一种分光光度计滤光片的制作方法

本实用新型涉及光度测量仪器技术领域，尤其涉及一种分光光度计滤光片。

背景技术：

分光光度计是依据LAMB-BEER定律，测量液体或气体中溶解的特定物质的仪器。通过测量一定波长的单色光在穿过待测物质后被吸收的程度，可以计算出待测物质的浓度。因此，测量时需要将光源发出的白光转换为单色光，而分光光度计滤光片则用于对入射光的波长进行校正。

通常，现有的例如美能达分光光度计的滤光片通常采用白片与黑色的滤光罩，其白片上没有高透防指纹膜(AF膜)，易造成白片脏污从而导致滤光片的反射率不稳定，而滤光罩体积大，占用空间多，使滤光片在校正入射光波长时不方便使用。因此发明出一种反射率稳定且方便校正的分光光度计滤光片成为了本领域技术人员亟待解决的技术问题。

技术实现要素：

本实用新型提供了一种分光光度计滤光片，解决了现有技术中无法兼具反射率稳定且滤光片方便校正的技术问题。

本实用新型提供了一种分光光度计滤光片，包括玻璃基板、低反射膜堆和高反射膜堆；

所述低反射膜堆和所述高反射膜堆通过磁控溅射的方式沉积附着到所述玻璃基板的两侧上；

所述低反射膜堆由第一高透防指纹膜层和减反射膜叠加形成；

所述高透防指纹膜层与所述减反射膜沿所述低反射膜堆向高反射膜堆的方向叠加在所述玻璃基板的第一侧；

所述高反射膜堆由黑色膜层、高反射膜层和第二高透防指纹膜层叠加形成；

所述黑色膜层、所述高反射膜层和所述第二高透防指纹膜层沿所述低反射膜堆向高反射膜堆的方向叠加在所述玻璃基板的第二侧；

所述减反射膜的单面反射率为0.01％～0.6％；

所述黑色膜层的单面反射率为0.01％～1％；

所述高反射膜层的单面反射率为96％～100％。

优选的，所述黑色膜层通过具有第一折射率的硅膜和具有第二折射率的氧化硅膜叠加形成；

所述硅膜为经过发黑处理的硅膜；

每层所述氧化硅膜均为经过发黑处理的氧化硅膜；

所述第一折射率与所述第二折射率的差值为0.01～0.3。

优选的，所述高反射膜层为硅膜、氧化硅膜、二氧化钛膜或五氧化二铌膜中的一种。

优选的，所述第一高透防指纹膜层与第二高透防指纹膜层的厚度均为8nm。

优选的，所述减反射膜的厚度为5-200nm。

优选的，所述黑色膜层的厚度为5-200nm。

优选的，所述高反射膜层的厚度为5-200nm。

从以上技术方案可以看出，本实用新型实施例具有以下优点：

本实用新型提供了一种分光光度计滤光片，包括玻璃基板、低反射膜堆和高反射膜堆；所述低反射膜堆通过第一高透防指纹膜层和减反射膜叠加形成；所述高反射膜堆通过黑色膜层、高反射膜层和第二高透防指纹膜层叠加形成。当入射光照沿玻璃基板的第一侧向玻璃基板的第二侧照在滤光片表面上时(正面测试)，由于减反射膜对入射光线具有较低的单面反射率(单面反射率：采用奥林巴斯反射率测试系统对厚度都超过0.1mm的两种物质的接触面在入射光波长为360nm到740nm进行测试，所得到的反射率平均值)，99％的光线进入位于玻璃基板第二侧的高反射膜堆，且由于黑色膜层和玻璃基板之间的单面反射率很低，其主要光线被黑色膜层吸收掉。因此，使得当入射光进行正面测试时，该分光光度计滤光片的反射率不高于2％，光纤透过率不高于2％。

当入射光沿玻璃基板的第二侧向玻璃基板的第一侧照在滤光片表面上时(背面测试)时，在黑色膜层的干涉与高反射膜堆的高反射作用下，该滤光片对入射光线起到很高的反射作用，使得该分光光度计滤光片在进行背面测试时，其反射率至少高达96％。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1为本实用新型提供的分光光度计滤光片的示意图；

其中，附图标记为：

1、第一高透防指纹膜层；2、减反射膜；3、玻璃基板；4、黑色膜层；5、高反射膜层；6、第二高透防指纹膜层。

具体实施方式

本实用新型提供了一种分光光度计滤光片，解决了现有技术中无法兼具反射率稳定且滤光片方便校正的技术问题。

为使得本实用新型的实用新型目的、特征、优点能够更加的明显和易懂，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，下面所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而非全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1，本实用新型提供了一种分光光度计滤光片，包括玻璃基板3、低反射膜堆和高反射膜堆；

低反射膜堆和高反射膜堆通过磁控溅射的方式沉积附着到玻璃基板3的两侧上；

低反射膜堆由第一高透防指纹膜层1和减反射膜2叠加形成；

高透防指纹膜层1与减反射膜2沿低反射膜堆向高反射膜堆的方向叠加在玻璃基板的第一侧；

高反射膜堆由黑色膜层4、高反射膜层5和第二高透防指纹膜层6叠加形成；

黑色膜层4、高反射膜层5和第二高透防指纹膜层6沿低反射膜堆向高反射膜堆的方向叠加在玻璃基板的第二侧；

减反射膜2的单面反射率为0.01％～0.6％；

黑色膜层4的单面反射率为0.01％～1％；

高反射膜层5的单面反射率为96％～100％。

当入射光照沿玻璃基板的第一侧向玻璃基板的第二侧照在滤光片表面上时(正面测试)，由于减反射膜对入射光线具有较低的单面反射率99％的光线进入位于玻璃基板第二侧的高反射膜堆，且由于黑色膜层和玻璃基板之间的单面反射率很低，其主要光线被黑色膜层吸收掉。因此，使得当入射光进行正面测试时，该分光光度计滤光片的反射率不低于2％，光纤透过率不高于2％。

而当入射光沿玻璃基板的第二侧向玻璃基板的第一侧照在滤光片表面上时(背面测试)时，在黑色膜层的干涉与高反射膜堆的高反射作用下，该滤光片对入射光线起到很高的反射作用，使得该分光光度计滤光片在进行背面测试时，其反射率高达96％。

更进一步的，第一高透防指纹膜层1与第二高透防指纹膜层6具体为一种氟碳硅化合物，对上述两种高透防指纹膜层进行钢丝绒耐摩擦测试，其摩擦次数可达到至少5000次。

更进一步的，减反射膜2采用具有两种不同折射率的材料叠加而成，并通过蒸镀或磁控溅射设置在玻璃基板的第一侧，上述两种材料为氧化硅和/或氧化铌膜层。

进一步的，黑色膜层通过具有第一折射率的硅膜和具有第二折射率的氧化硅膜叠加形成；

硅膜为经过发黑处理的硅膜；

每层氧化硅膜均为经过发黑处理的氧化硅膜；

第一折射率与第二折射率的差值为0.01～0.3。

进一步的，高反射膜层为硅膜、氧化硅膜、二氧化钛膜或五氧化二铌膜中的一种。

进一步的，第一高透防指纹膜层与第二高透防指纹膜层的厚度均为8nm。

进一步的，减反射膜的厚度为5-200nm。

进一步的，黑色膜层的厚度为5-200nm。

进一步的，高反射膜层的厚度为5-200nm。

以上所述，以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的精神和范围。