一种阵列基板结构的制作方法

1.本实用新型涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板结构。


背景技术：

2.随着显示技术的发展，液晶显示器等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄、无辐射等优点，而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、笔记本电脑等各种消费性电子产品中，成为显示装置中的主流。
3.如图1所示的阵列基板结构，基板10上设置有金属线、数据线等用来传输数据的信号线20，对于采用光刻工艺生产的基板10，需经过薄膜沉积、光刻胶涂布、曝光、显影、刻蚀和光刻胶剥离这几个工艺步骤，在工艺流程中，信号线20容易存在断口211，发生断线不良。
4.如图2所示，针对信号线20发生的断线不良进行修补，在一个断口211处设置两条修复线30，两条修复线30与信号线20的连接处存在重叠区域，使得在进行冲洗的时候，修复线30容易脱落。


技术实现要素：

5.本实用新型的目的在于提供一种阵列基板结构，以解决现有技术中存在的两条修复线与信号线的连接处存在重叠区域，使得在进行冲洗的时候，修复线容易脱落的技术问题。
6.如上构思，本实用新型所采用的技术方案是：
7.一种阵列基板结构，包括基板以及设置于所述基板上的多条信号线，至少一条所述信号线为问题信号线，所述问题信号线具有断口，对应每个所述断口设置有至少两条修复线，所述修复线的两端分别连接在所述断口的两侧，各条所述修复线之间不重叠。
8.作为阵列基板结构的一种优选方案，对应每个所述断口设置有两条所述修复线，分别为第一修复线和第二修复线，所述第一修复线为直线段，所述直线段与所述问题信号线的延伸方向相同，所述第二修复线为折线段，所述折线段位于所述直线段的一侧。
9.作为阵列基板结构的一种优选方案，所述第二修复线包括至少两个相连的线段，两个所述线段的连接处存在重叠部分。
10.作为阵列基板结构的一种优选方案，所述第二修复线包括两个相连的所述线段，两个所述线段呈人字形排布。
11.作为阵列基板结构的一种优选方案，所述第二修复线包括三个相连的所述线段，三个所述线段呈c字形排布。
12.作为阵列基板结构的一种优选方案，三个所述线段分别为依次连接的第一线段、第二线段和第三线段，所述第一线段与所述第三线段均与所述问题信号线垂直，所述第二线段与所述问题信号线平行。
13.作为阵列基板结构的一种优选方案，三个所述线段分别为依次连接的第一线段、第二线段和第三线段，所述第一线段与所述第三线段均与所述问题信号线呈夹角设置，所
述第二线段与所述问题信号线平行。
14.作为阵列基板结构的一种优选方案，对应每个所述断口设置有两条所述修复线，分别为第一修复线和第二修复线，所述第一修复线与所述第二修复线均为折线段。
15.作为阵列基板结构的一种优选方案，所述第一修复线与所述第二修复线均呈人字形排布，或者，所述第一修复线与所述第二修复线均呈c字形排布。
16.作为阵列基板结构的一种优选方案，所述第一修复线呈人字形排布，所述第二修复线呈c字形排布。
17.本实用新型的有益效果为：
18.本实用新型提供的阵列基板结构，对应每个断口设置有至少两条修复线，提高修复成功率和修复效率，各条修复线之间不重叠，避免在冲洗时导致修复线脱落，保证产品质量。
附图说明
19.图1是现有的阵列基板结构存在断口的示意图；
20.图2是现有的阵列基板结构在断口处设置修复线的示意图；
21.图3是本实用新型实施例一提供的阵列基板结构在断口处设置一种修复线的示意图；
22.图4是本实用新型实施例一提供的阵列基板结构在断口处设置另一种修复线的示意图；
23.图5是本实用新型实施例一提供的阵列基板结构在断口处设置再一种修复线的示意图；
24.图6是本实用新型实施例二提供的阵列基板结构在断口处设置一种修复线的示意图；
25.图7是本实用新型实施例二提供的阵列基板结构在断口处设置另一种修复线的示意图；
26.图8是本实用新型实施例二提供的阵列基板结构在断口处设置再一种修复线的示意图。
27.图中：
28.10、基板；
29.20、信号线；21、问题信号线；211、断口；
30.30、修复线；31、第一修复线；32、第二修复线；321、第一线段；322、第二线段；323、第三线段。
具体实施方式
31.参考下面结合附图详细描述的实施例，本实用新型的优点和特征以及实现它们的方法将变得显而易见。然而，本实用新型不限于以下公开的实施例，而是可以以各种不同的形式来实现，提供本实施例仅仅是为了完成本实用新型的公开并且使本领域技术人员充分地了解本实用新型的范围，并且本实用新型仅由权利要求的范围限定。相同的附图标记在整个说明书中表示相同的构成要素。
32.以下，参照附图来详细描述本实用新型。
33.实施例一
34.如图3所示，本实用新型实施例提供一种阵列基板结构，基板10上设置有金属线、数据线等用来传输数据的信号线20，基板10采用光刻工艺生产，需经过薄膜沉积、光刻胶涂布、曝光、显影、刻蚀和光刻胶剥离这几个工艺步骤。其中，基板10为玻璃板。
35.掩模(mask)，也称为光罩，是光刻工艺所使用的图形母版，是由不透光的遮光薄膜(金属铬)在透明的基板10上形成掩模图形，通过光刻工艺将图形转印到基板10的薄膜上。曝光过程，就是紫外线通过掩模照射光刻胶，使掩模上的图形转印到光刻胶上的过程。在阵列工程中，光刻胶起到掩膜的作用，通过曝光形成的光刻胶图形，在刻蚀工艺中，光刻胶图形对应的基板10上的薄膜层被保留下来，其他区域被刻蚀掉，最后去除光刻胶，掩模上的图形就转移到了基板10上，这个过程称为光刻。
36.当信号线20存在断口211，发生断线不良时，需要重复光刻过程，对断口211进行修复。
37.基板10上设置有多条信号线20，至少一条信号线20为问题信号线21，问题信号线21具有断口211，对应每个断口211设置有至少两条修复线30，提高修复成功率和修复效率，修复线30的两端分别连接在断口211的两侧，各条修复线30之间不重叠，避免在冲洗时导致修复线30脱落，保证产品质量。
38.其中，各条修复线30之间不重叠，可以是相邻修复线30挨着设置，也可以是相邻修复线30间隔设置。
39.具体地，问题信号线21包括位于断口211两侧的第一部分和第二部分，修复线30的一端连接第一部分，修复线30的另一端连接第二部分。
40.在本实施例中，对应每个断口211设置有两条修复线30，分别为第一修复线31和第二修复线32，第一修复线31为直线段，直线段与问题信号线21的延伸方向相同，第二修复线32为折线段，折线段位于直线段的一侧。直线段的设置，便于加工生产，折线段的设置，能够充分利用空间，避免与直线段存在干涉，保证修复成功率。
41.具体地，第一修复线31与第一部分的连接处为第一连接处，第一修复线31与第二部分的连接处为第二连接处，第二修复线32与第一部分的连接处为第三连接处，第二修复线32与第二部分的连接处为第四连接处，第一连接处与第三连接处不重叠，第二连接处与第四连接处不重叠。
42.第二修复线32包括至少两个相连的线段，两个线段的连接处存在重叠部分，保证折线段的连续性，避免存在接触不良。
43.第二修复线32可以包括两个相连的线段，也可以包括三个相连的线段，甚至可以包括三个以上相连的线段。线段数量为两个时，便于加工生产，线段数量为三个时，能够充分利用空间，避免与其他信号线20产生干涉。
44.如图3所示，第二修复线32包括两个相连的线段，两个线段呈人字形排布。两个线段分别为第一线段321和第二线段322，第一线段321与问题信号线21呈夹角设置，第二线段322与问题信号线21呈夹角设置。
45.在本实施例中，第一线段321与第二线段322垂直，便于生产。
46.如图4所示，第二修复线32包括三个相连的线段，三个线段呈c字形排布，以避开第
一修复线31。
47.三个线段分别为依次连接的第一线段321、第二线段322和第三线段323，第一线段321与第三线段323均与问题信号线21垂直，第二线段322与问题信号线21平行，便于生产。
48.如图5所示，三个线段分别为依次连接的第一线段321、第二线段322和第三线段323，第一线段321与第三线段323均与问题信号线21呈夹角设置，第二线段322与问题信号线21平行，能够占用更小的空间，避免与其他信号线20干涉。
49.在本实施例中，夹角为锐角，以减小第二线段322的长度。
50.实施例二
51.图6至图8示出了实施例二，其中与实施例一相同或相应的零部件采用与实施例一相应的附图标记。为简便起见，仅描述实施例二与实施例一的区别点。区别之处在于，第一修复线31与第二修复线32均为折线段，能够充分利用空间，保证修复成功率。由于出现断口211的原因，可能是断口211处存在障碍物，不便于在断口211处设置直线段，因此可以布置两条折线段。
52.如图6所示，第一修复线31与第二修复线32均呈人字形排布。第一修复线31包括两条线段，每个线段均与问题信号线21呈夹角设置。第二修复线32包括两条线段，每个线段均与问题信号线21呈夹角设置。
53.第一修复线31位于问题信号线21的一侧，第二修复线32位于问题信号线21的另一侧，充分利用空间，避免产生干涉。
54.如图7所示，第一修复线31与第二修复线32均呈c字形排布。第一修复线31包括三条线段，其中两条线段均与问题信号线21垂直，第三条线段与问题信号线21平行。第二修复线32包括三条线段，其中两条线段均与问题信号线21垂直，第三条线段与问题信号线21平行。
55.第一修复线31位于问题信号线21的一侧，第二修复线32位于问题信号线21的另一侧，充分利用空间，避免产生干涉。
56.如图8所示，第一修复线31呈人字形排布，第二修复线32呈c字形排布。第一修复线31包括两条线段，每个线段均与问题信号线21呈夹角设置。第二修复线32包括三条线段，其中两条线段均与问题信号线21垂直，第三条线段与问题信号线21平行。
57.第一修复线31位于问题信号线21的一侧，第二修复线32位于问题信号线21的另一侧，充分利用空间，避免产生干涉。
58.尽管上面已经参考附图描述了本实用新型的实施例，但是本实用新型不限于以上实施例，而是可以以各种形式制造，并且本领域技术人员将理解，在不改变本实用新型的技术精神或基本特征的情况下，可以以其他特定形式来实施本实用新型。因此，应该理解，上述实施例在所有方面都是示例性的而不是限制性的。