一种无掩膜光刻设备的制作方法

本申请涉及无掩膜光刻技术领域，特别涉及一种无掩膜光刻设备。

背景技术：

无掩膜光刻技术是一种直接利用图形工作站输出的数据，驱动激光成像装置，在印制电路板(printedcircuitboard，pcb)基材上进行图形成像的技术，因此又称为激光直接成像技术(laserdirectimaging，ldi)。无掩膜光刻技术是一种非接触式成像技术，因其不需要使用掩膜板，能够大大简化印刷流程、节约制程时间的优点，目前已经被广泛应用于pcb印刷领域。

ldi设备通常采用数字微镜器件(digitalmicromirrordevice，dmd)对照射到pcb板材上的激光图像进行控制。dmd是一种微镜阵列，由若干纵横排列的微反射镜单元组成，每一个微反射镜单元都是一个独立的个体，可以翻转不同角度(通常由三个预设角度，即+12°、0°和-12°)，当翻转至其中一个预设角度时，即可将激光光束反射，并使得激光光束通过投影物镜成像在基板上，形成一个亮的像素；当微反射镜单元偏离该预设角度时，激光光束被反射到光束吸收板上，这就使得基板上形成一个暗的像素。对于在基板上贴设有感光干膜的方案，当照射至感光干膜上的激光的强度高于阈值时，感光干膜会接收激光并发生物化反应，吸附在基板上；进一步的，通过控制dmd翻转状态并在基板上进行扫描，即可使得基板上各处的感光干膜接收到不同强度的激光照射，在基板上曝光出线路图。

传统的无掩膜光刻方案中，由于dmd的每个微反射镜单元之间的间距是相同的，比如，如果单独一个微反射镜单元偏转后再基板上形成10.8μm的光斑，在基板上扫描形成的电路宽度即为10.8μm或者10.8μm的整数倍，无法实现电路宽度的连续变化。

技术实现要素：

本申请的目的在于提供一种无掩膜光刻设备，旨在解决传统的无掩膜光刻设备无法在基板上印制宽度能够连续变化的电路的技术问题。

本申请是这样实现的，一种无掩膜光刻设备，包括用于产生面阵光的照明装置、设置于所述照明装置发出的面阵光的光路上的数字微镜器件、用于承载待加工的基板的载物台组件、设置于所述载物台组件和所述数字微镜器件之间的投影物镜，以及电气连接所述载物台组件和所述数字微镜器件的控制单元；所述数字微镜器件具有多个纵横排列的微反射镜单元，所述微反射镜单元反射的所述面阵光经过所述投影物镜后在所述基板上形成刻蚀光斑；各所述刻蚀光斑沿第一方向和与所述第一方向垂直的方向纵横排列，且所述刻蚀光斑能够沿第二方向扫描照射所述基板，所述第一方向和所述第二方向之间的夹角θ为锐角。

在本申请的一个实施例中，所述载物台组件包括载物台本体，以及连接所述载物台本体的移动平台；所述基板设置于所述移动平台的正对所述投影物镜的一侧，所述移动平台能够在所述控制单元的控制下带动所述基板移动。

在本申请的一个实施例中，所述基板包括与所述移动平台接触的第一底面、与所述第一底面相对且正对所述投影物镜的第二底面，以及同时连接所述第一底面和所述第二底面的周缘的第一侧面；所述第一侧面平行于所述第一方向，且所述移动平台能够带动所述基板沿所述第二方向移动。

在本申请的一个实施例中，所述数字微镜器件还包括承载各所述微反射镜单元的数字微镜主板，以及与所述数字微镜主板电气连接并用于为所述数字微镜主板供电的数字微镜电源。

在本申请的一个实施例中，各所述微反射镜单元纵横排列于所述数字微镜主板的与所述照明装置相对的一侧，所述数字微镜主板能够与所述控制单元连接，且所述数字微镜主板能够在所述控制单元的控制下，分别驱动各所述微反射镜单元在第一姿态、第二姿态和第三姿态之间切换。

在本申请的一个实施例中，所述无掩膜光刻设备还包括光束吸收板，所述光束吸收板设置于所述微反射镜单元处于所述第二姿态和所述第三姿态时经过所述数字微镜器件之后的所述面阵光的光路上。

在本申请的一个实施例中，所述数字微镜器件具有1080行、1920列纵横排布的所述微反射镜单元，且相邻的所述微反射镜单元之间的距离为10.8μm；或者，所述数字微镜器件具有1600行、2560列纵横排布的所述微反射镜单元，且相邻的所述微反射镜单元之间的距离为7.56μm。

在本申请的一个实施例中，所述照明装置包括用于向所述数字微镜器件发射激光的激光发生器，以及设置于所述激光发生器和所述数字微镜器件之间的扩束器。

在本申请的一个实施例中，纵横分布的所述微反射镜单元中，每行所述微反射镜单元之间的连线被配置为平行于所述基板所在的平面。

在本申请的一个实施例中，所述第一方向和所述第二方向之间的夹角θ在5°～15°范围内。

实施本申请任一实施例提供的一种无掩膜光刻设备，至少具有以下有益效果：

照明装置发出的面阵光在光路上经过数字微镜器件和投影物镜后，在基板上形成刻蚀光斑，各微反射镜单元形成的刻蚀光斑沿第一方向和与第一方向垂直的方向纵横排列，在控制单元的控制下，刻蚀光斑能够沿第二方向扫描照射基板，第一方向和第二方向之间的夹角θ为锐角，这样，控制单元可以控制数字微镜器件的多个纵横排列的微反射镜单元按照预设的时序关系偏转，并将光束反射至基板上，最终能够在基板上扫描出宽度不等于刻蚀光斑直径的整数倍的电路线，使得基板上的印制电路的宽度具有连续可变性。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本申请的一个实施例提供的无掩膜光刻设备的结构示意图；

图2是本申请的一个实施例提供的无掩膜光刻设备的工作原理示意图；

图3是本申请的一个实施例提供的数字微镜器件的工作原理示意图。

上述附图所涉及的标号明细如下：

1-照明装置；10-光束；11-刻蚀光斑；111-第一方向；112-第二方向；2-扩束器；3-数字微镜器件；31-微反射镜单元；32-数字微镜主板；4-载物台组件；40-基板；401-第一侧面；402-第二侧面；403-第三侧面；404-第四侧面；5-投影物镜；6-控制单元；7-光束吸收板。

具体实施方式

为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本申请进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本申请，并不用于限定本申请。

需说明的是，当部件被称为“固定于”或“设置于”另一个部件，它可以直接或者间接位于该另一个部件上。当一个部件被称为“连接于”另一个部件，它可以是直接或者间接连接至该另一个部件上。术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置为基于附图所示的方位或位置，仅是为了便于描述，不能理解为对本技术方案的限制。术语“第一”、“第二”仅用于便于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明技术特征的数量。“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

为了说明本申请所述的技术方案，以下结合具体附图及实施例进行详细说明。

请参阅图1和图2，本申请的一个实施例提供了一种无掩膜光刻设备，包括用于产生面阵光的照明装置1、设置于照明装置1发出的光束10的光路上的数字微镜器件3、用于承载待加工的基板40的载物台组件4、设置于载物台组件4和数字微镜器件3之间的投影物镜5，以及电气连接载物台组件4和数字微镜器件3的控制单元6；数字微镜器件3具有多个纵横排列的微反射镜单元31，微反射镜单元31反射的面阵光经过投影物镜5后在基板40上形成刻蚀光斑11；各刻蚀光斑11沿第一方向111和与第一方向111垂直的方向纵横排列，且刻蚀光斑11能够沿第二方向112扫描照射基板40，第一方向111和第二方向112之间的夹角θ为锐角。

具体而言，本实施例提供的无掩膜光刻设备是这样工作的：

请参阅图1和图2，照明装置1发出的面阵光照射到数字微镜器件3；数字微镜器件3具有若干纵横排列的微反射镜单元31，在控制单元6的控制下，每一个微反射镜单元31均能在三个偏转姿态(也即第一姿态、第二姿态和第三姿态)之间切换，当微反射镜单元31处于第一姿态时，照明装置1发出的面阵光经过微反射镜单元31的反射后会照射向投影物镜5，并被投影物镜5成像在基板40上。这样，可以通过在基板40上贴设感光干膜，使得当照射至感光干膜上的面阵光的强度高于阈值时，感光干膜会接收面阵光并发生物化反应，吸附在基板40上；进一步的，控制单元6控制数字微镜器件3的微反射镜单元31的翻转状态，并控制数字微镜器件3对基板40上进行扫描，即可使得基板40上各处的感光干膜接收到不同强度的面阵光的照射，在基板上曝光出线路图。

实施本实施例提供的无掩膜光刻设备，至少具有以下有益技术效果：

照明装置1发出的面阵光依次经过数字微镜器件3和投影物镜5后，在基板40上形成刻蚀光斑11，各微反射镜单元31形成的刻蚀光斑11沿第一方向111和与第一方向111垂直的方向纵横排列，形成刻蚀光斑11矩阵，在控制单元6的控制下，刻蚀光斑11能够沿第二方向112扫描照射基板40，第一方向111和第二方向112之间的夹角θ为锐角，这样，控制单元6可以控制数字微镜器件3的多个纵横排列的微反射镜单元31按照预设的时序关系偏转，并将面阵光反射至基板40上，最终能够在基板40上扫描出宽度不等于刻蚀光斑11直径的整数倍的电路线，使得基板40上的印制电路的宽度具有连续可变性。

作为本实施例的一个具体方案，照明装置1包括用于向数字微镜器件3发射光束10的激光发生器，以及设置于激光发生器和数字微镜器件3之间的扩束器2。激光发生器输出的光束10首先经过扩束器2的扩束准直，成为面阵光束10并照射至数字微镜器件3，经过数字微镜器件3的选择性反射，且经过投影物镜5的折射后，在基板40上投影形成组成阵列的刻蚀光斑11。更为优选的，照明装置1还包括设置于扩束器2和数字微镜器件3之间的整形镜(图中未示出)，整形镜用于改变光束10光束的波前，将经过扩束器2扩束后的光束10整形为波前强度均匀的面阵光，以使得各刻蚀光斑11的光强度更加接近。

请参阅图1和图2，具体而言，各微反射镜单元31形成的刻蚀光斑11沿第一方向111和与第一方向111垂直的方向纵横排列，在控制单元6的控制下，刻蚀光斑11能够沿第二方向112扫描照射基板40，第一方向111和第二方向112之间的夹角θ为锐角，这样，当需要在基板40上印制宽度不等于刻蚀光斑11的直径的整数倍的电路线时，控制单元6可以控制数字微镜器件3的多个纵横排列的微反射镜单元31按照预设的时序关系将光束10反射至基板40上，从而在基板40上扫描出宽度等于a[1±(n-1)sinθ]的线路线(其中a表示刻蚀光斑11的直径，n为在第一方向111上相邻的处于第一姿态的微反射镜单元31的数量)。设定第一方向111和第二方向112之间的夹角为θ，通过控制单元设置曝光阈值，控制曝光时间，使重复曝光的区域达到阈值，使感光干膜发生物化反应，从而实现基板40上的电路线的连续可变性。

比如，设定θ为30°，刻蚀光斑11的直径为1μm，但是实际需要1.5μm宽度的电路线时，同时设置在第一方向111上相邻的两个微反射镜单元31向基板40反射光束10，将阈值设定为1，刻蚀光斑11即具有足够的光强以使得感光干膜发生物化反应并吸附在基板上，这样，当刻蚀光斑11沿第二方向112扫描过基板40的表面时，即可在基板40的表面刻蚀出1.5μm宽度的电路线；刻蚀光斑11的直径为1μm，实际需要0.5μm宽度的电路线时，设置在第一方向111上相邻的两个微反射镜单元31向基板40反射光束10，将光束10的强度配置为两个刻蚀光斑11的叠加才具有足够的光强以使得感光干膜发生物化反应并吸附在基板上，即设置阈值为2，这样，当刻蚀光斑11沿第二方向112扫描过基板40的表面时，即可在基板40的表面刻蚀出0.5μm宽度的电路线。

更为具体的，同样以刻蚀光斑11的直径为1μm，但是实际需要1.5μm宽度的电路线，θ为30°时的情景为例，此时，将光束10的强度配置为单个刻蚀光斑11即具有足够的光强以使得感光干膜发生物化反应并吸附在基板上。当基板40运行至其中第一行刻蚀光斑11(本实施例的原理描述中，沿平行于第一方向111的方向分布的刻蚀光斑11为一列，沿垂直于第一方向111的方向分布的刻蚀光斑11为一行)照射待刻蚀位置时，控制单元6控制第一行的与待刻蚀位置对应的微反射镜单元31偏转，从而在基板40的待刻蚀位置刻蚀出宽度为1μm的第一区域；各刻蚀光斑11沿第二方向112继续运行，直至与第一行刻蚀光斑11相邻的第二行刻蚀光斑11照射待刻蚀位置时，控制单元6控制第二行的与待刻蚀位置对应的微反射镜单元31(也就是与第一行的已经偏转并刻蚀电路的微反射镜单元31同列且位于第二行的一个微反射镜单元31)偏转，从而在基板40的待刻蚀位置刻蚀出宽度为1μm的第二区域。由于第二方向112和第一方向111之间存在30°的夹角，第二区域与第一区域有0.5μm的部分是重合的，这样一来，在待刻蚀位置即可刻蚀出宽度为1.5μm的电路线。进一步的，在控制单元6的程式控制下，各刻蚀光斑11沿第二方向112继续运行，且各微反射镜单元31按照时序发生偏转，即可在基板40上刻蚀出1.5微米宽度的电路线。

同样以刻蚀光斑11的直径为1μm，但是实际需要0.5μm宽度的电路线，θ为30°时的情景为例，此时，将光束10的强度配置为两个刻蚀光斑11的叠加才具有足够的光强以使得感光干膜发生物化反应并吸附在基板上。当基板40运行至其中第一行刻蚀光斑11(本实施例的原理描述中，沿平行于第一方向111的方向分布的刻蚀光斑11为一列，沿垂直于第一方向111的方向分布的刻蚀光斑11为一行)照射待刻蚀位置时，控制单元6控制第一行的与待刻蚀位置对应的微反射镜单元31偏转，从而在基板40的待刻蚀位置投射直径为1μm的第一光斑；各刻蚀光斑11沿第二方向112继续运行，直至与第一行刻蚀光斑11相邻的第二行刻蚀光斑11照射待刻蚀位置时，控制单元6控制第二行的与待刻蚀位置对应的微反射镜单元31(也就是与第一行的已经偏转并刻蚀电路的微反射镜单元31同列且位于第二行的一个微反射镜单元31)偏转，从而在基板40的待刻蚀位置投射直径为1μm的第二光斑。由于第二方向112和第一方向111之间存在30°的夹角，第二光斑与第一光斑有0.5μm的部分是重合的，只有重合的位置同时受到了第一光斑和第二光斑的照射，而光束10对感光干膜的作用是可以叠加的，即使是不同时间照射到感光干膜上的光斑，只要满足刻蚀光斑11的总强度大于阈值即可在待刻蚀位置上刻蚀出相应的电路线。因此，这样一来，在待刻蚀位置即可刻蚀出宽度为0.5μm的电路线。进一步的，在控制单元6的程式控制下，各刻蚀光斑11沿第二方向112继续运行，且各微反射镜单元31按照时序发生偏转，即可在基板40上刻蚀出0.5微米宽度的电路线。

实际操作过程中，θ的值范围通常在5°～15°之间；而且，基板40上需要刻蚀的电路是十分复杂的，控制单元6可以控制数字微镜器件3对进行微反射镜单元31的状态进行实时改变，多次重复向基板40透射刻蚀光斑11并扫描的过程以实现多次曝光或者重复曝光，即可在基板40上刻蚀出所需要的电路图案。

在本申请的一个实施例中，载物台组件4包括载物台本体，以及连接载物台本体的移动平台；基板40设置于移动平台的正对投影物镜5的一侧，移动平台能够在控制单元6的控制下带动基板40移动。

请参阅图1和图2，具体而言，控制单元6控制移动平台带动基板40移动时，也会根据在基板40上绘制的电路图的具体图案，控制数字微反射镜的各个微反射镜单元31的偏转状态，以使得能够在基板40上绘制出复杂且宽度可连续变化的电线路。

作为本实施例的一个具体方案，载物台本体和移动平台之间通过轨道连接，载物台组件4还包括用于驱动移动平台的移动的电机，以及用于支撑激光发生器的输出件、扩束器2、数字微镜器件3和投影物镜5的支架，支架连接载物台本体，且连接支架的投影物镜5正对移动平台设置。

请参阅图1和图2，在本申请的一个实施例中，基板40包括与移动平台接触的第一底面、与第一底面相对且正对投影物镜5的第二底面，以及同时连接第一底面和第二底面的周缘且相互垂直的第一侧面401和第二侧面402；第一侧面401平行于第一方向111，且移动平台能够带动基板40沿第二方向112移动。

请参阅图1和图2，具体而言，pcb可以是矩形的，还包括平行于第一侧面401的第三侧面403，以及平行于第二侧面402的第四侧面404。第一侧面401和第三侧面403平行于第一方向111设置，相应的，第二侧面402和第四侧面404垂直于第一方向111，移动平台带动基板40沿第二方向112移动，这样，控制单元6根据需要在基板40上印制的电路，在移动平台带动基板40移动的同时，按照时序控制数字微镜器件3的多个纵横排列的微反射镜单元31将光束10反射至基板40上，从而在基板40上扫描出宽度具有连续可变性的电路线。

这样做的好处在于，在设置数字微镜器件3时，只需要将数字微镜器件3配置为能够将扩束器2处射来的光束10有选择性地反射至投影物镜5即可，而不需要在设置数字微镜器件3的姿态时考虑数字微镜器件3反射后形成的光斑的之间的连线的方向，从而能够简化无掩膜光刻设备的各个光学元件的姿态关系，简化无掩膜光刻设备的安装调试工作。

请参阅图3，比如，对于微反射镜单元31的第一姿态、第二姿态和第三姿态分别是-12°、0°和﹢12°的情况，可以将照明装置1的输出件水平设置，将数字微镜器件3沿垂直于光束10的方向设置后，其上部向照明装置1所在的位置旋转33°，这样，当数字微镜器件3中的微反射镜单元31处于第一姿态时，对应的光束10即可被反射至投影物镜5并在基板40上形成刻蚀光斑11。

传统方案中，需要在此基础上沿数字微镜器件3的反射面的轴向进一步旋转数字微镜器件3，在此过程中，经数字微镜器件3反射后投射在基板40上的多个刻蚀光斑11之间的连线总体呈平行四边形，这无疑是不利于控制单元6电路印制的控制的，会极大地增加控制程式的复杂度，因此往往需要对数字微镜器件3的姿态进行更为复杂的调试，使得多个刻蚀光斑11之间的连线总体呈矩形，使得无掩膜光刻设备的安装调试工作复杂而繁琐。

与本实施例相应的，本申请提供一种无掩膜光刻方法，无掩膜光刻方法包括以下步骤：

将基板40与放置在载物台组件4上；

照明装置1开始工作并产生面阵光，面阵光经过数字微镜器件3和投影物镜5向基板40投射刻蚀光斑11，刻蚀光斑11沿第一方向111和与第一方向111垂直的方向纵横排列；

控制单元6控制载物台组件4带动基板40沿第二方向112移动，同时，控制单元6根据需要在基板40上光刻形成的图案，控制各微反射镜单元31的偏转状态，重复该步骤直至基板40上形成预设的光刻图案。

本实施例提供的无掩膜光刻方法，通过配置照明装置1向基板40投射沿第一方向111和与第一方向111垂直的方向纵横排列的刻蚀光斑11，同时配置载物台组件4带动基板40沿第二方向112移动，即可以多次曝光、重复曝光的方式在基板40上刻蚀出复杂且宽度可连续变化的电线路，从而实现基板40上的电路线的连续可变性。控制单元6控制载物台组件4带动基板40沿第二方向112移动，这样，在设置数字微镜器件3时，只需要将数字微镜器件3配置为能够将扩束器2处射来的面阵光有选择性地反射至投影物镜5即可，而不需要在设置数字微镜器件3的姿态时考虑数字微镜器件3反射后形成的光斑的之间的连线的方向，从而能够简化无掩膜光刻设备的各个光学元件的姿态关系，简化无掩膜光刻设备的安装调试工作。

作为本实施例的一个具体方案，照明装置1包括正对数字微镜器件3设置的照明装置1，以及设置于照明装置1和数字微镜器件3之间的扩束器2，照明装置1产生的光束10经过扩束器2的扩束后成为面阵光，面阵光经过数字微镜器件3和投影物镜5向基板40投射刻蚀光斑11。

在本申请的一个实施例中，数字微镜器件3还包括承载各微反射镜单元31的数字微镜主板32，以及与数字微镜主板32电气连接并用于为数字微镜主板32供电的数字微镜电源；各微反射镜单元31纵横排列于数字微镜主板32的与扩束器2相对的一侧，数字微镜主板32能够与控制单元6连接，且数字微镜主板32能够在控制单元6的控制下，分别驱动各微反射镜单元31在第一姿态、第二姿态和第三姿态之间切换。

更为具体的，数字微镜主板32包括用于承载各微反射镜单元31的反光主板和用于与控制单元6电气连接的控制主板，反光主板和控制主板之间通过线缆连接，且反光主板上设置有用于控制各微反射镜单元31的dmd芯片；数字微镜电源用于为控制主板和反光主板供电，控制单元6安装有相应的程序控制软件，能够通过向数字微镜单元输出编码后的信号，以控制数字微镜器件3上的各个微反射镜单元31的转动，将刻蚀光斑11有选择性的反射至投影物镜5。

在本申请的一个实施例中，数字微镜器件3具有1080行、1920列纵横排布，或者具有1600行、2560列纵横排布的微反射镜单元31，且相邻的微反射镜单元31之间的距离为10.8μm或者7.56μm；更为具体的，第一方向111和第二方向112之间的夹角θ的范围为5°-15°。这样，可以实现1920*1080分辨率或者1600*2560分辨率的光束10刻蚀，而且，经过投影物镜5的进一步成像，可以使得刻蚀光斑11的面积减小到纳米级别，从而减小刻蚀光斑11的直径，使得无掩膜光刻设备具有更小的最小线宽，提高光束10刻蚀的精度。

请参阅图1，在本申请的一个实施例中，无掩膜光刻设备还包括光束吸收板7，光束吸收板7设置于微反射镜单元31处于第二姿态和第三姿态时经过数字微镜器件3之后的光束10的光路上。

设置光束吸收板7的目的在于吸收经过微反射镜单元31的反射后，未被照射在基板40上的光束10光线。光束10刻蚀作业中，常采用较高能级的照明装置1，以保证感光干膜能够在收到光束10照射后发生物化反应，照射至感光干膜上的光束10除了强度需要高于阈值，其波长也应当足够短，以保证单个光子具有足够的能量使得感光干膜发生物化反应，因此，光束10刻蚀中，光束10具有高能的特点。而且，各微反射镜单元31均具有第一姿态、第二姿态和第三姿态，未被反射至基板40的刻蚀光束10会向空间内其他两个特定的方向反射，这更增加了光束10的危险性。设置光束吸收板7易吸收未被照射在基板40上的光束10光线，能够大大提升无掩膜光刻设备的安全性。

在本申请的一个实施例中，纵横分布的微反射镜单元31中，每行微反射镜单元31之间的连线被配置为平行于基板40所在的平面。

由于本申请各实施例中，第一方向111和第二方向112之间存在的夹角是通过配置基板40和载物台组件4来实现的，因此可以将每行微反射镜单元31之间的连线被配置为平行于基板40所在的平面。这样一来，在设置数字微镜器件3时，只需要将数字微镜器件3配置为能够将扩束器2处射来的光束10有选择性地反射至投影物镜5即可，而不需要设置数字微镜器件3的姿态时考虑数字微镜器件3反射后形成的光斑的之间的连线的方向，从而能够简化无掩膜光刻设备的各个光学元件的姿态关系，从而能够简化无掩膜光刻设备的安装调试工作。

以上所述仅为本申请的可选实施例而已，并不用以限制本申请，凡在本申请的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。