一种不锈钢高反射率的反射片及其加工工艺的制作方法

本发明涉及一种反射片，特别涉及一种不锈钢高反射率的反射片及其加工工艺，属于背光源技术领域。

背景技术：

反射片是目前显示屏背光源中的反射片，目前的反射片都是实用pep材质或者塑料材质，这两种材质的反射片反射率在95%左右，反射率不够高，其二这种塑胶材质的反射片平整性差，容易变形，其三这两种材质在厚度上有局限性，其一厚度在0.08mm以上，如果更薄的要求达不到。一般电子显示屏的led背光源由反射片、柔性电路板及led组件、反射片、导光板、扩散片、第一增光片、第二增光片和遮光片组成，由于反射片由不锈钢片组成，而反射片是塑胶材质，反射片是单独的反射片，在目前手机等电子产品追求越来越薄，而增加一层反射片整体还是会增加整体手机的厚度。反射片的主要作用是将漏出导光板底部的光线高效率且无损耗地反射，从而降低光耗损，减少用电量，提高液晶显示器的光饱和度。因此，提高反射片的反射率，降低反射片的厚度，提高反射片的组装良率非常重要。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种不锈钢高反射率的反射片及其加工工艺，将不锈钢材质加工后达到更高的反射率，整个结构代替了传统的反射片结构，由于不锈钢材质很普遍，因此极大降低了成本，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种不锈钢高反射率的反射片，包括不锈钢基材，所述不锈钢基材的顶端为不锈钢抛光表面，所述不锈钢抛光表面的顶部设有光学反射层，所述不锈钢基材的底端设有高散热、高磁屏蔽、低电阻层。

作为本发明的一种优选技术方案，所述光学反射层从内向外依次通过设有的第一真空镀钛膜、第一真空镀银膜和真空光学多层镀膜组成，所述真第一空镀钛膜、第一真空镀银膜和真空光学多层镀膜的厚度分别为：0.003-0.005μm、0.003-0.005μm和1-2μm。

作为本发明的一种优选技术方案，所述高散热、高磁屏蔽、低电阻层从内向外依次通过设有的第二真空镀钛膜、第二真空镀银膜、真空镀铜膜和真空镀镍膜组成，所述第二真空镀钛膜、第二真空镀银膜、真空镀铜膜和真空镀镍膜的厚度分别为：0.003-0.005μm、0.003-0.005μm、1-3μm和0.003-0.005μm。

一种用于不锈钢高反射率的反射片的加工工艺，具体步骤如下：

s1：取出杂质等影响反射物质；

s2：热处理取出材料内应力，首先将材料在450～650℃的温度下预热0.5～2小时，再加热到950～1050℃后，淬火处理，随后以500～650℃的温度，回火1～3小时；

s3：卷材平面连续抛光

平面连续抛光：利用自由散粒磨料在反射片被加工面及磨盘基面上相对运动，使反射片表面变得非常高的平整度及光滑度；

s4：真空镀银

采用磁控溅射方式镀银，将膜材涂层材料做为靶阴极，利用氩离子轰击银靶材，产生阴极溅射，把靶材原子溅射到工件上形成银沉积层。

s5：真空镀多层光学膜

在高真空的条件下加热反射片，使光学材料蒸发并凝结于反射片表面。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明一种不锈钢高反射率的反射片及其加工工艺，具有以下有益效果：

1）、通过不锈钢基材、光学反射层相配合可以使反射片具备较好的反射功能，直接降低了整体厚度，更加薄，另外光学反射层包括真空镀钛膜、真空镀银膜和真空光学多层镀膜，反射率也得到提高，由于不锈钢平整度高于塑胶，平整度得到显著提升，不锈钢基材采用不锈钢材质制造，不锈钢材质加工后达到更高的反射率；

2）、不锈钢基材的顶部的底部分别设有光学反射层和散热层，可以避免在长时间使用后出现氧化磨损等现象；

3）、高散热、高磁屏蔽、低电阻层包括真空镀钛膜、真空镀银膜、真空镀铜膜和真空镀镍膜，通过真空镀钛膜、真空镀银膜、真空镀铜膜和真空镀镍膜可以使散热层具有高散热、高磁屏蔽、低电阻功能。

附图说明

图1为本发明的结构示意图；

图中：1、不锈钢基材；2、不锈钢抛光表面；3、光学反射层；4、高散热、高磁屏蔽、低电阻层；5、第一真空镀钛膜；6、第一真空镀银膜；7、真空光学多层镀膜；8、第二真空镀钛膜；9、第二真空镀银膜；10、真空镀铜膜；11、真空镀镍膜。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参阅图1，本发明提供了一种不锈钢高反射率的反射片，包括不锈钢基材1，不锈钢基材1的顶端为不锈钢抛光表面2，不锈钢抛光表面2的顶部设有光学反射层3，不锈钢基材1的底端设有高散热、高磁屏蔽、低电阻层4。

优选的，光学反射层3从内向外依次通过设有的第一真空镀钛膜5、第一真空镀银膜6和真空光学多层镀膜7组成，真第一空镀钛膜5、第一真空镀银膜6和真空光学多层镀膜7的厚度分别为：0.003-0.005μm、0.003-0.005μm和1-2μm，在节约成本和发射片轻薄的同时，使得发射片具备较高的反射率。

优选的，高散热、高磁屏蔽、低电阻层4从内向外依次通过设有的第二真空镀钛膜8、第二真空镀银膜9、真空镀铜膜10和真空镀镍膜11组成，第二真空镀钛膜8、第二真空镀银膜9、真空镀铜膜10和真空镀镍膜11的厚度分别为：0.003-0.005μm、0.003-0.005μm、1-3μm和0.003-0.005μm，在节约成本和发射片轻薄的同时，使得发射片具备散热、高磁屏蔽、低电阻功能，继而提高发热片的功能性。

一种用于不锈钢高反射率的反射片的加工工艺，具体步骤如下：

s1：取出杂质等影响反射物质，如cs；

s2：热处理取出材料内应力，首先将材料在450～650℃的温度下预热0.5～2小时，再加热到950～1050℃后，淬火处理，随后以500～650℃的温度，回火1～3小时；

s3：卷材平面连续抛光（反射率提高到65%--70%）；

平面连续抛光：利用自由散粒磨料在反射片被加工面及磨盘基面上相对运动，使反射片表面变得非常高的平整度及光滑度；

s4：真空镀银（真空内离子清洗再镀银）

采油磁控溅射方式镀银，将膜材涂层材料做为靶阴极，利用氩离子轰击银靶材，产生阴极溅射，把靶材原子溅射到工件上形成银沉积层。

s5：真空镀多层光学膜

在高真空的条件下加热反射片，使光学材料蒸发并凝结于反射片表面。

加工制作本不锈钢材质的反射片可以根据电子产品需要设计厚度在0.03—0.1mm，可以将厚度做到更薄。

具体的，通过设有的真空镀钛膜、真空镀银膜和真空光学多层镀膜7可以实现反射片功能，同时降低了反射片的整体厚度，更加薄，且采用不锈钢基材1代替pep材质或者塑料材质，可以提高反射率，同时不锈钢基材1的平整度高于塑胶，不易发生变形，反射片在使用过程中，通过光学反射层3和高散热、高磁屏蔽、低电阻层4可以避免在长时间使用后出现氧化磨损等现象，反射片在使用过程中，通过高散热、高磁屏蔽、低电阻层4可以起到散热的效果，且通过设有的第二真空镀钛膜8、第二真空镀银膜9、真空镀铜膜11和真空镀镍膜12可以使高散热、高磁屏蔽、低电阻层4具有高散热、高磁屏蔽、低电阻功能，继而提高发热片的功能性，其中真空镀钛膜、真空镀银膜可以根据产品型号对散热性能的要求是否进行该层镀膜，增加这两层镀膜可以增加散热性能。

综上所述：本发明不锈钢高反射率的反射片及其加工工艺，本发明将不锈钢材质加工后达到更高的反射率，整个结构代替了传统的反射片结构，由于不锈钢材质很普遍，因此极大降低了成本。

在本发明的描述中，需要理解的是，指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定，对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。