一种基底辅助定位上料装置的制作方法

1.本实用新型属于纳米压印技术领域，尤其涉及一种基底辅助定位上料装置。


背景技术：

2.纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术，该技术通过机械转移的手段，达到了超高的分辨率，有望在未来取代传统光刻技术，成为微电子、材料领域的重要加工手段。
3.在纳米压印时，对于满结构的硅片来说，一旦制备的软模具与基底存在偏差，基底上就会有部分结构丢失，成为废品，造成大量资源的浪费，相应生产成体随之提高。而现有的纳米压印设备普遍存在对位不够精确地问题，导致晶圆放置位置不够精确，在复制软模具的过程中，使得转印结构偏移，在压印时，基底不能对准软模具，基底上部分区域空白，转印结构不完全，造成产品良率降低，生产成本增加。因此，晶圆和基底放置定位在准确位置上显得尤为重要。


技术实现要素：

4.本实用新型针对上述的技术问题，提出一种基底辅助定位上料装置，能够保证基底的准确定位，以保证后期晶圆与基底的精准对应，提高成品率，降低生产成本。
5.为了达到上述目的，本实用新型采用的技术方案为：一种基底辅助定位上料装置，包括：
6.台盘，在所述台盘上，自其中心向其外边缘依次设置多个台盘固定部，基底可放置在台盘上，以使每个台盘固定部对应固定不同尺寸的基底，当基底放置在台盘上时，相应的台盘固定部可产生负压将基底固定在台盘上；
7.支撑机构，其位于所述台盘上，所述支撑机构具有可竖向移动的支撑部，支撑部可穿过台盘，当所述支撑部向上移动时可支撑基底，当所述支撑部向下移动时可使基底与所述台盘的上表面相抵；
8.上料机构，其具有承托部，用于支撑基底，所述承托部上设置有上料固定部，以在承托部上产生负压固定基底，所述承托部可向支撑机构方向伸缩，以使基底伸向所述支撑机构上方；
9.定位机构，具有两定位部，所述两定位部分别位于所述承托部两侧，呈相对设置，所述两定位部可同步伸向所述承托部的中心方向，以将基底定位于所述承托部的中心，所述承托部的中心与所述台盘的中心对应。
10.在本实用新型的一些实施例中，所述台盘固定部包括多个真空槽，以及设置于每个所述真空槽内的真空孔，所述真空孔与真空泵连接，以在台盘上形成负压固定基底。
11.在本实用新型的一些实施例中，所述真空槽设置于所述台盘的上表面，所述真空槽的形状设置为环形，且所述真空槽之间同心设置。
12.在本实用新型的一些实施例中，所述支撑部设置有四个，呈四边形设置。
13.在本实用新型的一些实施例中，所述支撑部包括顶针，以及与所述顶针连接的支
撑伸缩杆，所述支撑伸缩杆可伸缩，以使所述顶针与所述基底相抵或分离。
14.在本实用新型的一些实施例中，所述承托部包括叉状的托板，以及与所述托板连接的上料伸缩杆，所述上料伸缩杆可伸缩，以使所述托板上的基底伸向所述支撑部上方。
15.在本实用新型的一些实施例中，所述托板上靠近所述上料伸缩杆的位置设置有至少一个定位凸起。
16.在本实用新型的一些实施例中，所述上料固定部包括设置于所述承托部与基底接触面上的真空吸附槽，以及设置于所述真空吸附槽内的真空孔，所述真空孔与真空泵连接，以使所述真空吸附槽内形成负压固定基底。
17.在本实用新型的一些实施例中，两所述定位部均包括定位夹持块，以及与所述定位夹持块连接的夹持伸缩杆，所述夹持伸缩杆可伸缩，以使所述定位夹持块与基底接触。
18.在本实用新型的一些实施例中，所述定位夹持块与基底的接触面的材质为软性材质。
19.与现有技术相比，本实用新型的优点和积极效果在于：上料时，将基底放置在承托部上，两定位部向承托部方向同步移动，将基底定位在承托部的中心，在上料固定部的作用下，在承托部上产生负压固定好基底，防止承托部在向支撑机构方向移动时，基底发生偏移，当承托部移动至支撑部上方时停止移动，上料固定部泄压释放基底，支撑部向上移动支撑好基底后，向下移动使基底与台盘的上表面相抵，相应的台盘固定部产生负压固定好基底，整个上料过程均采用自动控制，且不与人体接触，保证了定位的准确性，且避免了基底的污染，节约了成本，提高了成品率。
附图说明
20.为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
21.图1为本实用新型的结构示意图；
22.图2为本实用新型的上料过程图；
23.图3为本实用新型的上料过程侧视图；
24.图4为本实用新型中定位机构定位基底时的结构示意图；
25.图5为本实用新型中定位部的结构示意图；
26.图6为本实用新型中基底放置在上料机构上的示意图；
27.图7为本实用新型中上料机构上的示意图。
28.以上各图中：1、台盘；11、台盘固定部；111、真空槽；112、真空孔；113、十字形真空槽；2、支撑机构；21、支撑部；211、顶针；212、支撑伸缩杆；213、电机；3、上料机构；31、承托部；310、托板；311、上料固定部；312、上料伸缩杆；313、电机；3101、定位凸起；3111、真空吸附槽；3112、真空孔；4、定位机构；41、定位部；411、定位夹持块；412、夹持伸缩杆；413、电机；5、基底。
具体实施方式
29.下面，通过示例性的实施方式对本实用新型进行具体描述。然而应当理解，在没有进一步叙述的情况下，一个实施方式中的元件、结构和特征也可以有益地结合到其他实施方式中。
30.在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
31.术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。
32.在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
33.一种基底5辅助定位上料装置，参见图1至7，包括：台盘1、支撑机构2、上料机构3及定位机构4，其中，
34.在台盘1上，自其中心向其外边缘依次设置多个台盘固定部11，基底5可放置在台盘1上，以使每个台盘固定部11对应固定不同尺寸的基底5，当基底5放置在台盘1上时，相应的台盘固定部11可产生负压将基底5固定在台盘1上；
35.支撑机构2位于台盘1上，支撑机构2具有可竖向移动的支撑部21，支撑部21可穿过台盘1，当支撑部21向上移动时可支撑基底5，当支撑部21向下移动时可使基底5与台盘1的上表面相抵；
36.上料机构3具有承托部31，用于支撑并托起基底5，承托部31上设置有上料固定部311，以在承托部31上产生负压固定基底5，承托部31可向支撑机构2方向伸缩，以使基底5伸向支撑机构2上方；
37.定位机构4具有两定位部41，两定位部41分别位于承托部31两侧，呈相对设置，两定位部41可同步伸向承托部31的中心方向，以将基底5定位于承托部31的中心，承托部31的中心与台盘1的中心对应。
38.上料基底5时，将基底5放置在承托部31上，两定位部41向承托部31方向同步移动，将基底5定位在承托部31的中心，在上料固定部311的作用下，在承托部31上产生负压固定好基底5，防止承托部31在向支撑机构2方向移动时，基底5发生偏移，当承托部31移动至支撑部21上方时停止移动，上料固定部311泄压释放基底5，支撑部21向上移动支撑好基底5后，向下移动使基底5与台盘1的上表面相抵，相应的台盘固定部11产生负压固定好基底5，整个上料过程均采用自动控制，且不与人体接触，保证了定位的准确性，且避免了基底5的污染，节约了成本，提高了成品率。
39.在本实施例中，台盘固定部11包括多个真空槽111，以及设置于每个真空槽111内的真空孔112，真空孔112与真空泵连接，以在台盘1上形成负压固定基底5。
40.进一步的，真空槽111设置于台盘1的上表面，真空槽111的形状设置为环形，且真空槽111之间同心设置，基底5的尺寸要略大于相应的真空槽111，以使其能够完全覆盖相应的真空槽111，为了适应更小的基底，可在靠近台盘1中心的真空槽内侧设置十字形真空槽113，十字形真空槽113内设置真空孔，真空孔可与真空泵连接。
41.在本实施例中，支撑部21设置有四个，以台盘1中心呈四边形设置。
42.进一步的，支撑部21包括顶针211，以及与顶针211连接的支撑伸缩杆212，支撑伸缩杆212可通过电机213驱动控制其可伸缩，以使顶针211与基底5相抵或分离。
43.在本实施例中，承托部31包括叉状的托板310，以及与托板310连接的上料伸缩杆312，上料伸缩杆312可通过电机313驱动控制其可伸缩，以使托板310上的基底5伸向支撑部21上方。
44.进一步的，托板310上靠近上料伸缩杆312的位置设置有至少一个定位凸起3101，用以粗略定位基底5在托板310上的位置。
45.在本实施例中，上料固定部311包括设置于承托部31与基底5接触面上的真空吸附槽3111，以及设置于真空吸附槽3111内的真空孔3112，真空孔3112与真空泵连接，与真空孔3112连接的真空泵在图中未给出，以使真空吸附槽3111内形成负压固定基底5。
46.在本实施例中，两定位部41均包括定位夹持块411，以及与定位夹持块411连接的夹持伸缩杆412，夹持伸缩杆412可通过电机413驱动控制其可伸缩，以使定位夹持块411与基底5接触，定位夹持块411与基底5的接触面的材质为软性材质，以避免损伤基底5。
47.以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。