1.一种辐射源，包括：
燃料供给装置，被配置为供给燃料；
激发装置，被配置为将所述燃料激发成等离子体；
收集器，被配置为收集由所述等离子体发射的辐射并且将所述辐射引导至束出口；
碎片缓解系统，被配置为收集由所述等离子体生成的碎片，所述碎片缓解系统具有一部件，所述部件具有从中穿过的管道；以及
温度控制系统，被配置为通过选择性地加热或冷却穿过所述管道循环的热传递流体来选择性地增加或降低所述部件的温度。
2.根据权利要求1所述的辐射源，其中所述温度控制系统可操作在第一模式中，以将所述部件冷却至低于所述燃料的熔点的第一温度，并且可操作在第二模式中，以将所述部件加热至高于所述燃料的所述熔点的第二温度。
3.根据权利要求1或2所述的辐射源，其中所述热传递流体包括水。
4.根据权利要求3所述的辐射源，其中所述热传递流体处于大于大气压的压力，期望大于20巴。
5.根据权利要求1所述的辐射源，其中所述热传递流体基本上由空气、人造空气或氮气构成。
6.根据权利要求5所述的辐射源，其中所述温度控制系统包括热交换器，所述热交换器被配置为将来自源自所述部件的热传递流体的热量传递到去往所述部件的热传递流体。
7.根据权利要求6所述的辐射源，其中所述温度控制系统包括在所述热交换器的冷侧上的主动流量控制装置。
8.根据前述权利要求中的任一项所述的辐射源，还包括围绕所述收集器和碎片缓解系统的真空腔室，并且其中所述温度控制系统的所有主动流量控制装置都在所述真空腔室的外部。
9.根据前述权利要求中任一项所述的辐射源，其中所述部件选自由源腔室壁、遮蔽构件、洗涤器、叶片、热屏蔽、用于燃料供给轨迹的护罩、液滴捕捉器和碎片桶构成的组。
10.根据前述权利要求中任一项所述的辐射源，其中所述碎片缓解系统包括多个部件，每个部件均具有从中穿过的管道，并且所述温度控制系统包括多个可独立控制的回路，所述多个可独立控制的回路被配置为使所述热传递流体循环通过相应的部件。
11.根据权利要求10所述的辐射源，其中所述多个可独立控制的回路包括第一回路，所述第一回路被配置为将第一组部件维持在低于所述燃料的所述熔点的温度处，并且将第二组部件维持在高于所述燃料的所述熔点的温度处。
12.根据前述权利要求中任一项所述的辐射源，其中所述碎片缓解系统包括多个部件，每个部件均具有从中穿过的管道，并且所述温度控制系统包括一回路，所述回路被配置为使所述热传递流体循环通过串联的多个所述部件。
13.根据前述权利要求中任一项所述的辐射源，其中所述燃料供给装置包括液滴生成器，所述液滴生成器被配置为供应锡的液滴作为燃料。
14.根据前述权利要求中的任一项所述的辐射源，其中所述激发源包括激光器。
15.一种光刻设备，包括：
根据前述权利要求中任一项所述的辐射源；
照射系统，被配置为利用来自所述辐射源的辐射来照射图案形成装置；以及
投影系统，被布置成将图案从所述图案形成装置投影到衬底上。
16.一种真空腔室，包括：
真空腔室壁，包括在其间限定间隙的第一壁层和第二壁层，其中所述第一壁层经受热源，并且所述第二壁层经受冷却源；
气体供给装置，连接到所述间隙并且被配置为向其供应气体；以及
控制器，连接到所述气体供给装置，并且被配置为控制所述间隙中的所述气体的压力，以便控制跨所述真空腔室壁的热流。
17.根据权利要求16所述的真空腔室，其中所述控制器被配置为将所述间隙中的所述气体的所述压力控制在从0.01pa至500pa的范围内。
18.根据权利要求16或17所述的真空腔室，其中所述间隙具有在从1mm至10mm范围内的宽度，期望地为2mm至5mm。
19.根据权利要求16、17或18中任一项所述的真空腔室，其中所述气体供给装置被配置为供应选自由氢气、氦气、氮气、氩气及其混合物构成的组的气体。
20.根据权利要求16至19中的任一项所述的真空腔室，其中所述第一壁层和/或所述第二壁层由选自由铝、钼、钨、钢、铜、镍及其合成物构成的组的材料制成。
21.根据权利要求16至19中任一项所述的真空腔室，其中所述第一壁层和/或所述第二壁层由选自由氮化硼、氮化铝、氧化铝、碳化硼、石墨和石英组成的组的材料制成。
22.根据权利要求16至21中任一项所述的真空腔室，其中所述第一壁层和/或所述第二壁层在限定所述间隙的表面上具有多个叶片。
23.根据权利要求22所述的真空腔室，其中所述第一壁层和/或所述第二壁层具有与至少一个叶片交叉的凹槽。
24.根据权利要求16至23中任一项所述的真空腔室，其中所述间隙被分成多个段，并且所述控制器被配置为独立地控制每个段中的所述气体的所述压力。
25.根据权利要求16至24中任一项所述的真空腔室，其中所述气体供给装置包括用于控制进入所述间隙的所述气体的流量的阀，并且所述控制器被配置为控制所述阀。
26.根据权利要求16至25中任一项所述的真空腔室，还包括真空泵，所述真空泵连接到所述间隙并且被配置为从所述间隙抽出气体，并且其中所述控制器被配置为控制所述真空泵。
27.根据权利要求16至26中任一项所述的真空腔室，还包括热屏障，以将所述第一壁层与所述真空腔室壁的相邻部分隔离。