技术特征：
1.一种制造衍射背光的方法，所述方法包括：在导光基板上形成通用光栅；在所述导光基板上形成反射岛；以及使用所述反射岛来选择所述通用光栅的一部分以限定光栅元件，其中，所述衍射背光的反射衍射光栅元件包括所述光栅元件和所述反射岛的组合。2.根据权利要求1所述的制造衍射背光的方法，其中，在所述光导基板上形成通用光栅包括：使用纳米压印模具将所述通用光栅纳米压印在所述光导基板的纳米压印接收层中。3.根据权利要求1所述的制造衍射背光的方法，其中，形成所述反射岛包括：图案化反射材料层以限定所述反射岛，所述反射材料层包括金属、金属聚合物和高折射率电介质中的一种或多种。4.根据权利要求1所述的制造衍射背光的方法，其中，所述通用光栅位于所述光导基板的表面上，所述反射岛形成于所述通用光栅之上。5.根据权利要求4所述的制造衍射背光的方法，其中，形成所述反射岛包括：在所述通用光栅上沉积反射材料层；以及使用图案化的光致抗蚀剂蚀刻所述反射材料层，以移除所述反射材料层的一部分并限定所述反射岛。6.根据权利要求4所述的制造衍射背光的方法，其中，使用所述反射岛来选择所述通用光栅的所述部分以限定光栅元件包括：通过蚀刻所述通用光栅的未被所述反射岛覆盖的暴露部分来移除所述暴露部分。7.根据权利要求4所述的制造衍射背光的方法，其中，使用所述反射岛来选择所述通用光栅的所述部分以限定光栅元件包括：利用光学材料层覆盖所述通用光栅和所述反射岛，所述光学材料层与所述通用光栅折射率匹配。8.根据权利要求1所述的制造衍射背光的方法，其中，所述反射岛位于所述光导基板的表面上，所述通用光栅形成在所述反射岛之上。9.根据权利要求8所述的制造衍射背光的方法，还包括：在所述反射岛与所述通用光栅之间提供光学材料层，其中，所述光学材料层与所述光导基板的材料折射率匹配，所述通用光栅形成在所述光学材料层上。10.根据权利要求8所述的制造衍射背光的方法，其中，选择所述通用光栅的一部分包括：施加光致抗蚀剂以覆盖所述通用光栅；以及使用准直光源曝光所述光致抗蚀剂，以从所述光导基板的与所述反射岛所位于的一侧相对的一侧照射所述光致抗蚀剂，所述光致抗蚀剂为正性光致抗蚀剂且所述反射导充当光掩模以限定在所述光致抗蚀剂被显影之后剩余的所述光致抗蚀剂的一部分，其中，选择所述通用光栅的所述部分以限定所述光栅元件包括：移除所述通用光栅的未被剩余的所述光致抗蚀剂覆盖的暴露部分。11.根据权利要求10所述的制造衍射背光的方法，其中，移除所述通用光栅的所述暴露部分包括：蚀刻所述暴露部分以移除所述通用光栅的未被所述光致抗蚀剂覆盖的材料。12.根据权利要求10所述的制造衍射背光的方法，还包括：应用负光致抗蚀剂以覆盖所述反射岛和所述光栅元件；
使用准直光源来曝光所述负光致抗蚀剂以照射所述负光致抗蚀剂，并且在所述光栅元件上方的所述光致抗蚀剂中限定开口；以及通过所述光致抗蚀剂中的所述开口在所述光栅元件上沉积反射材料，其中，所述反射材料专门覆盖所述光栅元件。13.根据权利要求12所述的制造衍射背光的方法，还包括：在所述光导基板上沉积光学材料层，所述光学材料层嵌入所述光栅元件、所述反射岛、以及覆盖所述光栅元件的所述反射材料，其中，移除所述通用光栅的所述暴露部分包括所述暴露部分被所述光学材料层覆盖。14.一种制造衍射背光的方法，所述方法包括：在光导的表面上形成反射岛，所述反射岛包括金属、金属聚合物和高折射率电介质中的一种或多种；在所述光导上沉积光学材料层以覆盖所述反射岛，所述光学材料与所述光导的材料折射率匹配；使用纳米压印光刻在所述光学材料层上形成通用光栅；以及使用所述反射岛来选择所述通用光栅的一部分以限定光栅元件，其中，所述衍射背光的反射衍射光栅元件包括所述光栅元件和所述反射岛的组合。15.根据权利要求14所述的制造衍射背光的方法，其中，选择所述通用光栅的一部分包括：应用光致抗蚀剂以覆盖所述通用光栅；以及使用准直光源曝光所述光致抗蚀剂，以从所述光导的与所述反射岛所在一侧相对的一侧照射所述光致抗蚀剂，所述反射岛用作光掩模以限定在所述光致抗蚀剂被显影之后剩余的所述光致抗蚀剂的一部分，其中，选择所述通用光栅的一部分以限定所述光栅元件包括：蚀刻所述通用光栅的未被剩余的所述光致抗蚀剂覆盖的暴露部分，或用所述光学材料层覆盖所述通用光栅的所述暴露部分中的一个。16.根据权利要求15所述的制造衍射背光的方法，还包括：在所述光栅元件上沉积反射材料层，并且还用所述光学材料层覆盖所沉积的反射材料层。17.一种制造衍射背光的方法，所述方法包括：通过使用纳米压印模具纳米压印通用光栅，在光导的表面上形成所述通用光栅；在所述通用光栅上形成反射岛；以及使用所述反射岛来选择所述通用光栅的一部分以限定光栅元件，其中，所述衍射背光的反射衍射光栅元件包括所述光栅元件和所述反射岛的组合。18.根据权利要求17所述的制造衍射背光的方法，其中，使用所述反射岛来选择所述通用光栅的所述部分以限定光栅元件包括：通过蚀刻所述通用光栅的未被所述反射岛覆盖的暴露部分来移除所述暴露部分，或者利用光学材料层来覆盖所述通用光栅和反射岛中的一个，所述光学材料层与所述通用光栅折射率匹配。19.根据权利要求17所述的制造衍射背光的方法，其中，所述通用光栅包括所述通用光栅中的开口，所述方法还包括：在所述开口中沉积反射材料层以提供不包括在反射衍射光栅元件中的反射岛。
20.根据权利要求17所述的制造衍射背光的方法，其中，在所述通用光栅上形成所述反射岛包括：图案化反射材料层以限定所述反射岛，所述反射材料层包括金属、金属聚合物和高折射率电介质中的一种或多种。
技术总结
制造衍射背光采用通用光栅并使用反射岛选择通用光栅的一部分以限定光栅元件，衍射背光的反射衍射光栅元件包括光栅元件和反射岛。一种制造衍射背光的方法包括形成通用光栅、形成反射岛、以及使用反射岛来选择通用光栅的一部分以限定光栅元件。制造衍射背光的方法可以包括在光导表面上形成反射岛，以及在反射岛之上形成通用光栅。可替代地，制造衍射背光的方法可以包括在光导表面上形成通用光栅，以及在通用光栅之上形成反射岛。通用光栅之上形成反射岛。通用光栅之上形成反射岛。
技术研发人员：T.霍克曼 D.A.法塔尔 马明 彭臻
受保护的技术使用者：镭亚股份有限公司
技术研发日：2020.04.25
技术公布日：2021/12/10