显示面板及显示装置的制作方法

文档序号:28517383发布日期:2022-01-15 09:54阅读:83来源:国知局
显示面板及显示装置的制作方法

1.本技术属于显示技术领域,尤其涉及一种显示面板及显示装置。


背景技术:

2.薄膜晶体管液晶显示器(thin film transistor-liquid crystal display,简称tft-lcd)凭借其轻薄、节能、显示品质高、制作工艺成熟稳定等优势,成为目前显示器件的主流产品。薄膜晶体管液晶显示装置制备时,将阵列基板和彩膜基板于真空状态下进行高精度对位贴合后,需要立即针对已贴合完成的玻璃框胶部分进行紫外线(ultraviolet,简称uv)光源照射,使框胶进行固化,通常该步骤框胶固化率为70%~80%,以防止液晶与框胶接触造成液晶污染或泄漏。
3.在上述操作过程中,uv光源可以从彩膜基板侧照射,也可以从阵列基板侧照射,但从彩膜基板侧照射,显示装置的密封区的尺寸需要做大,不适用于窄边框产品,而从阵列基板侧照射,则对阵列基板上的金属线结构设计提出了更高的要求。由此可见,目前的显示面板及显示装置不能很好的兼顾框胶固化与自身设计要求。


技术实现要素:

4.本技术的目的在于提供一种显示面板及显示装置,旨在解决显示面板及显示装置不能很好的兼顾框胶固化与自身设计要求的技术问题。
5.本技术是这样实现的,第一方面,提供了一种显示面板,包括显示区和密封区,所述显示面板包括彩膜基板、阵列基板、位于所述彩膜基板背离所述阵列基板一侧的第一偏光板、位于所述阵列基板背离所述彩膜基板一侧的第二偏光板,以及连接所述彩膜基板和所述阵列基板的框胶,所述框胶位于密封区内,所述彩膜基板的显示区内形成有黑色矩阵,所述第一偏光板和所述彩膜基板之间或者所述第二偏光板与所述阵列基板之间形成有遮光层,所述遮光层环绕显示区设置。
6.在一个可选的实施例中,所述框胶与所述黑色矩阵之间有间隔。
7.在一个可选的实施例中,所述遮光层于所述黑色矩阵所在面的正投影与所述黑色矩阵具有重叠区域。
8.在一个可选的实施例中,所述重叠区域的宽度为3-10μm。
9.在一个可选的实施例中,所述遮光层的厚度为1-3μm。
10.在一个可选的实施例中,所述遮光层的铅笔硬度大于等于2b。
11.在一个可选的实施例中,所述遮光层为黑色油墨层。
12.在一个可选的实施例中,所述第一偏光板的尺寸与所述彩膜基板的尺寸相适配,所述第二偏光板的尺寸与所述阵列基板相适配。
13.在一个可选的实施例中,所述阵列基板与所述彩膜基板相对的一侧的密封区内形成有金属线结构,所述框胶形成于所述金属线结构上。
14.第二方面,提供了一种显示装置,包括壳体,以及均设置在所述壳体内的背光模组
和上述各实施例提供的显示面板,所述显示面板位于所述背光模组的出光侧。
15.本技术实施例提供的显示面板及显示装置,仅在彩膜基板的显示区内制作黑色矩阵,不在密封区内制作黑色矩阵,使得彩膜基板的密封区的整个区域均可作为透光区使用,从而使得uv光线可由彩膜基板侧的上述透光区进入彩膜基板与阵列基板之间区域,进而实现彩膜基板和阵列基板之间的框胶固化,且无需增加密封区的尺寸。同时,由彩膜基板侧照射uv光,可以避免彩膜基板和阵列基板对组后的基板上下翻转,从而提高显示面板的制作节拍,降低制作成本;还可避免彩膜基板和阵列基板对组后的基板在上下翻转过程中的相互移位,从而避免出现框胶穿刺或者周边亮度不均匀的现象发生。
16.本技术实施例提供的显示面板及显示装置,适于uv光线由彩膜基板侧照射,且有利于窄边框显示面板的设计,即同时兼顾了框胶固化和自身设计要求。
附图说明
17.为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案,下面将对本技术实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面所描述的附图仅仅是本技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
18.图1是本技术实施例一所采用的彩膜基板的结构示意图;
19.图2是本技术实施例一提供的显示面板的密封区的第一剖视结构示意图;
20.图3是本技术实施例一提供的显示面板的密封区的第二剖视结构示意图;
21.图4是本技术实施例一提供的显示面板进行胶框固化时的光照示意图,图中箭头方向为uv光线照射方向;
22.图5是本技术实施例二提供的显示面板中黑色矩阵和遮光层的相对位置结构示意图;
23.图6是本技术实施例二提供的显示面板的俯视结构示意图,图中未示出第一偏光板;
24.图7是本技术实施例三提供的显示装置的示意框图。
25.附图标记说明:
26.100、显示面板;110、彩膜基板;111、黑色矩阵;112、显示区;113、密封区;120、阵列基板;121、金属线结构;130、框胶;140、第一偏光板;150、第二偏光板;160、遮光层;170、重叠区域;200、防紫外线罩;300、壳体;400、背光模组。
具体实施方式
27.下面详细描述本技术的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本技术,而不能理解为对本技术的限制。
28.在本技术的描述中,需要理解的是,术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本技术的限
制。
29.此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
30.在本技术中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
31.为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本技术进行进一步详细说明。
32.实施例一
33.请参照图2及图3所示,本实施例提供了一种显示面板100,包括显示区和密封区。具体的,本实施例中的显示面板100可以为va(vertical alignment,多象限垂直配向)型、tn(twisted nematic,扭曲向列)、ips(in-plane-switching,平面转换)、ffs(fringe field switching,边缘切换)型等tft-lcd中的任一款。显示区和密封区的划分方式与普通显示面板相同。由于显示区无改动,且为公知技术,故在图2及图3中仅显示了密封区内各部件的剖视图,未显示显示区内部件分布情况。
34.显示面板100包括彩膜基板110、阵列基板120、位于彩膜基板110背离阵列基板120一侧的第一偏光板140、位于阵列基板120背离彩膜基板110一侧的第二偏光板150,以及连接彩膜基板110和阵列基板120的框胶130。框胶130位于密封区113内。如图1所示,彩膜基板110的显示区112内形成有黑色矩阵111。具体的,黑色矩阵111形成于彩膜基板110的其中一面上,设置方式与普通彩膜基板的显示区中黑色矩阵的设置方式相同,在此不做赘述。本实施例提供的彩膜基板110不在密封区113内设置黑色矩阵111,即彩膜基板110的密封区113完全透明,为裸玻璃(bare glass),整个区域均可作为透光区使用。
35.第一偏光板140和彩膜基板110之间或者第二偏光板150与阵列基板120之间形成有遮光层160,遮光层160环绕显示区112设置。具体的,遮光层160具有两种设置方式:
36.在第一种方式中,如图2所示,遮光层160位于第一偏光板140和彩膜基板110之间,此时采用本实施例提供的显示面板100做成的显示装置时以彩膜基板110侧朝向人眼设置,即彩膜基板110侧位于显示装置的外侧,阵列基板120侧位于显示装置的内侧。
37.在第二种方式中,如图3所示,遮光层160位于第二偏光板150和阵列基板120之间,此时采用本实施例提供的显示面板100做成的显示装置以阵列基板120侧朝向人眼设置,即阵列基板120侧位于显示装置的外侧,彩膜基板110侧位于显示装置的内侧。
38.具体的,遮光层160可以为黑色油墨层,通过黑色墨水(bm ink)曝光、显影、丝网印刷等技术制作而成,也可以采用其他可以起到遮光效果的涂层,如黑色胶层、黑色组合物层、其他颜色的油墨层等,在此不做限制,具体可以根据实际评估及需求做出选择。遮光层160的作用是防止密封区113的光泄漏,从而使得本实施例提供的显示面板100具有良好的边缘遮光效果。
39.制备时,先将彩膜基板110和阵列基板120进行对组操作,之后通过uv光源对框胶130进行固化。具体的,在进行uv光线照射时可先在显示区112上覆盖防紫外线罩200,之后可参照图4所示,由彩膜基板110侧照射uv光,光线入射方向如图4中箭头所示,如此光线可由密封区113形成的透光区进入彩膜基板110和阵列基板120之间区域,对位于两者之间的框胶130进行固化。之后再在彩膜基板110背离阵列基板120的一侧的密封区113制备遮光层160,之后在遮光层160背离彩膜基板110的一侧上制备第一偏光板140;或者,在阵列基板120背离彩膜基板110的一侧的密封区113制备遮光层160,之后在遮光层160背离阵列基板120的一侧上制备第二偏光板150。上述操作过程中,除遮光层160的设置工艺不同于普通显示面板100的制作工艺,其余制作流程与普通显示面板100的制备工艺相同,为本行业技术人员所熟知,在此不做赘述。
40.在上述操作中,除密封区113不设置黑色矩阵111这一工艺不同于普通彩膜基板的制作工艺,其余制作流程与普通彩膜基板的制备工艺相同,为本行业技术人员所熟知,在此不做赘述。制备其他型号的显示面板的制备原理与va型tft-lcd相同,在此不再赘述。
41.本实施例提供的显示面板100仅在彩膜基板110的显示区112内制作黑色矩阵111,不在密封区113内制作黑色矩阵111,使得彩膜基板110的密封区113的整个区域均可作为透光区使用,从而使得uv光线可由彩膜基板110侧的上述透光区进入彩膜基板110与阵列基板120之间区域,进而实现彩膜基板110和阵列基板120之间的框胶130固化,且无需增加密封区113的尺寸。同时,由彩膜基板110侧照射uv光,可以避免彩膜基板110和阵列基板120对组后的基板上下翻转,从而提高显示面板100的制作节拍,降低制作成本;还可避免彩膜基板110和阵列基板120对组后的基板在上下翻转过程中的相互移位,从而避免出现框胶130穿刺或者周边亮度不均匀的现象发生。
42.另外,由于本实施例中的彩膜基板110不在密封区113设置黑色矩阵111,如此在采用本实施例中的彩膜基板110制作显示面板100时框胶130可直接接触彩膜基板110或者彩膜基板110上面的ito(indium tin oxides,纳米铟锡金属氧化物)层,从而使得框胶130附着力增大,进而使得显示面板100具有更高的信赖性。
43.综上所述,本实施例提供的显示面板100,适于uv光线由彩膜基板110侧照射,且有利于窄边框显示面板的设计,即同时兼顾了框胶固化要求和自身设计要求,适用于各种显示面板,包括tn型、ips型、va型、ffs型等,还可应用于无边框产品,特别是三边或者四边无边框产品。
44.为进一步提高固化效果,在一个可选的实施例中,框胶130与黑色矩阵111之间有间隔,即在彩膜基板110上制备黑色矩阵111时,使黑色矩阵111的边界不与框胶130重叠,如此,不管是常规显示面板还是窄边框显示面板,从彩膜基板110侧入光进行框胶130固化将不受影响,固化效果良好,有助于提高框胶130固化品质。
45.实施例二
46.在实施例一的基础上,为避免光线由黑色矩阵111与遮光层160之间的缝隙发生泄露,请参照图5所示,在一个可选的实施例中,遮光层160于黑色矩阵111所在面的正投影与黑色矩阵111具有重叠区域170。如此,采用本实施例提供的显示面板,不论各种视野角,都可以起到很好的边缘遮光效果。且显示面板外围存在tft器件,良好的遮光可以避免tft器件对光敏感,有助于提高tft器件的稳定性。
47.请参照图6所示,在一个可选的实施例中,重叠区域170的宽度a为3-10μm,以避免遮光层160的内边缘对显示区112的正常显示造成不良影响,同时防止由遮光层160的边缘漏光。
48.在一个可选的实施例中,遮光层160的厚度h为1-3μm,具体可根据其od(optical density,光密度)值决定,宜使od值大于3.5,如此便有较好的周边遮光效果。
49.在制作遮光层160时,为提高其信赖性,在一个可选的实施例中,遮光层160的铅笔硬度大于等于2b。
50.在一个可选的实施例中,第一偏光板140的尺寸与彩膜基板110的尺寸相适配。第二偏光板150的尺寸与阵列基板120相适配。这里所说的相适配是指第一偏光板140的侧壁与彩膜基板110的侧壁齐平,第二偏光板150的侧壁与阵列基板120的侧壁齐平。如此,可使得显示面板100的外形美观。
51.在一个可选的实施例中,阵列基板120与彩膜基板110相对的一侧的密封区113内形成有金属线结构121,框胶130形成于金属线结构121上。如此,保证了框胶130与阵列基板120连接关系的稳定性。
52.实施例三
53.请参照图7所示,本实施例提供了一种显示装置,包括壳体300,以及均设置在壳体300内的背光模组400和上述各实施例提供的显示面板100,显示面板100位于背光模组400的出光侧,以便背光模组400为显示面板100提供光源。该显示面板100与上述各实施例中的显示面板100具有相同的结构特征,且所起作用相同,此处不赘述。
54.以上所述仅为本技术的较佳实施例而已,仅具体描述了本技术的技术原理,这些描述只是为了解释本技术的原理,不能以任何方式解释为对本技术保护范围的限制。基于此处解释,凡在本技术的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进,及本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本技术的其他具体实施方式,均应包含在本技术的保护范围之内。
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