1.一种测量待检测物体的位置的测量装置，其特征在于，包括：
照明系统，被配置成用照明光照亮待检测物体；
图像形成系统，被配置成在光电转换器件上形成来自待检测物体的检测光的图像，该光电转换器件被配置成检测待检测物体的图像；以及
分离系统，包括布置在照明系统和图像形成系统之间的反射偏振器和λ/4板，并且被配置成经由反射偏振器和λ/4板将照明光与检测光分离，
其中，分离系统包括布置在反射偏振器和λ/4板之间的至少一个光学构件，
照明系统和图像形成系统各自包括透射偏振器，
在反射偏振器中，s偏振光的反射率高于p偏振光的反射率，
在被包括在照明系统中的透射偏振器中，p偏振光的透射率高于s偏振光的透射率，并且
在被包括在图像形成系统中的透射偏振器中，s偏振光的透射率高于p偏振光的透射率。
2.根据权利要求1所述的测量装置，其中，在被包括在照明系统中的透射偏振器中，p偏振光的透射率是100％，s偏振光的透射率是1％，并且
在被包括在图像形成系统中的透射偏振器中，s偏振光的透射率是100％，p偏振光的透射率是1％。
3.根据权利要求1所述的测量装置，其中，所述至少一个光学构件包括透射构件，在该透射构件上布置有被配置成抑制照明光的反射的抗反射膜。
4.根据权利要求3所述的测量装置，其中，透射构件包括二向色棱镜。
5.根据权利要求1所述的测量装置，其中，所述至少一个光学构件包括全反射棱镜，在该全反射棱镜上布置有被配置成抑制照明光的反射的抗反射膜。
6.根据权利要求1所述的测量装置，其中，照明系统使用照明光对待检测物体执行暗视野照明。
7.根据权利要求1所述的测量装置，其中，被包括在照明系统中的透射偏振器被布置成相对于照明系统的光轴倾斜，并且
被包括在图像形成系统中的透射偏振器被布置成相对于图像形成系统的光轴倾斜。
8.根据权利要求1所述的测量装置，其中，被包括在照明系统中的透射偏振器和被包括在图像形成系统中的透射偏振器各自被布置在从与待检测物体光学共轭的面移位的面上。
9.根据权利要求1所述的测量装置，其中，照明光的波段的宽度不小于300nm。
10.根据权利要求1所述的测量装置，还包括：
控制单元，被配置成基于由光电转换器件检测到的待检测物体的图像来获得待检测物体的位置。
11.一种测量待检测物体的位置的测量装置，其特征在于，包括：
照明系统，被配置成用照明光照亮待检测物体；
图像形成系统，被配置成在光电转换器件上形成来自待检测物体的检测光的图像，该光电转换器件被配置成检测待检测物体的图像；以及
分离系统，包括布置在照明系统和图像形成系统之间的反射偏振器和λ/4板，并且被配置成经由反射偏振器和λ/4板将照明光与检测光分离，
其中，分离系统包括布置在反射偏振器和λ/4板之间的至少一个光学构件，
照明系统和图像形成系统各自包括透射偏振器，
在反射偏振器中，s偏振光的反射率高于p偏振光的反射率，
在被包括在照明系统中的透射偏振器中，s偏振光的透射率高于p偏振光的透射率，并且
在被包括在图像形成系统中的透射偏振器中，p偏振光的透射率高于s偏振光的透射率。
12.根据权利要求11所述的测量装置，其中，在被包括在照明系统中的透射偏振器中，s偏振光的透射率是100％，p偏振光的透射率是1％；并且
在被包括在图像形成系统中的透射偏振器中，p偏振光的透射率是100％，s偏振光的透射率是1％。
13.一种测量待检测物体的位置的测量装置，其特征在于，包括：
照明系统，被配置成用照明光照亮待检测物体；
图像形成系统，被配置成在光电转换器件上形成来自待检测物体的检测光的图像，该光电转换器件被配置成检测待检测物体的图像；以及
分离系统，包括布置在照明系统和图像形成系统之间的反射偏振器和λ/4板，并且被配置成经由反射偏振器和λ/4板将照明光与检测光分离，
其中，分离系统包括布置在反射偏振器和λ/4板之间的至少一个光学构件，
照明系统和图像形成系统中的至少一个包括偏振器，
被包括在照明系统中的偏振器被布置成相对于照明系统的光轴倾斜，并且
被包括在图像形成系统中的偏振器被布置成相对于图像形成系统的光轴倾斜。
14.一种测量待检测物体的位置的测量装置，其特征在于，包括：
照明系统，被配置成用照明光照亮待检测物体；
图像形成系统，被配置成在光电转换器件上形成来自待检测物体的检测光的图像，该光电转换器件被配置成检测待检测物体的图像；以及
分离系统，包括布置在照明系统和图像形成系统之间的反射偏振器和λ/4板，并且被配置成经由反射偏振器和λ/4板将照明光与检测光分离，
其中，分离系统包括布置在反射偏振器和λ/4板之间的至少一个光学构件，
照明系统和图像形成系统中的至少一个包括偏振器，并且
偏振器被布置在从与待检测物体光学共轭的面移位的面上。
15.一种曝光装置，其特征在于，包括：
投影光学系统，被配置成将原件的图案投影到基板上；
台，被配置成保持基板；
根据权利要求1所述的测量装置，被配置成测量基板的位置作为待检测物体的位置；以及
控制单元，被配置成基于来自测量装置的测量结果来控制台的位置。
16.一种制造物品的方法，其特征在于，该方法包括：
通过使用根据权利要求15所述的曝光装置对基板进行曝光；
对曝光的基板进行显影；以及
从显影的基板制造物品。