处理曝光图形数据的方法、曝光控制单元和直写式曝光机与流程

文档序号:20915554发布日期:2020-05-29 13:28阅读:510来源:国知局
处理曝光图形数据的方法、曝光控制单元和直写式曝光机与流程

本发明涉及曝光技术领域,尤其是涉及一种曝光图形数据的方法,以及曝光控制单元和直写式曝光机。



背景技术:

直写式曝光机是pcb(printedcircuitboard,印制电路板)及掩膜板生产过程中的关键设备,在pcb和掩模板生产过程中,产能是每个生产厂家都关心的问题,直写式曝光机省去曝光机制作菲林等环节,通过dmd(digitalmicromirrordevice,数字微镜)将曝光图形直接转移至曝光基板上,来提高pcb的产能。

但是,但由于pcb线路的复杂性不同,不同的pcb图形其资料的文件大小也不同,对于复杂的图形资料,传输时间会相应增加,从而使产能较低。



技术实现要素:

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本发明的一个目的在于提出一种处理曝光图形数据的方法,该方法可以节省数据传输时间,利于提高电路板或掩模版的产能。

本发明的第二个目的在于提出一种曝光控制单元。

本发明的第三个目的在于提出一种直写式曝光机。

为了达到上述目的,本发明的第一方面实施例提出了一种处理曝光图形数据的方法,用于直写式曝光机,所述直写式曝光机包括曝光控制单元,所述曝光控制单元包括用于存储上位机发送的曝光图形数据的第一存储单元,所述方法包括:响应于一段数据读取完成,将读取数据的地址定位到下一段数据所需重复数据的地址处的重定位步骤;根据所述下一段数据所需重复数据的地址和下一段数据的地址,从所述第一存储单元中读取所需重复数据和所述下一段数据的读取步骤;重复所述重定位步骤和所述读取步骤,直至获得完整的所述曝光图形数据。

根据本发明实施例的处理曝光图形数据的方法,通过增加第一存储单元存储上位机发送的曝光图形数据,保证下发数据不会丢失,并在数据处理时,对于曝光所需的重复数据,通过重定位步骤重定位对第一存储单元的读地址,从第一存储单元可以直接读取,无需上位机再次发送,既节省了数据传输时间,也节省了数据的传输带宽,从而提高了生成pcb板或掩模版的产能。

在一些实施例中,所述曝光图形数据包括填充后的二值化数据、灰度数据、矢量数据中的任意一种。

在一些实施例中,所述曝光控制单元还包括第二存储单元,所述方法还包括:对所述曝光图形数据进行处理,并将处理后的所述曝光图形数据存储至所述第二存储单元。

在一些实施例中,所述方法还包括:接收到所述上位机发送的所述曝光图形数据;根据预设存储顺序控制所述第一存储单元的写地址,以将所述曝光图形数据存储至所述第一存储单元。

在一些实施例中,所述曝光图形数据为矢量数据时,所述根据预设存储顺序控制所述第一存储单元的写地址,以将所述曝光图形数据存储至所述第一存储单元包括:将接收到的矢量坐标文件还原为二值图像数据;将所述二值图像数据存储至所述第一存储单元,其中,所述第一存储单元的写地址按照预设存储顺序递增。

为了达到上述目的,本发明的第二方面实施例提出一种曝光控制单元包括:第一存储单元,用于存储曝光图形数据;第二存储单元,用于存储处理后的曝光图形数据;核心控制芯片,与所述第一存储单元和所述第二存储单元分别通信连接,用于上面实施例提到的任意一项的处理曝光图形数据的方法。

根据本发明实施的曝光控制单元,通过将曝光数据存储至第一存储单元,来保证图形数据不会丢失,并在数据处理时,对于曝光所需的数据,通过重定位读地址,可以从第一存储单元直接读取,无需上位机再次重发,节省了数据的传输带宽和传输时间,提高了曝光速度,从而提高了线路板产能。

在一些实施例中,所述第一存储单元包括ddr2、ddr3、ddr4的内存条中的一种。

在一些实施例中,所述核心控制芯片包括现场可编程门阵列。

为了达到上述目的,本发明的第三方面实施例提出一种直写式曝光机,该曝光机包括曝光系统、数字微镜装置和上面实施例提到的任一项曝光控制单元,所述曝光控制单元用于根据曝光图形数据对所述曝光系统和所述数字微镜装置分别进行控制。

根据本发明实施例的直写式曝光机,通过采用上面实施例的曝光控制单元,将上位机发送的曝光图形数据进行存储,可以保证图形数据不会丢失,并对曝光需要重复的数据无需再次重发,节省了数据的传输带宽和传输时间,提高了曝光速度,提高了产能。

本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本发明的实践了解到。

附图说明

本发明的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:

图1是现有技术中读取曝光图形数据的示意图;

图2是根据本发明一个实施例的处理曝光图形数据的方法的流程图;

图3是根据本发明一个实施例的读取曝光图形数据的示意图;

图4是根据本发明一个实施例的数据存储的示意图;

图5是根据本发明一个实施例的曝光控制单元的框图;

图6是根据本发明一个实施例的直写式曝光机的框图。

具体实施方式

下面详细描述本发明的实施例,参考附图描述的实施例是示例性的,下面详细描述本发明的实施例。

直写式曝光机需要将待曝光的图形数据(在本发明实施例中称之为曝光图形数据)分段后发送至曝光控制单元,来实现曝光图形向基板的转移,其中,分段是为了支持数据边发送边扫描,实现实时曝光。

如图1所示,由于在曝光显示时,曝光控制单元对数据做旋转变换等处理,在传统的实现方式中,每段数据之前需要重复发送上一段数据的一些数据,来保证图形处理的无损接缝,在每段数据的结尾,需要增加一些方格图如图1中所示的r1、r2、r3部分,来辅助图形处理操作。进一步地,所有的图形处理都基于帧操作,所以重复的数据和添加的黑图高度,都需要为帧高度的整数倍。因而,在读取每段数据之前,都需要上位机重复发送所需重复的数据,浪费数据传输时间,降低了图形数据的传输带宽,降低了曝光效率,进而影响线路板生产产能。

为了解决上述问题,本发明实施例的处理曝光图形数据的方法,无需上位机重复发送数据,节省了传输时间,提高了数据传输带宽,提高效率和提高生产线路板的产能。

在本发明的实施例中,直写式曝光机包括曝光控制单元,曝光控制单元增加了用于存储上位机发送的曝光图形数据的第一存储单元。

下面参考图2-图4描述根据本发明第一方面实施例的处理曝光图形数据的方法。

如图2所示,本发明实施例的处理曝光图形数据的方法至少包括步骤s1、步骤s2和步骤s3。

步骤s1,响应于一段数据读取完成,将读取数据的地址指针定位到下一段数据所需重复数据的地址处的重定位步骤。

步骤s2,根据下一段数据所需重复数据的地址和下一段数据的地址,从第一存储单元中读取所需重复数据和下一段数据的读取步骤。

步骤s3,重复重定位步骤和读取步骤,直至获得曝光图形数据的每段数据。

如图3所示,为本发明一个实施例的读取曝光图形数据的示意图。具体地,上位机将优化后的发送图形缓存至内存中,曝光控制单元接收到上位机发送的曝光图形数据;根据预设存储顺序控制第一存储单元的写地址,以将曝光图形数据存储至第一存储单元。从第一存储单元读取所需数据时,通过控制读地址选择需要重复的数据,在一段数据读取完成后,且读取下一段数据前,将读数据的地址指针定位到需要重复的数据处,例如第二段数据中的r1,或者第三段数据中的r2,实现无损接缝的数据,而无需上位机再次重发,节省了数据的传输带宽,提高了曝光速度,节省了传输时间,从而提高了曝光机的产能。

根据本发明实施例的处理曝光图形数据的方法,通过增加第一存储单元存储上位机发送的曝光图形数据,保证下发数据不会丢失,并在数据处理时,对于曝光所需的重复数据,通过将读取数据的地址指针定位至重复数据的地址处,从而,可以从第一存储单元直接读取,无需上位机再次发送,既节省了传输时间,也节省了数据的传输带宽,从而提高了生产线路板产能。

在本发明的实施例中,曝光图形数据包括填充后的二值化数据、灰度数据、矢量数据中的任意一种,或者,曝光图形数据为其它使用的数据类型。

以矢量数据为例,曝光机接收曝光图形数据例如矢量数据后,将该数据以矢量坐标文件的形式发送至曝光控制单元,曝光控制单元将接收到的矢量坐标文件还原为二值图像数据,将该二值图像数据按照预设存储顺序存储至第一存储单元,其中,第一存储单元的写地址按照预设存储顺序递增,这样可以最大化的提高存储单元的操作效率。如图4所示,为根据本发明一个实施例的数据存储的示意图。由于曝光控制单元的资源有限,下发的矢量坐标文件以帧的形式存在,若帧大小为1024*256,即填充后二值图像的大小为1024(高)*256(宽),例如一次曝光宽度为2048*16个像素,同时将每段的高度定义为10240个像素。进而,在进行曝光控制时,可以按照上文图3所示的方式利用控制读写地址的重复操作,从第一存储单元中读取,来实现无损接缝的曝光图形数据。

在一些实施例中,曝光控制单元还包括第二存储单元,所述方法还包括:对曝光图形数据进行处理,并将处理后的曝光图形数据存储至第二存储单元。第二存储单元用来存储各种经过变换扩展后的曝光数据。

例如,通过控制第一存储单元的读地址,可以实现对存储数据的任意读取、组合或者变换,例如对数据做旋转变换处理,并将处理后的曝光图形数据存储至第二存储单元,在曝光需要时,则可以从第二存储单元读取相关数据。

概括来说,根据本发明实施例的处理曝光图形数据的方法,基于曝光控制单元设置第一存储单元和第二存储单元,通过第一存储单元存储曝光图形数据,保证下发数据不会丢失,并在数据处理时,对于曝光所需的重复数据,可以从第一存储单元直接读取,无需再次发送,既节省了传输时间,也节省了数据的传输带宽,从而提高了线路板生产产能。

下面参考附图描述本发明第二方面实施例的曝光控制单元。

图5是根据本发明一个实施例的曝光控制单元的框图,如图5所示,本发明实施例的曝光控制单元10包括第一存储单元110、第二存储单元120和核心控制芯片130。

其中,第一存储单元110用于存储曝光图形数据;第二存储单元120用于存储处理后的曝光图形数据;核心控制芯片130与第一存储单元110和第二存储单元120分别通信连接,用于执行上面实施例提到的处理曝光图形数据的方法,其中,核心控制芯片130执行处理曝光图形数据的方法的描述参照上文。

根据本发明实施例的曝光控制单元10,通过增加第一存储单元110存储曝光数据,来保证图形数据不会丢失,并在数据处理时,对于曝光所需的数据,通过重定位读地址,可以从第一存储单元直接读取,无需再次发送,节省了传输时间和传输带宽,从而提高了线路板的产能。

在一些实施例中,第一存储单元110可以包括ddr2、ddr3、ddr4的内存条中的一种。可选择性较多,且便于在曝光机中安装。

在一些实施例中,核心控制芯片130包括现场可编程门阵列。由于现场可编程门阵列的资源有限,下发的矢量坐标文件以帧的形式存在,保证现场可编程门阵列与存储单元正常通信。

下面参考附图描述本发明第三方面实施例的直写式曝光机。

图6是根据本发明一个实施例的直写式曝光机的框图,如图6所示,本发明实施例的直写式曝光机20包括曝光系统210、数字微镜装置220和上面实施例提到的任一项的曝光控制单元10,曝光控制单元10用于根据曝光图形数据对曝光系统210和数字微镜装置220分别进行控制。

根据本发明实施例的直写式曝光机20,通过采用上面实施例的曝光控制单元10,将上位机发送的曝光图形数据进行存储,可以保证图形数据不会丢失,并对曝光需要重复的数据无需再次重发,节省了数据的传输带宽和传输时间,提高了曝光效率,进而利于提高线路板产能。

在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。

尽管已经示出和描述了本发明的实施例,本领域的普通技术人员可以理解:在不脱离本发明的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本发明的范围由权利要求及其等同物限定。

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