物基体241和覆盖所述聚合物基体表面的金属膜25。

其中，所述聚合物基体241通过模板10刮涂未固化的聚合物并加热形成，所述金属膜掠射角沉积方式形成。所述金属线栅26的周期小于等于100nm。

本发明所述金属线栅偏光片的制作方法通过-纳米沟道直写成型的方式，即直接用模板刮涂基板上的未固化的聚合物层，通过控制模板与聚合物层的接触角度及下压力，利用模齿的刮涂端进行剑气聚合物层，同时在液体聚合物层被刮开的部分复合连接前照射uv光使其固化，形成高深度线栅结构，后利用掠入射沉积金属膜方法，在线栅表面镀金属膜，保证底层无金属，即可形成金属光栅；相较于现有技术的直接压印方式，工艺简单，而且不需要拼接模板就可以制作大面积的金属线栅，进而优化了加工工艺，减少了加工成本，更利于市场的竞争。

以上所揭露的仅为本发明较佳实施例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分流程，并依本发明权利要求所作的等同变化，仍属于发明所涵盖的范围。