光学成像膜的制作方法

【技术领域】

本申请涉及光学薄膜技术领域，尤其涉及一种光学成像膜。

背景技术：

成像与显示技术受到越来越多的关注，基于微透镜实现的成像技术凭借完整的视差、连续的视点以及无需任何观察眼镜和特殊光照等优点，具有极大的潜力和发展前景，逐渐发展成为最具潜力和前景的自动显示技术，成像通常采用莫尔成像技术，形成光学成像膜。该光学成像膜通常包括图文层和聚焦层，其中，图文层包括若干微图文，而聚焦层通常包括若干微透镜，微透镜与图文层相互作用，形成具有放大效果的影像。微透镜为人为设计的、具有微米或纳米尺度的特征尺寸、按照特定方式排布的功能结构，具有重量轻、设计自由度高、结构灵活等特点，在光学成像领域具有显著优势。但是，上述成像方式中，总会出现一些杂散光干扰莫尔成像，从而影响成像的清晰度，导致成像质量较低。

技术实现要素：

有鉴于此，本申请实施例提供了一种光学成像膜，用以解决现有技术中光学成像膜成像质量较低的问题。

本申请实施例提供了一种光学成像膜，所述光学成像膜包括：

聚焦层，具有两个或两个以上的聚焦结构；

图文层，具有两个或两个以上的微图文；

辅助层，所述辅助层用于掩盖至少部分的所述微图文的部分图案，且所述微图文未被所述辅助层掩盖的部分形成子图文，以使至少部分的所述子图文设置为所述微图文的部分图案；

其中，所述聚焦层与所述图文层相适配，且所述聚焦结构与所述子图文对应设置，以使所述光学成像膜呈现所述微图文的影像，且为具有放大效果的影像。

在一种可能的设计中，所述辅助层掩盖各所述微图文的部分图案，以使各所述子图文均设置为所述微图文的部分图案；

且至少两个所述微图文的部分图案不相同。

在一种可能的设计中，所述微图文n等分，且各所述子图文中，各所述微图文的部分图案均为所述微图文的

在一种可能的设计中，所述微图文n等分，且各所述子图文中，至少部分的所述微图文的部分图案大于所述微图文的

在一种可能的设计中，所述辅助层设置有两个或两个以上的通孔，所述子图文与所述通孔对应，且所述聚焦结构与所述通孔对应。

在一种可能的设计中，各所述聚焦结构的宽度相同。

在一种可能的设计中，所述聚焦结构周期性排布，所述微图文周期性排布；

所述微图文的周期大于或小于所述聚焦结构的周期。

在一种可能的设计中，所述聚焦结构的周期为t；

所述通孔的宽度d为：t×30％≤d＜t。

在一种可能的设计中，所述聚焦结构随机排布且具有一个不动点，所述微图文随机排布且根据所述不动点进行旋转或缩放。

在一种可能的设计中，所述聚焦结构的宽度为w；

所述通孔的宽度d为：w×30％≤d＜w。

在一种可能的设计中，所述通孔的形状为圆形、正方形、三角形、六边形中的一种或多种。

在一种可能的设计中，所述辅助层覆盖于所述图文层，或者所述辅助层位于所述聚焦层和图文层之间。

在一种可能的设计中，所述辅助层为镀层、印刷层或填充层。

在一种可能的设计中，所述辅助层朝向所述聚焦层的表面为哑光面；或者；

所述辅助层为非透明层。

本申请中，该光学成像膜包括辅助层，该辅助层用于掩盖至少部分微图文的部分图案，辅助层能够对从微图文反射进入聚焦结构而未参与莫尔成像的光线具有一定的遮挡作用，从而消除或减少杂散光，以提高莫尔成像的清晰度，从而提高成像质量。

【附图说明】

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1为本申请所提供光学成像膜在第一种具体实施例中的截面示意图；

图2为本申请所提供光学成像膜在第二种具体实施例中的截面示意图；

图3为本申请所提供光学成像膜在第三种具体实施例中的截面示意图；

图4为本申请所提供光学成像膜在第四种具体实施例中的截面示意图；

图5为本申请所提供光学成像膜在第五种具体实施例中的截面示意图；

图6为本申请所提供光学成像膜在第六种具体实施例中的截面示意图；

图7为本申请所提供光学成像膜的聚焦层的聚焦结构的一种分布示意图；

图8为本申请所提供光学成像膜的图文层的微结构的一种分布示意图；

图9为图8所述的图文层经过辅助层遮盖后显示的子图文的分布示意图；

图10为本申请所提供光学成像膜的聚焦层的聚焦结构的另一种分布示意图；

图11为与图10所示的聚焦层对应的子图文的分布示意图。

附图标记：

1-图文层；

11-微图文；

111-子图文；

12-第一聚合物层；

2-聚焦层；

21-聚焦结构；

22-第二聚合物层；

3-基材层；

4-反射层；

5-第一保护层；

6-第二保护层；

7-聚合物层；

8-辅助层；

81-通孔；

91-着色层；

92-间隔层；

93-粘结层；

94-基层。

【具体实施方式】

为了更好的理解本申请的技术方案，下面结合附图对本申请实施例进行详细描述。

应当明确，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本申请保护的范围。

在本申请实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本申请。在本申请实施例和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。

应当理解，本文中使用的术语“和/或”仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，a和/或b，可以表示：单独存在a，同时存在a和b，单独存在b这三种情况。另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。

需要注意的是，本申请实施例所描述的“上”、“下”、“左”、“右”等方位词是以附图所示的角度来进行描述的，不应理解为对本申请实施例的限定。此外，在上下文中，还需要理解的是，当提到一个元件连接在另一个元件“上”或者“下”时，其不仅能够直接连接在另一个元件“上”或者“下”，也可以通过中间元件间接连接在另一个元件“上”或者“下”。

本申请实施例提供一种光学成像膜，该光学成像膜可用作光学防伪膜、光学装饰膜等。如图1所示，该光学成像膜包括图文层1和聚焦层2，其中，该图文层1与聚焦层2用于形成微图文11的影像，且该影像为具有放大效果的影像。例如，如图8所示的实施例中，该微图文11为“田”，在图文层1与聚焦层2的作用下，该光学成像膜能够呈现“田”的影像，且该影像为具有放大效果的影像。

同时，该光学成像膜还包括辅助层8，该辅助层8用于掩盖至少部分的微图文11的部分图案，即本申请的方案包括：该图文层1中，部分的微图文11的一部分图案被辅助层8所掩盖，另一部分微图文11未被辅助层8所掩盖，即该图文层1中，设置辅助层8后，该图文层1能够露出不完整的微图文11和完整的微图文；或者，在图文层1中，所有的微图文11的至少部分图案均被辅助层8所掩盖，从而在该图文层1中，设置辅助层8后，无完整的微图文11露出。

同时，上述图文层1中，微图文11未被辅助层8掩盖的部分形成子图文111(该子图文111可能为微图文11的部分图案，也可能为完整的微图文11)，从而使得至少部分的子图文111设置为微图文11的部分图案。

如图8所示，图文层1包括多个微图文11。图文层1经过辅助层8掩盖后，微图文11的部分图案被掩盖，且微图文11未被辅助层8掩盖的部分形成子图文111，请参图9所示。

其中，在该光学成像膜中，各子图文111与聚焦层2的各聚焦结构21一一对应，即各聚焦结构21与对应的子图文111相互作用，根据莫尔成像原理，形成具有放大效果的影像。因此，各子图文111的分布规律与聚焦结构21的分布规律相同。

需要说明的是，本申请采用的莫尔成像原理与现有技术中通过透镜直接将微图文放大的原理(凸透镜成像)不同，莫尔成像原理请参考现有技术。

辅助层上述辅助层8设置有两个或两个以上的通孔81，微图文11通过通孔81露出部分图案，且该露出的部分图案成为子图文111，从而子图文111与通孔81对应设置，且上述聚焦结构21与通孔81对应设置，因此，通过该辅助层8的通孔81，子图文111与聚焦结构21对应设置，从而能够形成微图文的影像。

需要说明的是，在该光学成像膜中，图文层1分布有两个或两个以上的微图文11，且各微图文11均为完整的图案，设置辅助层8后，能够掩盖至少部分微图文11的部分图案，未被辅助层8掩盖的图案为上述子图文111，即通过各通孔81露出的图案为子图文111。

在一种可能的设计中，假设微图文11n等分，上述各子图文111中，各微图文通过辅助层的遮挡后呈现的部分图案均为该微图文11的因此，本实施例中，如果将各子图文111组合，各微图文的部分图案之间无重叠区域，此时，该光学成像膜能够呈现微图文11的影像，且具有良好的成像效果。

在一种可能的设计中，如图9所示，相邻子图文111之间的距离d1相同，即各子图文111周期性分布，同时，如图5所示，该光学成像膜的聚焦层2中，相邻聚焦结构21之间的距离相同，即各聚焦结构21周期性分布。

本实施例中，周期性分布的聚焦结构21以及子图文111能够形成具有放大效果的影像。另外，该聚焦结构21的周期(相邻聚焦结构21之间的距离d1)与微图文的周期并不相同。

在另一种可能的设计中，如图11所示，相邻子图文111之间的距离d2不同，即各微图文随机分布，相应地，如图10所示，该光学成像膜中，聚焦层2的相邻聚焦结构21之间的距离不同，即各聚焦结构21随机分布。

需要说明的是，该光学成像膜中，子图文111的分布规律可以由聚焦结构21的分布规律决定。

在图文层1中，各微图文11按预设规律排列，例如，各微图文11可为如图8所示的周期性排布，各微图文11也可为随机性排布，且该微图文11的排布规律与上述聚焦层2的聚焦结构21的排布规律相同。

当微图文11周期性排布时，其排布周期略小于或略大于聚焦结构21的周期，即完整图文和聚焦结构21会有适量的错位，如此，通过辅助层8的设置，子图文111与聚焦结构21一一正对设置，而各子图文111的形状和尺寸不同(也可相同)，因此，辅助层8的通孔81的宽度可以大些也可以小些，对成像没有影响，即保留的子图文111可以大些也可以小些。

具体地，当微图文11周期性排布时，辅助层8中通孔81的宽度d为：t×30％≤d＜t，其中，t表示聚焦结构21的周期。

另一方面，当微图文11随机性排布时，辅助层8中通孔81的宽度d满足：w×30％≤d＜w，其中，w表示聚焦结构21的宽度，当然，相邻子图文111可以存在部分重叠。

在一种可能的设计中，辅助层8中各通孔81的形状为正方形、六边形、三角形中的一种或多种，且该辅助层8的多个通孔81中，可以设置为：一部分为圆形，另一部分为正方形的结构。

具体地，为了掩盖微图文11，该辅助层8可直接覆盖于图文层1，或者；沿厚度方向h，辅助层8与图文层之间具有预设距离，为了保证具有良好的掩盖效果，该预设距离不应过大，该辅助层8也可直接形成于图文层1。

在一种可能的设计中，该辅助层8的材质包括uv胶，且该辅助层8可为具有颜色的结构，以便起到掩盖的作用，即该辅助层8为非完全透明结构。

在另一种可能的设计中，该辅助层8朝向聚焦层2的表面为哑光面，该哑光面具有散光效果，从而能够起到掩盖的作用。

其中，该辅助层8具体可为镀层结构，例如通过蒸镀、溅射镀、离子镀等方式形成；该辅助层8还可为打印层结构，例如可为激光打印的油墨层；该辅助层8还可为压印出凹槽后填充油墨形成的填充层结构。

另一方面，各子图文111的形状和大小可以相同，也可以不同，各子图文111的大小和形状具体根据微图文11设置。

以上各实施例中，图文层1中，各微图文11可包括印刷图案、浮雕图案、填充图案中的一种或多种。

该图文层1成型时，具体可在聚合物层上打印形成上述微图文11，也可通过模具在聚合物层中压出对应的微图文11。

同时，该微图文11还可包括填充颜料，从而使得形成的影像具有特定的颜色。

以上各实施例中，所述聚焦结构21与子图文111一一对应，且子图文111位于对应聚焦结构21的焦平面附近，此时，聚焦结构21对子图文111的成像效果较好。其中，对于透镜(聚焦结构21)来说，其焦平面定义为：过焦点且垂直于系统主光轴的平面为焦平面。

需要说明的是，子图文111并非严格位于对应聚焦结构21的焦平面内，使子图文111位于对应聚焦结构21的焦平面附近均可。具体地，子图文111与对应聚焦结构21的焦平面之间的距离为焦距的0.7～1.3倍。

该光学成像膜的总厚度在聚焦结构21曲率半径的二分之一至聚焦结构21曲率半径的三倍之间，且为了使聚焦结构21的适用性更好，该聚焦结构21的有效直径为(20μm，1000μm)，或者有效直径为(20μm，500μm)，又或者有效直径为(55μm，200μm)，再或者有小直径为(300μm，450μm)；为了使成像的效果更好，聚焦结构21的焦距为(10μm，2000μm)，或者焦距为(20μm，100μm)，又或者焦距为(200μm，450μm)，再或者焦距为(550μm，900μm)，再或者焦距为(1050μm，1500μm)；为了使光学成像膜的应用领域更广，该光学成像膜的总厚度小于5000μm，例如，该光学成像膜的厚度为(20μm，200μm)，用于高端领域及需要超薄设计的领域，或者，该光学成像膜的厚度为(300μm，500μm)，用于一般体积较小的产品并对厚度要求不高的领域，又或者，该光学成像膜的厚度为(600μm，1000μm)，甚至更厚，如1200μm、1300μm、1500μm、2000μm、2500μm、3500μm或者4500μm等。

如图1所示，光学成像膜包括聚合物层7，聚合物层7的一侧形成聚焦结构21，另一侧形成微图文11，聚合物层7内形成辅助层8。

或者，如图2所示，该光学成像膜包括第一聚合物层12和第二聚合物层22，且该第一聚合物层12与第二聚合物层22相互靠近的一端至少部分融合，上述微图文11形成于第一聚合物层12的一侧，遮盖层8形成于第一聚合物层12相对的另一侧，聚焦结构21形成于第二聚合物层22。

在另一种可能的设计中，如图3所示，除图文层1和聚焦层2外，该光学成像膜还包括基材层3，沿厚度方向h，图文层1和辅助层8位于基材层3的一侧，聚焦层2位于基材层3的相对的另一侧，该基材层3为高分子材料。

具体地，如图3所示的实施例中，该光学成像膜中，图文层1包括第一聚合物层12，子图文111设置于该第一聚合物层12，同时，聚焦层2包括第二聚合物层22，聚焦结构21形成于该第二聚合物层22，同时，该第一聚合物层12和第二聚合物层22分别设置于基材层3的两侧，辅助层8通过镀膜的方式直接形成于基材层3上，以形成完整的光学成像膜。

在另一种可能的设计中，如图4所示，该光学成像膜还包括反射层4，该反射层4设置于与聚焦层2的外侧，该反射层4用于反射进入该光学成像膜的光，从而促进光从聚焦层2射出，提高成像效果。

在另一种可能的设计中，如图5所示，该光学成像膜还可包括保护层，该保护层设置于图文层1外侧，和/或，该保护层设置于聚焦层2外侧。具体地，该保护层可包括第一保护层5和/或第二保护层6。

其中，第一保护层5设置于图文层1的外侧，和/或，第二保护层6设置于聚焦层2的外侧，该第一保护层5用于对图文层1提供保护，从而防止子图文111变形，该第二保护层6能够对聚焦层2提供保护，从而防止聚焦结构21损坏，提高该光学成像膜的寿命。

在一种可能的设计中，该第一保护层5可为透明油墨层，第二保护层6还可用作着色层。

在另一种可能的设计中，如图6所示，该光学成像膜除图文层1、辅助层8、聚焦层2外，还包括反射层4、间隔层92、粘结层93和基层94，该反射层4设置于聚焦层2的外侧，且该反射层4的外侧设置有着色层91，该着色层91可为具有颜色的材质，间隔层92位于图文层1与聚焦层2之间，且为透明材质，例如pet、pc、pmma等。上述图文层1、辅助层8、聚焦层2、反射层4、间隔层92形成光学成像膜的主体，且在该光学成像膜的底部设置有粘结层93，该粘结层93具体可为oca胶，通过该粘结层93可将该光学成像膜的主体结构粘结至基层94，从而形成可消费电子盖板，该基层94为盖板本体，其中，该基层94可为玻璃、塑料、有机玻璃、蓝宝石等材质。

在另一种可能设计中，辅助层8不掩盖微图文11的部分图案，微图文11显示为完整图案和/或部分图案，聚焦结构21仍通过辅助层8的通孔21与微图文11相适配形成影像。这里的部分图案指微图文11本身设置为部分图案，而不是通过辅助层8显示部分图案。

以上所述仅为本申请的较佳实施例而已，并不用以限制本申请，凡在本申请的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请保护的范围之内。