一种双载台芯片图形曝光机的制作方法

本实用新型涉及一种双载台芯片图形曝光机。

背景技术：

现有的双载台芯片图形曝光机采用一个承片台和一个光刻部，因此光刻完成后承片台远离光刻部，需要重新换片调角度才能用于光刻；而承片台远离光刻部到换片后回到光刻部这段时间，光刻部处于停止工作状态，此种承片台供料方式不利于提升承片台的工作效率。

技术实现要素：

为提升双载台芯片图形曝光机的工作效率，本实用新型提出一种双载台芯片图形曝光机技术方案。

本实用新型的技术方案为：一种双载台芯片图形曝光机，包括，

底座；

第一承片台，通过第一滑轨连接于底座；

第二承片台，通过第二滑轨连接于底座；

光刻部，固定于底座；第一承片台能够沿第一滑轨运动到光刻部正下方；第二承片台能够沿第二滑轨运动到光刻部正下方。

进一步的，所述双载台芯片图形曝光机还包括，

固定于光刻部的第一视觉系统，用于调整第一承片台上圆片偏转角度；第一承片台能够沿第一滑轨运动到第一视觉系统；

固定于光刻部的第二视觉系统，用于调整第二承片台上圆片偏转角度；第二承片台能够沿第二滑轨运动到第二视觉系统。

进一步的，所述第一滑轨平行于第二滑轨，所述第一滑轨和第二滑轨分布于光刻部两侧。

进一步的，所述第一滑轨与第二滑轨正对应连接，所述第一承片台能够运动到第二滑轨，所述第一承片台靠近第二承片台一侧设置有防撞元件/第二承片台靠近第一承片台的一侧设置有防撞元件。

进一步的，所述双载台芯片图形曝光机还包括，

连接有第一驱动电机的第一驱动螺杆，连接于底座，用于驱动第一承片台沿第一滑轨运动；

连接有第二驱动电机的第二驱动螺杆，连接于底座，用于驱动第二承片台沿第二滑轨运动。

本实用新型的有益效果在于：采用第一承片台和第二承片台共同为光刻部供料的方式，当第一承片台上的物料完成光刻后并离开光刻部后，第二承片台移动到光刻部进行光刻；或者第二承片台完成光刻后，第一承片台移动到光刻部；从而减小光刻部空闲时间，提升双载台芯片图形曝光机的工作效率。

附图说明

图1为本实用新型双载台芯片图形曝光机结构示意图。

具体实施方式

为便于本领域技术人员理解本实用新型的技术方案，下面将本实用新型的技术方案结合具体实施例作进一步详细的说明。

如图1所示，一种双载台芯片图形曝光机100，包括，

底座20；

第一承片台30，通过第一滑轨31连接于底座20，第一承片台30能够沿所述第一滑轨31滑动到预设位置，本实施例中包括取放片位置，调片位置和光刻位置；

第二承片台40，通过第二滑轨41连接于底座20，第二承片台40能够沿所述第二滑轨41滑动到预设位置，本实施例中包括取放片位置，调片位置和光刻位置；

光刻部50，固定于底座20，用于完成光刻工序；第一承片台30能够沿第一滑轨31运动到光刻部50正下方，保证第一承片台30上的圆片能够经光刻部50完成光刻工序；第二承片台40能够沿第二滑轨41运动到光刻部50正下方，保证第二承片台40上的圆片能够经光刻部50完成光刻工序；采用第一承片台30和第二承片台40共同为光刻部50供料的方式，当第一承片台30上的物料完成光刻后并离开光刻部50后，第二承片台40移动到光刻部50进行光刻，从而减小光刻部50空闲时间，提升双载台芯片图形曝光机100的工作效率；同时，设置第一承片台30和第二承片台40相对于光刻部50沿水平方向对称布置，使双载台芯片图形曝光机100机构美观。

如图1所示，所述双载台芯片图形曝光机100还包括，

固定于光刻部50的第一视觉系统32，用于调整第一承片台30上圆片偏转角度；第一承片台30能够沿第一滑轨31运动到第一视觉系统32；完成对圆片偏转调整，从而第一承片台30上的圆片运动到光刻部50后只有微小的偏转量需要调节，甚至不需要调节偏转就能用于光刻；减少了光刻部50调整圆片偏转角度占用的时间，从而提升双载台芯片图形曝光机100的工作效率；

固定于光刻部50的第二视觉系统42，用于调整第二承片台40上圆片偏转角度；第二承片台40能够沿第二滑轨41运动到第二视觉系统42；完成对圆片偏转调整，从而第二承片台40上的圆片运动到光刻部50后只有微小的偏转量需要调节，甚至不需要调节偏转就能用于光刻；减少了光刻部50调整圆片偏转角度占用的时间，从而提升双载台芯片图形曝光机100的工作效率。

如图1所示，所述第一滑轨31平行于第二滑轨41，所述第一滑轨31和第二滑轨41分布于光刻部50两侧；在双载台芯片图形曝光机100整体体积较小的前提下，保证第一承片台30和第二承片台40有最远的距离，防止第一承片台30和第二承片台40碰撞；特别是第一承片台30（或第二承片台40）完成光刻工序后，运动最少的时间就能够保证不与第二承片台40（或第一承片台30）碰撞；生产效率高，使用安全可靠。

如图1所示，所述第一滑轨31与第二滑轨41正对应连接，所述第一承片台30能够运动到第二滑轨41，等同为第一承片台30和第二承片台40同轨设置（第一滑轨31与第二滑轨41为同一滑轨的不同部分）；所述第一承片台30靠近第二承片台40一侧设置有防撞元件60/第二承片台40靠近第一承片台30的一侧设置有防撞元件60；防撞元件60用于防止第一承片台30与第二承片台40刚性碰撞。

如图1所示，所述双载台芯片图形曝光机100还包括，

连接有第一驱动电机33的第一驱动螺杆34，连接于底座20，用于驱动第一承片台30沿第一滑轨31运动；

连接有第二驱动电机43的第二驱动螺杆44，连接于底座20，用于驱动第二承片台40沿第二滑轨41运动；

通过第一驱动电机33驱动第一承片台30滑动，同时第二驱动电机43驱动第二承片台40滑动；便于实现对第一承片台30和第二承片台40的自动化控制。

以上是本实用新型的较佳实施例，不用于限定本实用新型的技术方案。应当认可，本领域技术人员在理解了本实用新型技术方案后所作的非创造性变形或改变，应当也属于本实用新型的保护内容。