一种用于紫外曝光的固定座的制作方法

本实用新型涉及紫外光应用技术领域，特别是涉及一种用于紫外曝光的固定座。

背景技术：

为了各种电子设备或其他设备的壳体具有更好的外观效果，往往需要在壳体基板的表面喷涂油墨层，并对预定位置油墨层进行曝光固化，对于非预定区域的油墨层，进行掩膜处理，在壳体基板表面形成由油墨层固化得到的花纹图案。但是对于某些透明的壳体基板而言，紫外光线可穿透油墨层和基板，照射至基板下方的固定基座上，固定基座反射紫外光线后，会导致非预定区域的油墨层固化，进而导致壳体基板表面形成油墨层花纹失败的问题。

技术实现要素：

本实用新型的目的是提供一种用于紫外曝光的固定座，解决了固定基座反射紫外光线导致非预定区域的油墨层固化，进而导致基板表面形成油墨层花纹失败的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种用于紫外曝光的固定座，包括底座本体；

所述底座本体上表面设置有对待曝光透明基板进行限位的限位装置；所述底座本体上表面还设置有可吸收紫外光的UV吸收层。

其中，所述UV吸收层包括SiO2膜层和Nb2O5膜层，其中，所述SiO2膜层和所述底座本体上表面贴合设置，所述Nb2O5膜层和所述SiO2膜层表面贴合设置。

其中，所述UV吸收层为多层所述SiO2膜层和所述Nb2O5膜层交替堆叠形成的膜层，且所述SiO2膜层和所述Nb2O5膜层总膜层数不少于10层。

其中，所述UV吸收层包括所述SiO2膜层和所述Nb2O5膜层交替堆叠形成的10层膜层，且由所述底座本体上表面向上的方向所述UV吸收层各膜层的厚度依次为100～150nm、50～90nm、40～80nm、50～90nm、100～200nm、40～70nm、100～130nm、20～50nm、40～80nm、60～90nm。

其中，所述限位装置为吸盘。

其中，所述底座本体的轮廓为圆角轮廓。

本实用新型所提供的用于紫外曝光的固定座，在底座本体的上表面设置UV吸收层，那么，当对待曝光的基板进行曝光处理时，紫外光线穿透油墨层和基板之后，照射至底座本体的上表面后即可被UV吸收层吸收，而不会再次反射至基板上的油墨层上，使得油墨层固化。因此，本实用新型提供的固定座，能够有效避免由于紫外光线反射造成的油墨层固化位置难以控制的问题，使得基板表面的油墨层图案具有更好的外观效果。

附图说明

为了更清楚的说明本实用新型实施例或现有技术的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例提供的紫外曝光固定座的结构示意图；

图2为本实用新型实施例提供的UV吸收层的紫外光线反射率曲线的示意图。

具体实施方式

为了使本技术领域的人员更好地理解本实用新型方案，下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步的详细说明。显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图1所示，图1为本实用新型实施例提供的紫外曝光固定座的结构示意图，该固定座可以包括：

底座本体1；其中，该底座本体1上表面设有对待曝光的透明基板进行限位的限位装置，该底座本体1上表面还设有可吸收紫外光的UV吸收层2。

具体地，本实施例中所指的待曝光的透明基板是指需要对透明基板特定区域进行曝光处理，为了便于理解，下面以对油墨层进行曝光固化为例进行说明。

例如，在透明基板上设置油墨层，将透明基板特定位置的油墨层进行紫外光照射固化，那么被固化的油墨层即可形成一定的固化图案。

在实际操作过程中，为了更好地控制油墨层被固化的区域，需要对透明基板上的油墨层进行掩膜处理，进而达到对非掩膜区域的油墨层照射紫外光线固化油墨层的目的。

但是，因为紫外光线照射至油墨层后并不是完全被油墨层所吸收，会存在部分紫外光线透过油墨层照射至透明基板下方的固定座的表面。常规的固定座基本采用金属材质，具有很强的反射光线的能力，因此，照射至固定座表面的光线均大部分再次被反射至透明基板上，并使得无需固化的油墨层发生固化，进而影响油墨层图案的形成效果。

因此，本实施例中，在固定座的底座本体1上表面设置可吸收紫外光的UV吸收层2，避免了紫外光线在底座本体1表面的反射，从而保证了透明基板上固化油墨层的固化效果。

可选地，在本实用新型的另一具体实施例中，还可以包括：

UV吸收层2包括SiO2膜层和Nb2O5膜层，其中，SiO2膜层和底座本体1上表面贴合设置，Nb2O5膜层和SiO2膜层表面贴合设置。

SiO2膜层和Nb2O5膜层分别属于高反射率膜层和低反射率膜层，通过将两种膜层进行配合设定两种膜层的厚度，达到能够尽可能多的吸收紫外光线的目的。

可选地，在本实用新型的另一具体实施例中，UV吸收层2为多层所述SiO2膜层和Nb2O5膜层交替堆叠形成的膜层，且SiO2膜层和Nb2O5膜层总膜层数不少于10层。

如图2所示，图2为本实用新型实施例提供的UV吸收层的紫外光线反射率曲线的示意图。由图2所示，当SiO2膜层和Nb2O5膜层的总膜层数达到10层以上时，就能够将绝大部分的紫外光线进行吸收。当然本实用新型中也可以交替设置更多层数的SiO2膜层和Nb2O5膜层，能够进一步地提升对紫外光线的吸收效果。

具体地，对于SiO2膜层和Nb2O5膜层交替堆叠形成的10层膜层，且由底座本体1上表面向上的方向UV吸收层2各膜层的厚度依次为100～150nm、50～90nm、40～80nm、50～90nm、100～200nm、40～70nm、100～130nm、20～50nm、40～80nm、60～90nm。

需要说明的是，现有技术中也存在其他材料形成的能够吸收UV光的膜层，但是往往材料复杂，造价成本高。本实用新型中提供的UV吸收层2对紫外光具有较好的吸收效果，且易于获得，成本低。

可选地，在本实用新型的另一具体实施例中，所述底座本体1上的限位装置为吸盘3。

在固定透明基板时，只需要将透明基板按压在该吸盘3上即可稳定吸附固定。

可选地，底座本体1的轮廓可以为圆角轮廓。

考虑到直角轮廓反射光线的能力更强，为了尽可能地减少紫外光线的反射，可以将该底座本体1的轮廓设置成圆角轮廓。

本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其它实施例的不同之处，各个实施例之间相同或相似部分互相参见即可。