一种显示面板及制备方法与流程

本申请涉及显示领域，具体涉及一种显示面板及制备方法。

背景技术：

目前bps(blackphotospacer)技术广泛应用于显示面板中。主流做法是在阵列基板中采用双层色阻堆叠加上面覆盖bps遮光层做主隔垫物，单层色阻覆盖bps遮光层做辅助隔垫物。由于bps遮光层除遮光作用外还起着支撑盒厚的作用，现有bps遮光层膜厚较厚，但bps材料在320纳米到500纳米以及610纳米到800纳米之间容易漏光。为了使bps遮光层充分曝光，需要在曝光机光波段(365nm附近)存在一定的光透过率，因为曝光机曝光波段为bps遮光层漏光波段，这种材料设计会阵列基板的金属间隙间在暗态时存在轻微漏光，从而导致对比度降低及暗态品质变差等问题，需做优化改善。

因此现有技术存在bps型显示面板容易漏光的问题。

技术实现要素：

本申请实施例提供一种显示面板及制备方法，可以有效缓解现有技术中bps型显示面板容易漏光的问题。

为解决以上问题，本申请提供的技术方案如下：

本申请提供一种显示面板，包括：相对设置的阵列基板和彩膜基板，以及位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶盒，所述阵列基板和所述彩膜基板通过框胶相连；

其中，所述彩膜基板包括层叠设置的衬底、bps遮光层和彩膜公共电极；

所述阵列基板包括层叠设置的衬底、色阻层、平坦层；所述色阻层包括第一色阻层和第二色阻层，所述第二色阻层设置在所述第一色阻层远离所述衬底的一侧，所述色阻层图案化形成主隔垫物和辅助隔垫物，所述第一色阻层的透光波段与所述bps漏光波段错开。

在一些实施例中，所述第一色阻层为绿色色阻层。

在一些实施例中，所述绿色色阻层的厚度在1.5微米到2微米之间。

在一些实施例中，所述主隔垫物的高度大于所述辅助隔垫物的高度。

在一些实施例中，在一个像素单元内，所述像素单元包括一个主隔垫物和两个辅助隔垫物。

在一些实施例中，所述主隔垫物和所述辅助隔垫物之间的距离与所述辅助隔垫物之间的距离比为2比5。

在一些实施例中，所述显示面板的bps遮光层的厚度在2.5微米到3微米之间。

在一些实施例中，所述平坦层的材料为聚酰亚胺。

在一些实施例中，所述平坦层的材料为氮化物。

本申请还提供一种显示面板的制备方法，其包括：

提供一阵列基板，所述阵列基板包括衬底、色阻层、平坦层，所述色阻层包括第一色阻层和第二色阻层，所述色阻层图案化形成主隔垫物和辅助隔垫物；

提供一彩膜基板，所述彩膜基板包括衬底、bps遮光层和彩膜公共电极；

将所述阵列基板和所述彩膜基板对盒设置，所述阵列基板和所述彩膜基板通过框胶连接。

本申请提供一种显示面板及制作方法，该显示面板包括：相对设置的阵列基板和彩膜基板，以及位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶盒，其中，阵列基板通过双层色阻叠加形成主隔垫物和辅隔垫物，用于支撑显示面板，彩膜基板形成bps遮光层，起遮光作用。本申请通过双色阻层叠加的方式增加膜厚，将bps遮光层形成在彩膜基板上，极大地减少了bps遮光层的厚度，同时双色阻层和bps遮光层叠加扩大了bps遮光层遮光的范围，从而缓解了现有技术中bps型显示面板漏光的问题。

附图说明

下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。

图1为现有bps型显示面板的剖面结构示意图；

图2为本申请实施例提供的bps型显示面板的剖面结构示意图；

图3为本申请实施例提供的bps型阵列基板的俯视图；

图4为本申请实施例提供的bps型显示面板的制作方法的流程示意图；

图5为本申请实施例提供的bps型阵列基板的制作方法的流程示意图；

图6为本申请实施例提供的bps型彩膜基板的制作方法的流程示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。

图1为现有技术中的液晶显示面板，所述显示面板包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，在所述阵列基板和彩膜基板之间形成有液晶层，其中所述阵列基板包括层叠设置的衬底110、驱动电路、色阻层(包括第一色阻层171和第二色阻层172)、平坦层180、bps遮光层190，所述色阻层170和bps190遮光层形成主隔垫物m1和辅隔垫物m2，所述主隔垫物m1色阻层包括第一色阻层171和第二色阻层172，所述辅隔垫物m2包括第一色阻层171，所述第一色阻层171和第二色阻层172为红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻中的一种或几种，所述主隔垫物和辅助隔垫物用于支持显示面板，所述bps遮光层用于支撑膜厚，所述bps遮光层的厚度为普通黑矩阵厚度的2到4倍。由于bps遮光层厚度较厚，为使bps底层充分曝光，曝光机需要在波段365纳米附近存在一定的透光率，由于bps材料在365纳米光波段附近漏光，这样显示面板在暗态时存在轻微漏光的现象。

具体的，请参阅图2至图3，本申请提供一种显示面板，所述包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，以及位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶盒，所述阵列基板和所述彩膜基板通过框胶相连；其中，所述彩膜基板包括层叠设置的衬底200、bps遮光层210和彩膜公共电极220；所述阵列基板包括层叠设置的衬底110、驱动电路层、色阻层、平坦层180；所述色阻层包括第一色阻层171和第二色阻层172，所述第二色阻层172设置在所述第一色阻层171远离所述衬底的一侧，所述色阻层图案化形成主隔垫物m1和辅助隔垫物m2，所述第一色阻层171的透光波段与所述bps遮光层的漏光波段错开，这样可以扩大bps遮光层的遮光范围。同时本申请实施例提供的显示面板的主隔垫物m1和辅隔垫物m2均是利用第一色阻层171和第二色阻层所形成的双层色阻172结构，使得所述主衬垫部和辅助衬垫部凸起明显，从而使得支撑盒厚的bps遮光层的厚度减少，进而可以减少形成bps遮光层220用量，降低生产成本。

所述驱动电路层包括第一金属层120、栅极绝缘层130、有源层140、第二金属150和绝缘层160，所述第一金属层120图案化形成栅极扫描线和公共电极，所述第二金属层140图案化形成源漏极线和数据线，所述栅极绝缘层130和所述绝缘层160采用无机物，所述无机物为氮化硅或氧化硅。

在一些实施例中，所述第二色阻层172形成在所述第一色阻层171远离所述衬底110的一侧，所述第一色阻层171为绿色色阻层，所述第二色阻层172为红色色阻层、绿色色阻层和蓝色色阻层中的一种或几种，所述绿色色阻层的透光波段在430纳米到650纳米之间与所述bps遮光层的漏光波段错开，所述绿色色阻层的厚度在1.5微米到2微米之间。所述第一色阻层171的投影面积大于所述第二色阻层172的投影面积，所述第一色阻层171平铺在所述驱动电路层上，所述第一色阻层171上形成通孔，所述公共电极与所述像素电极190通过所述通孔相连。

在一些实施例中，如图3所示，所述像素单元包括第一子像素c1、第二子像素c2和第三子像素c3，所述子像素按照红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素依次排列，所述像素单元包括一个主隔垫物m1和两个辅助隔垫物m2，所述第一子像素c1包括主隔垫物m1、所述第二子像素c2包括辅助隔垫物m2、所述第三子像素c3包括辅助隔垫物m2，所述主隔垫物m1和所述辅助隔垫物m2之间的距离为2微米，所述辅助隔垫物m2之间的距离比为5微米，这样可以增加隔垫物之间的段差。

在一些实施例中，所述主隔垫物的高度为3至4微米，所述辅隔垫物的高度为2至3微米。

在一些实施例中，所述bps遮光层220为光刻胶中的一种，所述bps遮光层220包括铬或铜等金属元素，用于提高光刻胶的光学密度；所述bps遮光层还添加有碳黑丙烯树脂，所述碳黑丙烯树脂用于遮光；所述bps遮光层的光学密度为4.0/μm。bps材料漏光波段在350纳米到500纳米和620纳米到800纳米之间，与所述第一光阻171的透光波段错开，显示面板的bps遮光层220的厚度在2.5微米到3微米之间。

在一些实施例中，所述平坦层的材料为聚酰亚胺。

在一些实施例中，当隔垫物之间的段差较小时，所述平坦层的材料为氮化物，用于增加隔垫物之间的段差。

如图4，为本申请提供的显示面板的工作流程示意图。所述显示面板的制作流程为：

步骤s1：提供一阵列基板，所述阵列基板包括衬底、色阻层、平坦层，所述色阻层包括第一色阻层和第二色阻层，所述色阻层图案化形成主隔垫物和辅助隔垫物；

步骤s2：提供一彩膜基板，所述彩膜基板包括衬底、bps遮光层和彩膜公共电极；

步骤s3:将所述阵列基板和所述彩膜基板对盒设置，所述阵列基板和所述彩膜基板通过框胶连接。

具体地，在步骤s1中，在衬底上通过化学气相、金属溅射等方式在衬底上形成第一金属层，然后对第一金属层刻蚀图案化形成栅极扫描线和公共电极，在所述第一金属层上衬底栅极绝缘层，所述栅极绝缘层为氮化物或氧化硅，在所述栅极绝缘层上通过化学气相、金属溅射等方式形成第二金属层，所述第二金属层为源漏极线和数据线，然后在第二金属层上沉积绝缘层。在所述第二绝缘层上沉积第一色阻层，所述第一色阻层为绿色色阻层，在所述第一色阻层上沉积第二色阻层，通过半曝光的方式形成图案化形成主隔垫物和辅助隔垫物，所述主隔垫物和辅助隔垫物，用于支撑显示面板。

在步骤s2中，采用涂布光阻的方式在衬底上涂布bps遮光层，所述bps遮光层的漏光波段与所述第一色阻层的透光波段错开，这样扩大了bps遮光层遮光的范围。

在步骤s3中，在彩膜基板边缘涂布框胶，在框胶内涂布配向液形成液晶，在彩膜基板上对盒设置阵列基板，对框胶进行显影曝光，形成显示面板。

如图5，为图4中步骤s1的工作流程示意图，所述阵列基板的制作流程为：

步骤s101：提供一衬底基板，在所述衬底基板上形成驱动电路层；

步骤s102：在所述驱动电路层上形成色阻层，所述色阻层包括第一色阻层和第二色阻层，所述色阻层图案化形成主隔垫物和辅隔垫物。

步骤s103：在色阻层上形成覆盖色阻层的平坦层。

具体地，所述步骤s101中，所述驱动电路层包括第一金属层、栅极绝缘层、有源层、第二金属和绝缘层，所述第一金属层图案化形成栅极扫描线和公共电极，所述第二金属层140图案化形成源漏极线和数据线，所述栅极绝缘层和所述绝缘层采用无机物，所述无机物为氮化硅或氧化硅。

在步骤s102中，所述色阻层包括第一色阻层和第二色阻层，所述第一色阻层为绿色阻层，所述第二色阻层为红色色阻层、绿色色阻层和蓝色色阻层中的一种或几种，所述绿色色阻层的透光波段在430纳米到650纳米之间与所述bps遮光层的漏光波段错开，所述绿色色阻层的厚度在1.5微米到2微米之间。通过半曝光工艺制作所述第一色阻层，经一次曝光得到厚度相同的第一色阻层，再通过第二次半曝光工艺制作所述第二色阻层，所述第二次半透过式光罩的透过率为20％～50％，所述第二色阻层形成主隔垫块和辅助隔垫块。第一色阻层和主隔垫块和辅助隔垫块组成主隔垫物和辅助隔垫物，使得所述辅助隔垫物的厚度小于所述主隔垫物的厚度，从而使得所述主隔垫物在基板衬底上的高度大于辅助隔垫物46在基板衬底上的高度。所述第一色阻层的投影面积大于所述第二色阻层的投影面积，所述第一色阻层平铺在所述驱动电路层上，所述第一色阻层上形成通孔，所述公共电极与所述像素电极通过所述通孔相连。所述像素单元包括第一子像素、第二子像素和第三子像素，所述子像素按照红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素依次排列，所述像素单元包括一个主隔垫物和两个辅助隔垫物，所述第一子像素包括主隔垫物、所述第二子像素包括辅助隔垫物、所述第三子像素包括辅助隔垫物，所述主隔垫物和所述辅助隔垫物之间的距离为2微米，所述辅助隔垫物之间的距离比为5微米，这样可以增加隔垫物之间的段差。

在步骤s103中，在所述色阻层上形成覆盖所述色阻层40的平坦层，所述平坦层的材料为聚酰亚胺，当隔垫物之间的段差较小时，所述平坦层的材料为氮化物，用于增加隔垫物之间的段差。

如图6，为图4中步骤s2的工作流程示意图，所述阵列基板的制作流程为：

步骤s201：提供一衬底基板，在所述衬底基板上形成bps遮光层；

步骤s202：在所述bps遮光层上形成彩膜公共电极

具体地，在步骤s201中，在所述衬底基板上，采用涂布光阻的方式涂布bps遮光层、对所述bps遮光层进行曝光显影的流程进行刻蚀，由于第一色阻层透光率和bps遮光层的遮光率错开，所以第一色阻层和bps遮光层遮光的范围扩大。在步骤s202中，所述彩膜公共电极为透明电极，所述透明电极的材料为铟锡氧化物，所述彩膜公共电极平铺在所述bps遮光层上。

本申请提供一种显示面板及制作方法，该显示面板包括：相对设置的阵列基板和彩膜基板，以及位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶盒，其中，阵列基板通过双层色阻叠加形成主隔垫物和辅隔垫物，用于支撑显示面板，彩膜基板形成bps遮光层，用于提供遮光。本申请通过双色阻层叠加的方式增加膜厚，将bps遮光层形成在彩膜基板上，极大地减少了bps遮光层的厚度，同时双色阻层和bps遮光层叠加扩大了bps遮光层遮光的范围，从而缓解了现有技术中bps型显示面板漏光的问题。

本申请还提供一种显示装置，所述显示装置包括显示面板、封装盖板和芯片，所述显示面板包括：相对设置的阵列基板和彩膜基板，以及位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶盒，所述阵列基板和所述彩膜基板通过框胶相连；其中，所述彩膜基板包括层叠设置的衬底、bps遮光层和彩膜公共电极；所述阵列基板包括层叠设置的衬底、色阻层、平坦层；所述色阻层包括第一色阻层和第二色阻层，所述第二色阻层设置在所述第一色阻层远离所述衬底的一侧，所述色阻层图案化形成主隔垫物和辅助隔垫物，所述第一色阻层的透光波段与所述bps遮光层的漏光波段错开。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

以上对本申请实施例所提供的一种显示面及制作方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。