一种内层板曝光机及其标记方法与流程

文档序号:20942768发布日期:2020-06-02 19:42阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种内层板曝光机,其包括运动平台、对位机构和曝光机构,所述对位机构和曝光机构置于所述运动平台的上方,所述运动平台包括运动机构和基板台面,其特征在于:其还包括标记机构,所述标记机构包括设置于所述基板台面一侧边缘左右对称的多个标记装置和控制所述标记装置的标记控制装置,所述标记控制装置根据所述内层板的大小控制所述标记装置位置的选择。

2.根据权利要求1所述的曝光机,其特征在于:所述标记装置包括靠近中间位置的第一标记装置和位于左侧垂直边缘或者右侧垂直边缘的第二标记装置,所述第二标记装置自所述左侧边缘或者右侧边缘向中间位置设置。

3.根据权利要求2所述的曝光机,其特征在于:所述第二标记装置之间的间隔相同或者不同。

4.根据权利要求1-3所述的任一内层板曝光机的标记方法,其特征在于:所述标记控制装置根据所述内层板的大小,选择至少两个对应的标记装置对内层板进行标记,所述标记装置在内层板背面形成的内层对位标记与其相邻边缘的距离不同。

5.根据权利要求4所述的标记方法,其特征在于:选择至少一邻近所述中间位置的标记装置。

6.根据权利要求5所述的标记方法,其特征在于:根据所述内层板的尺寸,在与中间位置相对的另一侧边缘选择与所述中间位置标记装置标记的内层对位标记与边缘距离不同的标记装置。

7.根据权利要求4所述的标记方法,其特征在于:在与中间位置相对的另一侧边缘选择至少两个标记装置进行标记。

8.根据权利要求4所述的标记方法,其特征在于:邻近所述中间位置的标记装置中选择至少两个标记装置进行标记。


技术总结
一种内层板曝光机及其标定方法,所述内层板曝光机包括运动平台、对位机构和曝光机构,所述对位机构和曝光机构置于所述运动平台的上方,所述运动平台包括运动机构和基板台面,其还包括标记机构,所述标记机构包括设置于所述基板台面一侧边缘左右对称的多个标记装置和控制所述标记装置的标记控制装置,所述标记控制装置根据所述内层板的大小控制所述标记装置位置的选择。通过标记机构的设计,在对内层板进行背面曝光时,有效的区分同时曝光的两个内层板,提高对位精度。

技术研发人员:刘栋;张雷
受保护的技术使用者:源能智创(江苏)半导体有限公司
技术研发日:2019.12.05
技术公布日:2020.06.02
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