光学薄膜及装饰件的制作方法

本实用新型涉及一种光学领域，尤其涉及一种光学薄膜及装饰件。

背景技术：

光学薄膜被广泛应用于多种领域，例如显示模组中的光学组件中，防伪元件中，或者应用于手机、平板电脑等消费型电子产品、家电、化妆品等的外壳和包装盒等的装饰件中。光学薄膜具有的微结构对自然光源或特定光源的光线具有反射、折射、散射或衍射等作用，从而能产生不同的光学效果，满足多个领域的光学要求。

光学薄膜包括微纳结构层，微纳结构层具有分布的复数图文纹理，复数图文纹理对光具有反射、折射等作用而产生光学效果。而当光学薄膜被应用于产品时，以常见的作为装饰膜而应用于产品外壳时，光学薄膜因要契合外壳的形状而会在外壳边缘被裁切，并由于裁切等原因致使边缘的图文纹理容易产生锯齿形的光学效果，此处称为锯齿纹。锯齿纹会使光学薄膜的光学效果不和谐，进而影响光学薄膜的功能发挥。例如，光学薄膜使用于装饰领域时，锯齿纹会影响光学薄膜的装饰效果。

技术实现要素：

基于此，有必要提供一种能消除锯齿纹的光学薄膜。

本实用新型的一个技术方案是：

一种光学薄膜，其包括承载层及设置于所述承载层的微纳结构层，所述微纳结构层包括分布延伸且具有间隙的微纳纹理，所述微纳纹理具有停止延伸的断部，相邻所述断部之间的间隙形成开口，所述微纳结构层还包括位于断部处和/或邻近所述断部的辅助纹理。

在其中一个实施例中，所述辅助纹理设置于所述开口处。

在其中一个实施例中，所述微纳结构层邻近所述断部延伸有不具有微纳纹理的空白区，所述辅助纹理设置于所述空白区。

在其中一个实施例中，所述开口的宽度大小不一致，和/或，所述开口的形状不一致。

在其中一个实施例中，所述辅助纹理为小短线。

在其中一个实施例中，所述小短线的线型与所述微纳纹理于所述断部处的线型一致，或者所述小短线偏置设置。

在其中一个实施例中，所述辅助纹理为折线状柱面镜，或者所述辅助纹理为排列的复数微透镜。

在其中一个实施例中，所述微纳纹理的断部位于所述微纳结构层的边缘。

在其中一个实施例中，所述微纳纹理的断部位于所述微纳结构层的非边缘，所述微纳结构层非边缘的预定处设置有空白区。

本实用新型还揭示一种装饰件，其包括如上述所述的光学薄膜。

本实用新型的有益效果：在断部处和/或邻近所述断部设置辅助纹理，可消除因微纳纹理间隙过大或因截断使间隙过大等产生的锯齿纹,从而提高光学薄膜的质量。

附图说明

图1为本实用新型光学薄膜的示意图；

图2为图1光学薄膜画圈部分的放大示意图；

图3为本实用新型另一种光学薄膜的示意图；

图4为图3光学薄膜画圈部分的放大示意图；

图5为本实用新型另一种光学薄膜的示意图；

图6为图5光学薄膜的细节放大示意图。

图7为本实用新型另一种光学薄膜的示意图；

图8为图6光学薄膜画圈部分的放大示意图。

具体实施方式

为了便于理解本实用新型，下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的较佳实施方式。但是，本实用新型可以通过许多不同的形式来实现，并不限于下面所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本实用新型的公开内容理解的更加透彻全面。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

本实用新型揭示一种光学薄膜，其包括承载层及设置于承载层的微纳结构层。微纳结构层包括分布延伸且具有间隙的微纳纹理。微纳纹理具有停止延伸的断部，相邻断部之间的间隙形成开口，微纳结构层还包括位于断部处和/或邻近断部的辅助纹理。微纳纹理出现断部后，断部之间的开口因宽度较大或者因被突然截断导致开口宽度增大等原因而产生锯齿纹，而位于断部处或邻近断部的辅助纹理可消除锯齿纹，进而提高光学薄膜的质量。

优选的，辅助纹理设置于断部处或者开口处，或者断部处和开口处均设置有辅助纹理。比如，辅助纹理排列设置，部分位于断部处，部分为开口处。辅助纹理位于断部处时，可以为与断部叠加或部分叠加，也可以为与断部重合或部分重合(也即共用或部分共用)。

优选的，微纳结构层邻近断部延伸有不具有微纳纹理的空白区，辅助纹理设置于空白区，也即辅助纹理邻近断部设置。部分辅助纹理可与断部接合，部分辅助纹理可延伸至开口内。

优选的，开口的宽度大于等于70微米，常见的如80微米、90微米等。间隙大于等于70微米的微纳纹理停止延伸而出现断部后容易在断部处出现锯齿纹，而设置微纳纹理后，即可消除锯齿纹。

优选的，开口的宽度大小不一致。因微纳纹理的分布、排列方式、排列角度、排列密度等原因，或因截断时，沿直线、曲线、弧线或折线等截断需求而导致微纳纹理之间的间隙大小不一致，可根据开口大小来分配辅助纹理的大小、数量、种类、排布方式等，以期即消除了锯齿纹，又使微纳纹理和辅助纹理在断部处具有相同的光学效果。

优选的，开口的形状不一致，包括部分不一致和全部不一致。如上相似原因，因微纳纹理排布原因或截断原因，开口呈现不一致的形状。开口形状不一致，需求的辅助纹理也可有区别。其他实施例中，开口的形状也可为不规则形状。

优选的，辅助纹理为小短线，优选的小短线为柱面镜。小短线可以为直线状柱面镜、曲线状柱面镜、弧形状柱面镜、折线状柱面镜等。小短线的线型与微纳纹理于所述断部处的线型一致，消除锯齿纹的同时，保证光学效果。或者小短线偏置设置，可根据微纳纹理于断部处的偏置情况设置小短线的偏置角度。优选的，复数小短线周期性排布，每个周期包含一根小短线，小短线的宽度占据小于等于一个周期长度的一半。例如，周期的长度为20-50微米，小短线的宽度为2-10微米，小短线的长度为30-100微米。小短线的长度可根据微纳纹理的宽度、间隙大小等因素决定，以消除锯齿纹。

优选的，辅助纹理为折线状柱面镜。折线状柱面镜的折线沿直线或弧线周期性延伸。每个周期包括一个顶点和两条边，每个周期的长度大于等于30微米。折线状柱面镜适用于断部处微纳纹理为弧形且间隙较大，折线状柱面镜即可以消除锯齿纹，也可以产生类弧形的光学效果与弧形状微纳纹理的光学效果相适应。

优选的，辅助纹理为复数微透镜。微纳结构层的开口设置有至少一组间隔排列成一排的微透镜。比如，微透镜的直径大于等于10微米，相邻两个微透镜之间的间隙为大于等于3微米。

优选的，微纳纹理的断部位于微纳结构层的边缘，比如上边缘、下边缘、左边缘及右边缘的一边或几个边。微纳纹理的断部位于微纳结构层的非边缘，微纳结构层非边缘的预定处设置有空白区，空白区是指不设置微纳纹理的区域。空白区为圆形、腰型、椭圆形、三角形、四边形、多边形等。比如，光学薄膜应用于手机后盖，在后盖的左上角预定处设置空白区，该空白区内可设置摄像头，则该光学膜的上边缘、下边缘和空白区周围设置有断部，断部、开口及空白区设置有辅助纹理。

举例，微纳纹理为排列设置的复数直线状柱面镜，微纳结构层于边缘处的微纳纹理被截断而形成断部，断部间形成开口，断部与开口处设置有复数小短线；微纳纹理为排列设置的复数直线状柱面镜，微纳结构层于边缘处的复数直线状柱面镜被截断而形成断部，断部间形成开口，开口处排列有复数球缺形微透镜；微纳纹理为复数CD纹，微纳结构层于边缘处的复数CD纹被截断而形成断部，断部间形成开口，开口处设置有折线状柱面镜；微纳纹理为复数CD纹，微纳结构层于非边缘处的复数CD纹被截断而形成断部，截断形成的空白区设置有辅助纹理。

优选的，微纳纹理为直线状柱面镜、曲线状柱面镜、弧线形柱面镜、折线状柱面镜、CD纹、微透镜等微纳光学结构。微纳纹理可以为凸起结构和/或凹陷结构。微纳纹理的截面为优弧弓形、三角形、四边形、梯形、多边形或不规则异形。

优选的，微纳结构层的材料可以是热固化胶或者光固化胶，通过压印或者光刻的方式形成。微纳结构层还可以包括压印或光刻后的残胶层，固化后，残胶层和承载层可以融合为一体结构。当然，微纳结构层也可以不具有残胶层。有些实施例中，残胶层可充当承载层的角色。承载层还可以为PET、PC、PMMA或PE任一一种或几种组合。比如承载层为PET层，则在PET层上涂布光固化胶，压印并固化后形成微纳结构层，并留有残胶层；也可以在PET层上通过打印等方式直接形成微纳结构层，并不具有残胶层。

优选的，光学薄膜还包括覆设于微纳结构层上的反射层和覆设于反射层上的着色层。反射层用于加强光学效果，着色层可为光学薄膜带来颜色。反射层的材料可以选自金属、金属氧化物、金属氧化物或非金属氧化物。着色层的材料可以选自着色材料、染色材料、金属材料、金属氧化物或非金属氧化物。

优选的，光学薄膜还包括设置于所述微纳结构层上的保护层，保护层的折射率与微纳结构层的折射率不同，其折射率差值大于等于0.5。

本实用新型还揭示一种装饰件，包括如上述所述的光学薄膜。

以下，请参图示，举例说明本实用新型的光学薄膜。

请参图1，揭示一种光学薄膜100，其包括承载层(未图示)及设置于承载层一侧的微纳结构层1。微纳结构层1包括分布延伸且具有间隙的微纳纹理11。微纳纹理11具有停止延伸的断部111，相邻断部111之间的间隙形成开口12，微纳结构层1还包括位于断部111处和开口12处的辅助纹理13。断部111设置于微纳结构层1的上边缘和下边缘。辅助纹理13为复数小短线131，小短线131为直线状柱面镜并周期性排布设置。开口形状一致，宽度相等。小短线131的设置可消除上边缘和下边缘的锯齿纹，并使微纳结构层包括上下边缘具有一致的光学效果。请参图2，断部111的宽度D1为80微米，开口12宽度W1为80微米，辅助纹理13的周期长度C1为40微米，小短线131的宽度d1为5微米，小短线的长度L1为40微米。小短线131周期性排布，也即相隔相同的距离规律排布，部分小短线131与断部111重合设置。图1和图2显示断部111和小短线131的排布，在产品上，有可能位于断部111内的小短线131与断点重合后并不显现，故只看见设置于间隙内的小短线131；也有可能部分小短线131与断部111叠加设置，能看见叠加后的小短线131、断部111和位于开口12内的小短线131。其他实施例中，辅助纹理为复数微透镜。比如，开口内设有一组间隔排列成一排的微透镜。微透镜的直径为20微米，相邻两个微透镜之间的间隙为3微米。

请参图3和图4，揭示一种光学薄膜200，其包括承载层(未图示)及设置于承载层一侧的微纳结构层2。微纳结构层2包括分布延伸其而具有间隙的微纳纹理21。微纳纹理21具有停止延伸的断部211，相邻断部211之间的间隙形成开口22，断部211和开口22处分布有辅助纹理23。微纳纹理21为间隔设置的复数直线状柱面镜，直线状柱面镜下边缘倾斜延伸至上边缘，并至上边缘和下边缘时被截断形成上下断部211。辅助纹理23为复数小短线231，小短线231为直线状柱面镜。小短线231沿微纳结构层2的上下边缘周期性排布，并部分小短线231与断部211完全重合和部分重合设置，部分小短线231与断部211接合设置。直线状柱面镜的宽度D2为80微米，间隙W2为80微米，小短线的周期长度C2为30微米，小短线的宽度d2为5微米，小短线的长度L2为40微米。

请参图5和图6，揭示一种光学薄膜300，其包括承载层(未图示)及设置于承载层一侧的微纳结构层3。微纳结构层3包括分布延伸且具有间隙的微纳纹理31。微纳纹理31具有停止延伸的断部311，相邻断部311之间的间隙形成开口32。微纳结构层3包括邻近断部311也即位于开口32处的辅助纹理33。微纳纹理31为间隔设置的复数CD纹，辅助纹理33为一段折线状柱面镜331。折线状柱面镜的折线沿直线周期性延伸，每个周期包括一个顶点和两条边，折线状柱面镜的两端分别连接微纳纹理31被截断后的两断部311，折线状柱面镜与断部311交接的地方具有小于一个周期的折线形状，以适应间隙长度。此实施例中，折线状柱面镜的周期长度C3为60微米，边线的夹角为45度，宽度d3为7微米。微纳纹理31的宽度D3为45微米。微纳纹理21为CD纹，且被沿着平行于切线的角度被截断，故形成的间隙较大，所以设置的调和纹理为一段折线状柱面镜，优点如下，1、可消除较大间隙带来的锯齿纹；2、折线状柱面镜具有的光学效果接近于微纳纹理具有的光学效果，调和因截断给微纳结构层的整体光学效果带来的影响；3、折线状柱面镜沿直线延伸，方便在直线边缘设置。

请参图7和图8，揭示一种光学膜400，其包括承载层(未图示)及设置于承载层一侧的微纳结构层4。微纳结构层4包括分布延伸且具有间隙的微纳纹理41。微纳结构层4在非边缘的中间某处被一个圆形空白区44截断。CD纹至空白区44边缘处为断部411，相邻断部411之间形成开口42，空白区44邻近断部411设置有辅助纹理43。微纳纹理41为间隔设置的CD纹，CD纹的部分纹理被一个圆形区域截断，形成一个不具有微纳纹理41的空白区44。辅助纹理43设置于空白区44邻近断部411的圆环设置，为周期性排列的复数小短线431，小短线431为直线状柱面镜。CD纹的宽度D4为80微米，CD纹的间隙W4为80微米，小短线431的周期长度C4为40微米，小短线的宽度d4为10微米，小短线的长度L4为50微米。部分小短线431与断部411接合。邻近断部411设置可消除因在微纳纹理21中设置空白区44而带来的锯齿纹。比如，光学薄膜400应用于手机后盖时，空白区44可设置摄像头等。

装饰件可包括基材和设置于基材的光学薄膜，基材可以为金属、玻璃等。光学薄膜还可以包括粘合至基材层的粘合层。例如，装饰件可以为手机后盖、平板电脑的后盖、冰箱外壳等，能使手机、平板电脑、冰箱等呈现预定的光学效果，且在边缘、与摄像头的边界、与显示屏的边界等被裁切的地方不会出现锯齿纹，具有完整的光学效果，从而具有高质量的装饰效果。

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，上面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在上面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于上面描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受上面公开的具体实施例的限制。并且，以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。