技术特征：
技术总结
本公开提供了一种光刻投影物镜最佳焦面检测装置及方法，其装置包括：照明装置、分光装置、透镜阵列、掩模板、反射器件、光电探测装置和控制器；照明装置产生准直的光束，经分光装置透射，透镜阵列聚焦至掩模板进行空间滤波至光刻投影物镜，反射器件反射通过光刻投影物镜的聚焦光束；光电探测装置，探测所述反射器件反射光束经所述掩模板空间滤波后的光束强度并发出光束强度信号；控制器连接所述工件台和所述光电探测装置，控制所述工件台运动和/或采集所述光电探测装置探测的光束强度信号。本公开利用反射器件在光刻投影物镜光轴方向的移动，根据各个视场反射光强的变化，得到光刻投影物镜的最佳焦面位置。
技术研发人员：许嘉俊;刘志祥;邢廷文;林妩媚
受保护的技术使用者：中国科学院光电技术研究所
技术研发日：2019.01.10
技术公布日：2019.04.05