一种高清晰度的渐进式镜片及眼镜的制作方法

1.本实用新型涉及一种，尤其是一种高清晰度的渐进式镜片及眼镜。


背景技术：

2.渐进式镜片是一个多焦距的镜片，例如当有两个焦距时，可以在上下两个焦距的过渡中利用打磨技术，将两个焦距之间逐渐过渡。现有的渐进镜片是在镜片的上方设定一定的渐进位置比沉积一层高折射率薄膜材料，下方裸露，并与上方的薄膜层平滑过渡，这样的镜片反射率在20％左右，由于下方不沉积薄膜层，镜片的透光率在92％左右，还原可视物体的清晰度很差，长久使用眼镜伤害眼睛。


技术实现要素：

3.针对上述问题，本实用新型提供一种高清晰度的渐进式镜片，通过在镜片的两面分别设置渐进高反射薄膜层、外增透薄膜层和内增透薄膜层，使得镜片上方具有较高的反射率，而下方则具有较高的透视率，从而解决渐进式镜片存在的清晰度差的问题。
4.为解决此技术问题，本实用新型采取以下方案：
5.一种高清晰度的渐进式镜片，包括基片，定义所述高清晰度的渐进式镜片在佩戴状态下远离眼睛的一面为外，以眼睛的上方为上，则所述基片的外表面设置位于上方的渐进高反射薄膜层和位于下方的外增透薄膜层，所述渐进高反射薄膜层的下边缘与所述外增透薄膜层的上边缘重合，并且，所述渐进高反射薄膜层的渐进位置比与所述外增透薄膜层的渐进位置比不相同，所述基片的内表面设置内增透薄膜层，所述内增透薄膜层完全覆盖所述基片的内表面。
6.进一步的，所述渐进高反射薄膜层的渐进位置比为5.5-6:4-4.5；所述内增透薄膜层和所述外增透薄膜层的渐进位置比为5-5.5:4.5-5。
7.进一步的，所述渐进高反射薄膜层由7-11层交替层叠的二氧化硅层和过渡金属层组成，所述内增透薄膜层由5-9层交替层叠的二氧化硅层和过渡金属层组成，所述外增透薄膜层由5-9层交替层叠的二氧化硅层和过渡金属层组成。
8.进一步的，所述渐进高反射薄膜层由11层交替层叠的二氧化硅层和过渡金属层组成，依次为l1、l2、l3、l4、l5、l6、l7、l8、l9、l10、l11膜层，其中l1膜层与所述基片外表面相连，l1、l3、l5、l7、l9、l11膜层为二氧化硅层，l2、l4、l6、l8、l10膜层为过渡金属层；l1膜层的厚度为800-3000埃，l2、l4、l6、l8、l10膜层的厚度为200-1000埃，l3、l5、l7、l9、l11膜层的厚度为300-1500埃。
9.进一步的，所述内增透薄膜层由7层交替层叠的二氧化硅层和过渡金属层组成，依次为m1、m2、m3、m4、m5、m6、m7膜层，其中，m1膜层与所述基片内表面相连，m1、m3、m5、m7膜层为二氧化硅层；m2、m4、m6膜层为过渡金属层；m1、m3、m5、m7膜层的厚度为100-1100埃，m2、m4、m6膜层的厚度为100-800埃。
10.进一步的，所述外增透薄膜层由7层交替层叠的二氧化硅层和过渡金属层组成，依
次为n1、n2、n3、n4、n5、n6、n7膜层，其中，n1膜层与所述基片外表面相连，n1、n3、n5、n7膜层为二氧化硅层；n2、n4、n6膜层为过渡金属层；n1、n3、n5、n7膜层的厚度为100-1100埃，n2、n4、n6膜层的厚度为100-800埃。
11.进一步的，所述渐进高反射薄膜层中，l1膜层的厚度为1000-2500埃，l2、l4、l6、l8、l10膜层的厚度为300-800埃，l3、l5、l7、l9、l11膜层的厚度为700-1300埃。
12.进一步的，所述内增透薄膜层中，m1、m3、m5、m7膜层的厚度为300-1000埃，m2、m4、m6膜层的厚度为200-600埃。
13.进一步的，所述外增透薄膜层中，n1、n3、n5、n7膜层的厚度为150-1000埃，n2、n4、n6膜层的厚度为250-600埃。
14.基于同一发明构思，本实用新型还提供一种眼镜，包含所述高清晰度的渐进式镜片。
15.通过采用前述技术方案，本实用新型与现有技术相比，具有以下优点：
16.本实用新型所述高清晰度的渐进式镜片，利用光学薄膜的反射及增透原理，镜片上方反射大部分的强光和散射光，减轻这部分光源对视线物体的干扰，镜片下方增加透视率，提升可视物体的清晰度。
附图说明
17.图1是本实用新型实施例提供的镜片结构示意图。
具体实施方式
18.下面将结合附图和具体实施方式对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，但是本领域技术人员将会理解，下列所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例，仅用于说明本实用新型，而不应视为限制本实用新型的范围。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。实施例中未注明具体条件者，按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市售购买获得的常规产品。
19.在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
20.在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
21.实施例1：
22.参考图1，一种高清晰度的渐进式镜片，包括基片0，定义所述高清晰度的渐进式镜
片在佩戴状态下远离眼睛的一面为外，以眼睛的上方为上，则所述基片0的外表面设置位于上方的渐进高反射薄膜层l和位于下方的外增透薄膜层n，所述渐进高反射薄膜层l的下边缘与所述外增透薄膜层n的上边缘重合，并且，所述渐进高反射薄膜层l的渐进位置比与所述内增透薄膜层n的渐进位置比不相同，所述基片0的内表面设置内增透薄膜层m，所述内增透薄膜层m完全覆盖所述基片0的内表面。
23.具体的，所述渐进高反射薄膜层l包括与所述基片0外表面相连的l1膜层，所述l1膜层为打底层，所述打底层的外表面依次层叠l2、l3、l4、l5、l6、l7、l8、l9、l10、l11膜层，其中，l2、l4、l6、l8、l10膜层为高折射率薄膜层；l3、l5、l7、l9、l11膜层为低折射率薄膜层；
24.所述外增透薄膜层n包括与所述基片0外表面相连的n1膜层，所述n1膜层表面依次层叠n2、n3、n4、n5、n6、n7膜层，其中，n1、n3、n5、n7膜层为低折射率薄膜层；n2、n4、n6膜层为高折射率薄膜层；
25.所述内增透薄膜层m包括与所述基片0内表面相连的m1膜层，所述m1膜层表面依次层叠m2、m3、m4、m5、m6、m7膜层，其中，m1、m3、m5、m7膜层为低折射率薄膜层；m2、m4、m6膜层为高折射率薄膜层。
26.在具体的实施例中，所述渐进高反射薄膜层l中，所述l1膜层与所述基片外表面相连，为二氧化硅层，厚度为2400埃。l2、l4、l6、l8、l10膜层为过渡金属层，优选为钛和镧的化合物h4，l2、l4、l6、l8、l10膜层的厚度依次为350埃、450埃、600埃、650埃和700埃；l3、l5、l7、l9、l11膜层为二氧化硅层，厚度依次为700埃、900埃、1100埃、1300埃和700埃。
27.所述外增透薄膜层n包括依次相连的n1、n2、n3、n4、n5、n6、n7膜层，其中，n1膜层与所述基片0内表面相连，n1、n3、n5、n7膜层为二氧化硅层，厚度分别为300埃、350埃、150埃和950埃；n2、n4、n6膜层为过渡金属层，优选为钛和镧的化合物h4，n2、n4、n6膜层的厚度为250埃、600埃和500埃。
28.所述内增透膜层包括依次层叠m1、m2、m3、m4、m5、m6、m7膜层，其中，m1、m3、m5、m7膜层为低折射率薄膜层，为二氧化硅层，厚度分别为300埃、350埃、150埃和950埃；m2、m4、m6膜层为高折射率薄膜层，为过渡金属层，优选为钛和镧的化合物h4，m2、m4、m6膜层的厚度分别为250埃、600埃和500埃。
29.上述镜片采用真空离子镀膜技术进行制备，镀膜技术采用现有方式逐层镀膜，需要注意的是，在制备时，所述渐进高反射薄膜层的渐进位置比为6:4，外增透膜层的渐进位置比为5:5，三类膜层的形成顺序可以任意排列。
30.通过日本hitachi分光光度计u-3900h进行光谱检测，所述渐进高反射薄膜层在波长400-750nm形成平均反射率大于50％，所述内增透薄膜层和所述外增透薄膜层在波长400-750nm形成平均反射率小于1％，镜片下方透视率大于等于98％，很好的提升可视物体的清晰度。
31.实施例2：
32.本实施例在实施例1的基础上进行变化，所述渐进高反射薄膜层l由7层交替层叠的二氧化硅层和过渡金属层组成，依次为l1、l2、l3、l4、l5、l6、l7膜层，所述内增透薄膜层m由7层交替层叠的二氧化硅层和过渡金属层组成，依次为m1、m2、m3、m4、m5、m6、m7膜层，所述外增透薄膜层n由7层交替层叠的二氧化硅层和过渡金属层组成，依次为n1、n2、n3、n4、n5、n6、n7膜层。
33.在厚度上，所述渐进高反射薄膜层l中，l1膜层的厚度为800-3000埃，l2、l4、l6膜层的厚度为200-1000埃，l3、l5、l7膜层的厚度为300-1500埃。所述内增透薄膜层m中，m1、m3、m5、m7膜层的厚度为100-1100埃，m2、m4、m6膜层的厚度为100-800埃。所述外增透薄膜层n中，n1、n3、n5、n7膜层的厚度为100-1100埃，n2、n4、n6膜层的厚度为100-800埃。
34.在具体的实施例中，可以这样设计：l1膜层的厚度为2000埃，l2、l4、l6膜层的分别厚度为300埃，400埃，900埃，l3、l5、l7膜层的厚度分别为300埃，450埃，1200埃。m1、m3、m5、m7膜层的厚度分别为200埃，300埃，350埃，900埃，m2、m4、m6膜层的厚度分别为200埃，400埃，600埃。n1、n3、n5、n7膜层的厚度分别为150埃，260埃，500埃，800埃，n2、n4、n6膜层的厚度分别为230埃，400埃，700埃。
35.实施例3：
36.本实施例在实施例1的基础上进行变化，所述渐进高反射薄膜层l由9层交替层叠的二氧化硅层和过渡金属层组成，依次为l1、l2、l3、l4、l5、l6、l7、l8、l9膜层，所述内增透薄膜层m由5层交替层叠的二氧化硅层和过渡金属层组成，依次为m1、m2、m3、m4、m5膜层，所述外增透薄膜层n由5层交替层叠的二氧化硅层和过渡金属层组成，依次为n1、n2、n3、n4、n5膜层。
37.在厚度上，所述渐进高反射薄膜层l中，l1膜层的厚度为800-3000埃，l2、l4、l6、l8膜层的厚度为200-1000埃，l3、l5、l7、l9膜层的厚度为300-1500埃。所述内增透薄膜层m中，m1、m3、m5膜层的厚度为100-1100埃，m2、m4膜层的厚度为100-800埃。所述外增透薄膜层n中，n1、n3、n5膜层的厚度为100-1100埃，n2、n4膜层的厚度为100-800埃。
38.实施例4：
39.本实施例在实施例1的基础上进行变化，所述渐进高反射薄膜层l由5层交替层叠的二氧化硅层和过渡金属层组成，依次为l1、l2、l3、l4、l5膜层，所述内增透薄膜层m由5层交替层叠的二氧化硅层和过渡金属层组成，依次为m1、m2、m3、m4、m5膜层，所述外增透薄膜层n由5层交替层叠的二氧化硅层和过渡金属层组成，依次为n1、n2、n3、n4、n5膜层。
40.在厚度上，所述渐进高反射薄膜层l中，l1膜层的厚度为800-3000埃，l2、l4、l6、l8膜层的厚度为200-1000埃，l3、l5、l7、l9膜层的厚度为300-1500埃。所述内增透薄膜层m中，m1、m3、m5膜层的厚度为100-1100埃，m2、m4膜层的厚度为100-800埃。所述外增透薄膜层n中，n1、n3、n5膜层的厚度为100-1100埃，n2、n4膜层的厚度为100-800埃。
41.实施例5：
42.本实施例在实施例1的基础上进行变化，所述渐进高反射薄膜层中，所述l1膜层与所述基片外表面相连，为真空镀膜材料l5，厚度为3000埃。l2、l4、l6、l8、l10膜层为钛和镧的化合物h4，l2、l4、l6、l8、l10膜层的厚度依次为450埃、550埃、650埃、700埃和800埃；l3、l5、l7、l9、l11膜层为真空镀膜材料l5，厚度依次为800埃、1000埃、1200埃、1400埃和800埃。
43.所述外增透薄膜层包括依次相连的n1、n2、n3、n4、n5、n6、n7膜层，其中，n1膜层与所述基片内表面相连，n1、n3、n5、n7膜层为二氧化硅层，厚度分别为350埃、390埃、250埃和900埃；n2、n4、n6膜层为钛和镧的化合物h4，n2、n4、n6膜层的厚度为300埃、550埃和600埃。
44.所述内增透膜层包括依次层叠m1、m2、m3、m4、m5、m6、m7膜层，其中，m1、m3、m5、m7膜层为低折射率薄膜层，为真空镀膜材料l5，厚度分别为350埃、390埃、250埃和900埃；m2、m4、m6膜层为高折射率薄膜层，为钛和镧的化合物h4，m2、m4、m6膜层的厚度分别为300埃、550埃
和600埃。
45.上述镜片采用真空离子镀膜技术进行制备，镀膜技术采用现有方式逐层镀膜，需要注意的是，在制备时，所述渐进高反射薄膜层的渐进位置比为5.5:4.5，外增透膜层的渐进位置比为5:5，三类膜层的形成顺序可以任意排列，从而得到高清晰度的渐进式镜片。
46.通过光谱检测，该高清晰度的渐进式镜片中，所述渐进高反射薄膜层在波长400-750nm形成平均反射率大于50％，所述内增透薄膜层和所述外增透薄膜层在波长400-750nm形成平均反射率小于1％。
47.实施例6：
48.本实施例在实施例1的基础上进行变化，所述渐进高反射薄膜层中，所述l1膜层与所述基片外表面相连，为二氧化硅层，厚度为1000埃。l2、l4、l6、l8、l10膜层为钛和镧的化合物h4，l2、l4、l6、l8、l10膜层的厚度依次为450埃、550埃、700埃、850埃和900埃；l3、l5、l7、l9、l11膜层为二氧化硅层，厚度依次为600埃、700埃、800埃、1000埃和1100埃。
49.所述外增透薄膜层包括依次相连的n1、n2、n3、n4、n5、n6、n7膜层，其中，n1膜层与所述基片内表面相连，n1、n3、n5、n7膜层为二氧化硅层，厚度分别为200埃、300埃、350埃和850埃；n2、n4、n6膜层为钛和镧的化合物h4，n2、n4、n6膜层的厚度为150埃、450埃和700埃。
50.所述内增透膜层包括依次层叠m1、m2、m3、m4、m5、m6、m7膜层，其中，m1、m3、m5、m7膜层为低折射率薄膜层，为二氧化硅层，厚度分别为200埃、300埃、350埃和850埃；m2、m4、m6膜层为高折射率薄膜层，为钛和镧的化合物h4，m2、m4、m6膜层的厚度分别为150埃、450埃和700埃。
51.上述镜片采用真空离子镀膜技术进行制备，镀膜技术采用现有方式逐层镀膜，需要注意的是，在制备时，所述渐进高反射薄膜层的渐进位置比为6:4，外增透膜层的渐进位置比为5.5:4.5，三类膜层的形成顺序可以任意排列，从而得到高清晰度的渐进式镜片。
52.通过光谱检测，该高清晰度的渐进式镜片中，所述渐进高反射薄膜层在波长400-750nm形成平均反射率大于50％，所述内增透薄膜层和所述外增透薄膜层在波长400-750nm形成平均反射率小于1％。
53.尽管上面已经示出和描述了本实用新型的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本实用新型的限制，本领域的普通技术人员在不脱离本实用新型的原理和宗旨的情况下在本实用新型的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。