显示面板的制作方法

文档序号:17354812发布日期:2019-04-09 21:32阅读:137来源:国知局
显示面板的制作方法

本发明涉及一种显示面板。



背景技术:

以往,作为将触控面板功能内嵌化的显示面板的一个示例已知有下述专利文献1所述的显示面板。专利文献1所述的显示面板具备:多个位置检测电极(触控电极),其形成在基板上;多个像素电极(pixel电极);及驱动器(源极驱动触控感测ic)。此外,位置检测电极经由位置检测布线(触控路径布线)与驱动器电连接。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2016-38594号公报



技术实现要素:

本发明所要解决的技术问题

近年来,对显示面板谋求高清晰化(高分辨率化)。因此在基板上使布线高密度化。由此,在基板上形成位置检测布线那样的布线时,需要留意不要干扰其他布线(例如源极布线、栅极布线),从而设计的自由度下降。

本发明是基于所述那样的事情而完成的,其目的在于,提供一种能够抑制连接于电极的布线干扰其他布线的情况的显示面板。

解决问题的手段

为了解决所述课题,本发明的显示面板的特征在于,具备:基板,其被区分为可显示图像的显示区域和与所述显示区域相邻的非显示区域;多个像素电极,其配置于所述显示区域;多个开关元件,其在所述显示区域内配置在比所述像素电极更靠下层,并与所述多个像素电极的各个电极电连接;电极,其配置于所述显示区域,并配置在与所述像素电极不同的层;布线,其设置于所述基板,在所述显示区域内配置在比所述开关元件更靠下层,并与所述电极电连接;端子部,其在所述基板中配置在比所述布线更靠上层并配置于所述非显示区域,所述端子部用于使所述布线与电气设备电连接;绝缘膜,其从所述显示区域横跨所述非显示区域地设置,在所述显示区域内介于所述布线与所述开关元件之间并在所述非显示区域内介于所述端子部与所述基板之间;及导电膜,其在所述基板中配置于所述布线与所述端子部之间的层且从所述布线横跨所述端子部地延伸并对所述端子部和所述布线进行连接,所述导电膜配置于所述绝缘膜的上层。

将布线配置在比开关元件更靠下层,从而能够抑制布线干扰连接于开关元件的其他布线的情况,能够进一步提高布线所涉及的设计的自由度。此外,在所述构成中布线与端子部经由导电膜连接。假设在绝缘膜未介于端子部与基板之间的构成中,会在从布线横跨端子部地延伸的导电膜的路径上产生绝缘膜的台阶,导电膜呈台阶状配置的结果为,会产生导电膜断线的可能性。在所述构成中,由于绝缘膜从显示区域横跨非显示区域地配置,因此能够抑制在导电膜上产生台阶的情况,能够抑制导电膜断线的情况。

发明效果

根据本发明,能够抑制连接于电极的布线干扰其他布线的情况。

附图说明

图1为利用沿着长边方向(y轴方向)的剖切线将本发明的第一实施方式所涉及的液晶显示装置剖切后的剖视图。

图2为表示阵列基板的显示区域的俯视图。

图3为表示阵列基板的剖视图(与沿图2的iii-iii线剖切后的图相对应)。

图4为示意地示出阵列基板的俯视图。

图5为表示显示区域与非显示区域的边界部分的剖视图(与沿图4的v-v线剖切后的图相对应)。

图6为表示比较例的显示区域与非显示区域的边界部分的剖视图。

具体实施方式

根据图1至图6对本发明的一个实施方式进行说明。如图1所示,液晶显示装置10具备:液晶面板11(显示面板);控制电路基板12(外部的信号供给源),其对液晶面板11所具备的驱动器17供给各种输入信号;柔性基板13(外部连接部件),其对液晶面板11和外部的控制电路基板12进行电连接;及背光源装置14(照明装置),其为对液晶面板11供给光的外部光源。如图1所示,背光源装置14具备:壳体18,其呈朝向表侧(液晶面板11侧)开口的近似箱形;光源(例如冷阴极管、led、有机el等),其配置在壳体18内且未图示;及光学部件,其以覆盖壳体18的开口部的方式配置且未图示。光学部件具有将从光源发出的光转换为面状等功能。液晶面板11(进而后述的玻璃基板31)被区分为可显示图像的显示区域a1和包围显示区域a1的非显示区域a2。

此外,如图1所示,液晶显示装置10具备用于收容相互组装的液晶面板11以及背光源装置14的表背一对外装部件15、16,在表侧的外装部件15形成有用于从外部目视确认液晶面板11的显示区域a1所显示的图像的开口部19。本实施方式所涉及的液晶显示装置10例如用于便携式电话(包含智能电话等)、笔记本电脑(包含平板型笔记本电脑等)、可佩戴终端(包含智能电话等)、便携式信息终端(包含电子书、pda等)、便携式游戏机、数字照片框等各种电子设备(未图示)。

如图1所示,液晶面板11具备:一对基板21、30,它们呈对置状;液晶层23(介质层),其配置于一对基板21、30间,并包含伴随着电场施加而光学特性发生变化的物质即液晶分子;及密封部件24,其配置于一对基板21、30之间并通过包围液晶层23对液晶层23进行密封。一对基板21、30中的表侧(正面侧、图1的上侧)的基板为cf基板21(对置基板),背侧(背面侧)的基板为阵列基板30(有源矩阵基板、元件侧基板)。另外,液晶层23所含的液晶分子例如水平取向,但并不限定于此。此外,在两基板21、30的外面侧分别粘贴有未图示的偏振片。cf基板21通过在玻璃基板(未图示)的内表面侧(液晶层23侧)层压滤色器、保护膜、取向膜(均未图示)来构成。滤色器具备呈矩阵状配置的r(红色)、g(绿色)、b(蓝色)的三色的着色部(未图示)。各着色部与阵列基板30的各像素对置配置。

如图2以及图3所示,阵列基板30通过在玻璃基板31(基板)的内表面侧利用光刻法层压形成各种膜来形成。此外,如图4所示,在玻璃基板31的一边(与显示区域a1相邻的非显示区域a2的一部分)设置有对液晶面板11进行驱动的驱动器17(面板驱动部)。如图2所示,在显示区域a1内作为开关元件的tft32(thinfilmtransistor:显示元件)以及像素电极33呈多个矩阵状(行列状)排列设置于玻璃基板31的内表面侧(液晶层23侧、图3中为上侧)。多个tft32配置在比像素电极33更靠下层,并连接于多个像素电极33的各个电极。tft32具有栅电极34、源电极35、漏电极36及沟道部37。

如图3所示,沟道部37以与栅电极34重叠的方式配置,栅极绝缘膜38介于沟道部37与栅电极34之间。也就是说,栅极绝缘膜38介于栅极布线41与源极布线42之间。沟道部37以使源电极35与漏电极36连接的方式配置。在沟道部37、源电极35以及漏电极36的上层层压有层间绝缘膜46和平坦化膜47,在平坦化膜47上设置有共用电极39,在共用电极39的表侧设置有像素电极33。层间绝缘膜40介于像素电极33与共用电极39之间。漏电极36经由图2所示的接触孔45与像素电极33电连接。栅极绝缘膜38、层间绝缘膜40、46例如由二氧化硅(sio2)以及氮化硅(sinx)的层压膜构成,但并不限定于此。

栅电极34、源电极35以及漏电极36例如由钛(ti)以及铜(cu)的层压膜构成,但并不限定于此。如图2所示,在tft32以及像素电极33的周围,栅极布线41以及源极布线42呈格子状配置。栅电极34与栅极布线41连接,源电极35与源极布线42连接。另外,源极布线42的一端部与驱动器17连接。由此,源电极35和驱动器17经由源极布线42电连接。此外,栅极布线41与驱动器17连接。由此,栅电极34和驱动器17经由栅极布线41电连接。

tft32基于从驱动器17分别供给至栅极布线41以及源极布线42的各种信号而被实施驱动,并伴随着该驱动控制向像素电极33供给电位。此外,阵列基板30具备沿着x轴方向延伸的容量布线43(cs布线)。容量布线43由与栅极布线41相同的材料构成,并利用与栅极布线41相同的制造工序形成在与栅极布线41相同的层。容量布线43具有在像素电极33之间形成静电电容并以恒定期间保持对像素电极33充电的电位的功能。

此外,在共用电极39例如形成有多条狭缝(未图示)。当伴随着对像素电极33进行充电而在相互重叠的像素电极33与共用电极39之间产生电位差时,在共用电极39的狭缝开口缘部与像素电极33之间,除产生沿阵列基板30的板面的成分以外,还会产生包含相对于阵列基板30的板面的法线方向的成分的边缘电场(倾斜电场),因此能够利用该边缘电场控制液晶层23所含的液晶分子的取向状态。也就是说,本实施方式所涉及的液晶面板11的动作模式为ffs(fringefieldswitching)模式。

本实施方式的液晶显示装置10为兼具显示图像的显示功能和基于所显示的图像对使用者输入的位置(输入位置)进行检测的触控面板功能(位置输入功能)的内嵌式的液晶显示装置。本实施方式的触控面板的检测方式为所谓的投影型静电电容方式,例如自电容方式。如图4所示,在阵列基板30的板面内设置有呈矩阵状排列配置的多个位置检测电极48(触控电极)。上述的共用电极39由多个位置检测电极48构成。

位置检测电极48(电极)在玻璃基板31的显示区域a1内设置于像素电极33的下层(与像素电极不同的层)。当液晶显示装置10的使用者的作为导电体的手指(位置输入体、未图示)靠近液晶面板11的表面(显示面)时,在该手指与位置检测电极48之间形成有静电电容。由此,由处于手指的附近的位置检测电极48检测到的静电电容不同于由处于远离手指的位置检测电极48的静电电容,因此能够基于此对手指的输入位置进行检测。位置检测电极48的一部分48a经由接触孔49(还参照图3)与位置检测布线50连接。另外,在图3中,例示了直接连接位置检测电极48和位置检测布线50的构成,但并不限定于此,例如,也可以是使用用于形成源极以及漏极的导电膜(源极金属以及漏极金属)、用于形成栅极的导电膜(栅极金属)间接地连接的构成。

如图4所示,位置检测布线50(布线)从位置检测电极48朝向驱动器17延伸,并与驱动器17电连接。在对检测位置检测电极48所涉及的输入位置进行控制时,控制电路基板12经由驱动器17以及位置检测布线50将用于检测输入位置的驱动信号供给至位置检测电极48,并经由驱动器17、位置检测布线50接收检测信号。也就是说,驱动器17构成为,分别对位置检测电极48供给驱动信号从而能够对位置检测电极48进行驱动。此外,驱动器17构成为,经由栅极布线41以及源极布线42与像素电极33电连接,在对显示图像进行控制时,分别对像素电极33供给驱动信号从而能够对像素电极33进行驱动。另外,栅极布线41经由未图示的引出线与驱动器17电连接。此外,多个源极布线42在俯视观察时朝向驱动器17会聚地延伸。

如图2所示,位置检测布线50在俯视观察时以沿着源极布线42延伸的方式配置。此外,如图3所示,位置检测布线50形成于玻璃基板31的表面。也就是说,位置检测布线50配置于最靠近玻璃基板31的层(最下层),更详细而言tft32配置在比栅电极34更靠下层(靠近玻璃基板31的侧)。作为绝缘膜的sog膜52介于位置检测布线50与tft32之间。另外,在sog膜52与栅极绝缘膜38之间设置有未图示的cap膜,在sog膜52与玻璃基板31(以及位置检测布线50)之间设置有未图示的cap膜。sog膜52例如为利用旋涂法涂布溶于有机溶剂的玻璃溶液并进行加热处理而形成的氧化硅膜。此外,作为cap膜例如能够使用与栅极绝缘膜38、层间绝缘膜40、46相同的材料(sio2、sinx等)。

如图5所示,位置检测布线50经由配置在位置检测布线50与端子部65之间的层的导电膜60与端子部65电连接。端子部65为用于使位置检测布线50与驱动器17(电气设备)电连接的端子部,并配置于非显示区域a2。驱动器17从表侧连接于端子部65。端子部65在玻璃基板31中配置在比位置检测布线50更靠上层,具体而言配置在与像素电极33相同的层。端子部65由与像素电极33相同的材质构成。另外,像素电极33、位置检测电极48、端子部65由ito(indiumtinoxide)、izo(indiumzincoxide)等透明电极膜构成。导电膜60主要配置在sog膜52与端子部65之间的层。具体而言,导电膜60的大部分配置在sog膜52上(sog膜52的上层),并从位置检测布线50横跨端子部65地延伸。换言之,sog膜52从显示区域a1横跨非显示区域a2地设置,在显示区域a1内配置在位置检测布线50与tft32之间的层并在非显示区域a2内配置在端子部65与玻璃基板31之间的层。sog膜52的上表面呈平面状。

导电膜60具有第一导电膜61a、61b和第二导电膜62。第一导电膜61a、61b配置在与栅极布线41相同的层且为与栅极布线41相同的材质。第二导电膜62配置在与源极布线42相同的层且为与源极布线42相同的材质。第一导电膜61a和第二导电膜62经由形成于栅极绝缘膜38的接触孔66(栅极绝缘膜侧接触孔)电连接。第一导电膜61b和第二导电膜62经由形成于栅极绝缘膜38的接触孔67(栅极绝缘膜侧接触孔)电连接。此外,端子部65和第二导电膜62经由贯穿层间绝缘膜40、平坦化膜47、层间绝缘膜46形成的接触孔68进行连接。

接着对本实施方式的效果进行说明。根据本实施方式,将位置检测布线50配置在比tft32更靠下层,从而能够抑制位置检测布线50干扰连接于tft32的其他布线(源极布线42、栅极布线41)的情况,能够进一步提高位置检测布线50的设计的自由度。此外,在本实施方式中位置检测布线50和端子部65经由导电膜60进行连接。如图6的比较例的阵列基板3所示,假设在sog膜52未配置于端子部65与玻璃基板31之间的构成中,在从位置检测布线50横跨端子部65地延伸的导电膜5的路径上不会产生sog膜52的台阶52a,配置在sog膜52的上层的导电膜5的第二导电膜4呈台阶状配置的结果为,会产生第二导电膜4断线的可能性。在所述构成中,由于sog膜52从显示区域a1横跨非显示区域a2地配置,因此能够抑制在sog膜52上、进而在导电膜60上产生台阶的情况,能够抑制导电膜60断线的情况。

此外,具备:连接于tft32的栅极布线41、连接于tft32的源极布线42、及介于栅极布线41与源极布线42之间的栅极绝缘膜38,导电膜60具有:配置在与栅极布线41相同的层且为与栅极布线41相同的材质的第一导电膜61a、61b、及配置在与源极布线42相同的层且为与源极布线42相同的材质的第二导电膜62,第一导电膜61a、62b与第二导电膜62经由形成于栅极绝缘膜38的接触孔66、67电连接。在形成栅极布线41的工序以及形成源极布线42的工序中能够形成导电膜60。此外,通过由第一导电膜61a和第二导电膜62构成导电膜60,能够进一步增大膜厚,能够实现低电阻化。

此外,能够容易地使sog膜52平坦化,因此作为形成于tft32的下层的膜是优选的。此外,端子部65配置在与像素电极33相同的层并由与像素电极33相同的材质的透明导电膜构成。因此在形成像素电极33的工序中能够形成端子部65。

<其他实施方式>

本发明并不限定于通过所述描述以及附图说明的实施方式,例如以下那样的实施方式也包含在本发明的技术范围内。

(1)在所述实施方式中,作为电极例示了位置检测电极48,作为布线例示了位置检测布线50,但并不限定于此。此外,也可以是不具备位置检测电极48的构成。在该情况下,例如,作为电极能够例示共用电极,作为布线能够例示连接于共用电极的布线。

(2)配置在位置检测布线50与tft32之间的绝缘膜并不限定于所述实施方式中例示的绝缘膜。

(3)位置检测布线50只要配置在玻璃基板31与tft32之间的层即可。

(4)层压在玻璃基板31上的各导电膜以及各绝缘膜的材质并不限定于所述实施方式中例示的材质,能够适当变更。

(5)对端子部65和位置检测布线50进行连接的导电膜60的结构并不限定于所述实施方式中例示的构成。例如,导电膜60也可以仅由一张导电膜构成。

(6)在所述实施方式中,例示了在端子部65连接有驱动器17的构成,但并不限定于此。在端子部65连接有电气设备即可,例如,也可以在液晶面板11连接有用于输入输出检査用的信号的检査装置。

(7)在所述实施方式中,例示了导电膜60从显示区域a1横跨非显示区域a2地延伸的构成,但并不限定于此。在所述实施方式中,位置检测布线50的端部也可以配置于非显示区域a2,在该情况下,导电膜60也可以仅配置于非显示区域a2。

符号说明

11…液晶面板(显示面板);31…玻璃基板(基板);32…tft(开关元件);33…像素电极;38…栅极绝缘膜;41…栅极布线;42…源极布线;48…位置检测电极(电极);50…位置检测布线(布线);52…sog膜(绝缘膜);60…导电膜;61a、61b…第一导电膜;62…第二导电膜;65…端子部;66、67…接触孔(栅极绝缘膜侧接触孔);a1…显示区域;a2…非显示区域。

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