一种用于干式和沉浸式光刻机防微振基础座的制作方法

本实用新型涉及光刻机基础座
技术领域：
，特别涉及一种用于干式和沉浸式光刻机防微振基础座。
背景技术：
：在电子工业厂内特别是在半导体行业中，干式和沉浸式光刻机是该行业中最为昂贵和最为精密的设备之一，决定半导体产品制造工艺水平高低的关键因素；该设备对工作环境极为严格；目前中国内陆的电子工业厂，特别是半导体厂，该设备并没有普及使用，主要还是出于设备价格昂贵以及其配套的基础座工艺复杂等因素。其中由于该光刻机对基础座制作精度和刚性要求非常严格，所以该设备配套的基础座制作也非常复杂，导致在引进该设备时，其配套的基础座能否顺利到位也是各个电子厂所遇到的难题。综述上述问题，这些问题直接导致中国内陆地区目前半导体制造工艺水平难以提升至很高水平，从而影响了国内的半导体行业整体制造工艺水平快速提升的步伐。因此设计一款用于干式和沉浸式光刻机配套的基础座的难题亟待解决。技术实现要素：本实用新型的目的就在于为了解决上述问题，而提供一种用于干式和沉浸式光刻机防微振基础座。为了解决上述问题，本实用新型提供了一种技术方案：一种用于干式和沉浸式光刻机防微振基础座，包括光源媒介基础座、主体单元基础座和晶圆处理单元基础座；所述主体单元基础座的具体结构为：包括主体单元基础座吊装孔内嵌铁块、主体单元基础座防震脚配件、主体单元基础座不锈钢配件、主体单元基础座测试点内嵌铁块、主体单元基础座内嵌配件C型钢和主体单元基础座面体；所述主体单元基础座面体上表面以矩形阵列的方式设有四个主体单元基础座吊装孔内嵌铁块、主体单元基础座防震脚配件和主体单元基础座不锈钢配件；所述主体单元基础座面体四周外侧表面上均固定连接有一个主体单元基础座内嵌配件C型钢；所述主体单元基础座面体上表面上设有一个主体单元基础座测试点内嵌铁块；所述晶圆处理单元基础座的具体结构为：包括晶圆处理单元基础座防震脚配件、晶圆处理单元基础座面体、晶圆处理单元基础座测试点内嵌铁块和晶圆处理单元基础座内嵌配件C型钢；所述晶圆处理单元基础座面体上表面两侧均设有一个晶圆处理单元基础座防震脚配件；所述晶圆处理单元基础座面体上表面上设有一个晶圆处理单元基础座测试点内嵌铁块；所述晶圆处理单元基础座面体外侧表面的四周上均设有一个晶圆处理单元基础座内嵌配件C型钢；所述光源媒介基础座、主体单元基础座和晶圆处理单元基础座之间的具体连接关系为：所述主体单元基础座设置在光源媒介基础座上表面中端位置，所述晶圆处理单元基础座设置在光源媒介基础座上表面右侧位置。作为优选，所述光源媒介基础座的具体结构为：包括第一光源媒介基础座面板活动板、第二光源媒介基础座面板活动板、第三光源媒介基础座面板活动板、第四光源媒介基础座面板活动板、第五光源媒介基础座面板活动板、第六光源媒介基础座面板活动板、第七光源媒介基础座面板活动板、光源媒介基础座主面板、第八光源媒介基础座面板活动板、第九光源媒介基础座面板活动板、第十光源媒介基础座面板活动板、第一光源媒介基础座支撑立柱、第二光源媒介基础座支撑立柱、第三光源媒介基础座支撑立柱、第四光源媒介基础座支撑立柱、L形不锈钢配件、光源媒介基础座钢构框架、第五光源媒介基础座支撑立柱、不锈钢连接件、第六光源媒介基础座支撑立柱；所述光源媒介基础座主面板的上表面左侧设有第二光源媒介基础座面板活动板、第三光源媒介基础座面板活动板、第四光源媒介基础座面板活动板、第五光源媒介基础座面板活动板和第六光源媒介基础座面板活动板；所述光源媒介基础座主面板的上表面右侧设有第十光源媒介基础座面板活动板；所述所述光源媒介基础座主面板的上表面中端位置上设有第一光源媒介基础座面板活动板、第七光源媒介基础座面板活动板、第八光源媒介基础座面板活动板和第九光源媒介基础座面板活动板；所述光源媒介基础座主面板的下表面上设有第一光源媒介基础座支撑立柱、第二光源媒介基础座支撑立柱、第三光源媒介基础座支撑立柱、第四光源媒介基础座支撑立柱、第五光源媒介基础座支撑立柱和第六光源媒介基础座支撑立柱；所述第四光源媒介基础座支撑立柱与光源媒介基础座主面板之间连接有一个L形不锈钢配件；所述光源媒介基础座主面板外侧表面四周上设有光源媒介基础座钢构框架；所述光源媒介基础座主面板下表面上连接有一个不锈钢连接件。本实用新型的有益效果：本实用新型具有结构合理简单、生产成本低、安装方便，功能齐全，能满足该光刻机对基础座的刚性需求和防微震要求，以及提供其配套设备的安装环境，确保了中国内陆地区在引进干式和沉浸式光刻机的时候，能够提供干式和沉浸式光刻机正常运行所需要的环境，从而保证了该光刻机的顺利引进以及安装运行，对中国内陆地区的整个电子厂特别是半导体厂，使其中国内陆地区整个行业的半导体产品制作工艺水平得到很好改善，并且同时也提速了中国内陆的半导体制造工艺达到国际水平的进程。附图说明为了易于说明，本实用新型由下述的具体实施及附图作以详细描述。图1为本实用新型的结构示意图。图2为本实用新型的三维示意图。图3为本实用新型光源媒介基础座的俯视图。图4为本实用新型光源媒介基础座的仰视图。图5为本实用新型主体单元基础座的结构示意图。图6为本实用新型晶圆处理单元基础座的结构示意图。图7为本实用新型的定位示意图结构示意图。具体实施方式如图1至图7所示，本具体实施方式采用以下技术方案：一种用于干式和沉浸式光刻机防微振基础座，包括光源媒介基础座1、主体单元基础座2和晶圆处理单元基础座3；所述主体单元基础座2的具体结构为：包括主体单元基础座吊装孔内嵌铁块201、主体单元基础座防震脚配件202、主体单元基础座不锈钢配件203、主体单元基础座测试点内嵌铁块207、主体单元基础座内嵌配件C型钢211和主体单元基础座面体216；所述主体单元基础座面体216上表面以矩形阵列的方式设有四个主体单元基础座吊装孔内嵌铁块201、主体单元基础座防震脚配件202和主体单元基础座不锈钢配件203；所述主体单元基础座面体216四周外侧表面上均固定连接有一个主体单元基础座内嵌配件C型钢211；所述主体单元基础座面体216上表面上设有一个主体单元基础座测试点内嵌铁块207；所述晶圆处理单元基础座3的具体结构为：包括晶圆处理单元基础座防震脚配件31、晶圆处理单元基础座面体32、晶圆处理单元基础座测试点内嵌铁块33和晶圆处理单元基础座内嵌配件C型钢36；所述晶圆处理单元基础座面体32上表面两侧均设有一个晶圆处理单元基础座防震脚配件31；所述晶圆处理单元基础座面体32上表面上设有一个晶圆处理单元基础座测试点内嵌铁块33；所述晶圆处理单元基础座面体32外侧表面的四周上均设有一个晶圆处理单元基础座内嵌配件C型钢36；所述光源媒介基础座1、主体单元基础座2和晶圆处理单元基础座3之间的具体连接关系为：所述主体单元基础座2设置在光源媒介基础座1上表面中端位置，所述晶圆处理单元基础座3设置在光源媒介基础座1上表面右侧位置。如图1至图7所示，所述光源媒介基础座1的具体结构为：包括第一光源媒介基础座面板活动板101、第二光源媒介基础座面板活动板102、第三光源媒介基础座面板活动板103、第四光源媒介基础座面板活动板104、第五光源媒介基础座面板活动板105、第六光源媒介基础座面板活动板106、第七光源媒介基础座面板活动板107、光源媒介基础座主面板108、第八光源媒介基础座面板活动板109、第九光源媒介基础座面板活动板110、第十光源媒介基础座面板活动板111、第一光源媒介基础座支撑立柱112、第二光源媒介基础座支撑立柱113、第三光源媒介基础座支撑立柱114、第四光源媒介基础座支撑立柱115、L形不锈钢配件116、光源媒介基础座钢构框架117、第五光源媒介基础座支撑立柱118、不锈钢连接件119、第六光源媒介基础座支撑立柱120；所述光源媒介基础座主面板108的上表面左侧设有第二光源媒介基础座面板活动板102、第三光源媒介基础座面板活动板103、第四光源媒介基础座面板活动板104、第五光源媒介基础座面板活动板105和第六光源媒介基础座面板活动板106；所述光源媒介基础座主面板108的上表面右侧设有第十光源媒介基础座面板活动板111；所述所述光源媒介基础座主面板108的上表面中端位置上设有第一光源媒介基础座面板活动板101、第七光源媒介基础座面板活动板107、第八光源媒介基础座面板活动板109和第九光源媒介基础座面板活动板110；所述光源媒介基础座主面板108的下表面上设有第一光源媒介基础座支撑立柱112、第二光源媒介基础座支撑立柱113、第三光源媒介基础座支撑立柱114、第四光源媒介基础座支撑立柱115、第五光源媒介基础座支撑立柱118和第六光源媒介基础座支撑立柱120；所述第四光源媒介基础座支撑立柱115与光源媒介基础座主面板108之间连接有一个L形不锈钢配件116；所述光源媒介基础座主面板108外侧表面四周上设有光源媒介基础座钢构框架117；所述光源媒介基础座主面板108下表面上连接有一个不锈钢连接件119。本实用新型的制作工艺以及组装流程如下：第一步：主体单元基础座制作首先按照设计要求进行制作主体单元基础座面体216的模具，模具中需留意主体单元基础座防震脚配件的位置，确保其配件能正确安装；在主体单元基础座面体216的模具基础上进行内嵌钢筋以及周边侧板焊接，同时进行其配套的主体单元基础座内嵌配件C型钢211的焊接,其中主体单元基础座内嵌配件C型钢211材质为不锈钢；并且在主体单元基础座面体216对应防震脚位置预埋铁块。然后在模具中进行适当等级的水泥混凝土灌浆，并且对其进行28天的养护。然后在主体单元基础座面体216的对应位置进行主体单元基础座防震脚配件202安装，确保其配件被牢牢锁紧，其中主体单元基础座防震脚配件202材质均需为不锈钢；对主体单元基础座面体216其他防震脚孔位位置进行攻牙，开防震脚孔；对主体单元基础座面体216进行侧面面涂，以及上表面进行环氧层和/或防静电层处理。第二步：晶圆处理单元基础座制作首先按照设计要求进行制作晶圆处理单元基础座面体32的模具，模具中需留意晶圆处理单元基础座防震脚配件31的位置，确保其配件能正确准确安装；在晶圆处理单元基础座面体32的模具基础上进行内嵌钢筋以及周边侧板焊接，同时进行其配套的晶圆处理单元基础座内嵌配件C型钢36的焊接，其中晶圆处理单元基础座内嵌配件C型钢36材质为不锈钢；以及在晶圆处理单元基础座面体32对应防震脚位置预埋铁块。然后在模具中进行适当等级的水泥混凝土灌浆，并且对其进行28天的养护。然后在晶圆处理单元基础座面体32的对应位置进行晶圆处理单元基础座防震脚配件31的安装，确保其配件被牢牢锁紧，其中晶圆处理单元基础座防震脚配件31材质均需为不锈钢；以及对晶圆处理单元基础座面体32上其他防震脚孔位位置进行攻牙，开防震脚孔；对晶圆处理单元基础座面体32进行侧面面涂，以及上表面进行环氧层和/或防静电层处理。第三步：依据干式和沉浸式光刻机基础座设计进行光源媒介基础座制作；第四步，依据干式和沉浸式光刻机基础座设计对晶圆处理单元基础座3，主体单元基础座2，光源媒介基础座1进行组装和连接，确保其重要的几个防震脚孔位之间的相对位置(允许的误差范围为±0.5mm)。对于干式光刻机基础座的防震脚孔位相对位置如下表所示：名称尺寸[mm]名称尺寸[mm]A14527A82285A21197A91940A32573A101094A4753A11423A51338A121940A62813A132087A7377A143417对于沉浸式光刻机基础座的防震脚孔位相对位置如下表所示：从而完成本实用新型干式和沉浸式基础座的制作以及组装流程。以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点，本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内，本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。当前第1页1 2 3