1.一种侦测浸没式光刻机的浸没罩的排液孔堵塞的方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤一、在晶圆工件台上设置压力传感器；
步骤二、将浸没罩从排水模式切换成吹气模式；在所述吹气模式中，所述浸没罩的各排液孔中会流动气体；
步骤三、将所述浸没罩的各所述排液孔独立扫过所述压力传感器并记录各所述排液孔对应的压力值；
步骤四、根据所述浸没罩的各所述排液孔的压力值确定所述浸没罩的各所述排液孔的堵塞状态。
2.如权利要求1所述的侦测浸没式光刻机的浸没罩的排液孔堵塞的方法，其特征在于：步骤三中，通过扫描式移动所述晶圆工件台实现将所述浸没罩的各所述排液孔独立扫过所述压力传感器。
3.如权利要求2所述的侦测浸没式光刻机的浸没罩的排液孔堵塞的方法，其特征在于：步骤三中，还同时记录和各所述压力值对应的所述晶圆工件台的位置，所述晶圆工件台的位置和所述排液孔的位置对应。
4.如权利要求3所述的侦测浸没式光刻机的浸没罩的排液孔堵塞的方法，其特征在于：步骤四中，制作所述压力值和所述晶圆工件台的位置形成的压力测量曲线，从所述压力测量曲线中确定异常压力值对应的所述晶圆工件台的位置，并进而确定有堵塞的所述排液孔的位置。
5.如权利要求4所述的侦测浸没式光刻机的浸没罩的排液孔堵塞的方法，其特征在于：步骤四中从所述压力测量曲线中确定异常压力值的方法为：
计算标准差；
将所述压力测量曲线中的偏离超过3个标准差或者6个标准差的压力值确定为所述异常压力值。
6.如权利要求1所述的侦测浸没式光刻机的浸没罩的排液孔堵塞的方法，其特征在于：步骤二中，在所述排水模式中，所述浸没罩的各排液孔中会流动液体。
7.如权利要求6所述的侦测浸没式光刻机的浸没罩的排液孔堵塞的方法，其特征在于：所述浸没罩设置在浸没式光刻机的投影透镜组的底部。
8.如权利要求7所述的侦测浸没式光刻机的浸没罩的排液孔堵塞的方法，其特征在于：所述晶圆工件台用于放置晶圆。
9.如权利要求8所述的侦测浸没式光刻机的浸没罩的排液孔堵塞的方法，其特征在于：在曝光时，所述浸没罩处于排水模式，所述浸没罩在所述晶圆的曝光区域和所述投影透镜组之间提供液体，所述液体缩短所述曝光的光线波长。
10.如权利要求9所述的侦测浸没式光刻机的浸没罩的排液孔堵塞的方法，其特征在于：所述液体包括水。
11.如权利要求9所述的侦测浸没式光刻机的浸没罩的排液孔堵塞的方法，其特征在于：在进行所述曝光时，通过扫描式移动所述晶圆工件台实现对所述晶圆的各区域进行曝光。
12.如权利要求1所述的侦测浸没式光刻机的浸没罩的排液孔堵塞的方法，其特征在于：所述浸没罩中所包括的所述排液孔的数量为2000个以上。
13.如权利要求1或4所述的侦测浸没式光刻机的浸没罩的排液孔堵塞的方法，其特征在于：所述排液孔为堵塞状态时对应的所述压力值会降低。
14.如权利要求5所述的侦测浸没式光刻机的浸没罩的排液孔堵塞的方法，其特征在于：步骤四中在计算所述标准差之前还包括对所述压力值进行数值处理，所述数值处理包括：先进行信号平滑，再取微分，最后取平均算出压力峰值。
15.如权利要求1所述的侦测浸没式光刻机的浸没罩的排液孔堵塞的方法，其特征在于：步骤二中，在所述吹气模式中流动的气体包括空气、氮气或惰性气体。