药液的供给方法、图案形成方法与流程

本发明涉及一种药液的供给方法及图案形成方法。

背景技术：

1、在通过包括光微影的配线形成工序来制造半导体器件时，作为预湿液、抗蚀剂液、显影液、淋洗液、剥离液、化学机械研磨(cmp：chemical mechanical polishing)浆料及cmp后的清洗液等，使用含有溶剂(典型的为有机溶剂)的药液。近年来，对制造节点为10nm以下的半导体器件进行了研究，要求在晶圆上不易产生缺陷并具有更优异的缺陷抑制性能的药液。

2、为了获得这种药液，关键在于通过精密过滤而将药液中的杂质含量减少，进而抑制杂质溶出到半导体器件用装置内的药液中。

3、专利文献1中记载有一种关于半导体装置的制造法的发明，在利用旋涂法来形成树脂膜时，使用氦气加压供给树脂溶液。

4、以往技术文献

5、专利文献

6、专利文献1：日本特开平11-162806号公报

技术实现思路

1、发明要解决的技术课题

2、本发明人等参考专利文献1中所记载的方法，对将药液通过半导体器件用装置所具备的管路内而送出的供给方法中，具有通过使用气体进行加压而送出药液的气体压送工序的供给方法进行研究的结果，发现关于溶出到通过气体压送工序而从管路送出的药液中的杂质量，具有进一步改善的空间。

3、本发明的课题在于提供一种在使用气体来送出药液的气体压送工序中，能够抑制从管路溶出到药液中的杂质量的药液的供给方法。并且，本发明的课题还在于提供一种图案形成方法。

4、用于解决技术课题的手段

5、本发明人等为了解决上述课题而进行深入研究的结果，发现通过以下构成能够解决上述课题。

6、〔1〕

7、一种药液的供给方法，其通过半导体器件用装置所具备的管路内供给含有有机溶剂的药液，该药液的供给方法具有：气体压送工序，通过使用气体进行加压而送出上述药液，上述气体中含有的水分量相对于上述气体的总质量为0.00001～1质量ppm。

8、〔2〕

9、根据〔1〕所述的药液的供给方法，其中，上述气体的纯度为99.9体积％以上。

10、〔3〕

11、根据〔1〕或〔2〕所述的药液的供给方法，其中，上述气体中含有的水分量相对于上述气体的总质量为0.005～0.5质量ppm。

12、〔4〕

13、根据〔1〕至〔3〕中任一项所述的药液的供给方法，其中，上述气体中含有的水分量相对于上述气体的总质量为0.01～0.03质量ppm。

14、〔5〕

15、根据〔1〕至〔4〕中任一项所述的药液的供给方法，其中，上述气体的纯度为99.999体积％以上。

16、〔6〕

17、根据〔1〕至〔5〕中任一项所述的药液的供给方法，其中，上述气体含有选自氮及氩中的至少1种。

18、〔7〕

19、根据〔1〕至〔6〕中任一项所述的药液的供给方法，其中，上述有机溶剂为选自丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单丙醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、乳酸乙酯、甲氧基丙酸甲酯、丙酸乙酯、环戊酮、环己酮、γ-丁内酯、二异戊基醚、乙酸丁酯、乙酸异戊酯、异丙醇、4-甲基-2-戊醇、1-己醇、二甲基亚砜、n-甲基-2-吡咯烷酮、二乙二醇、乙二醇、二丙二醇、丙二醇、碳酸亚乙酯、碳酸亚丙酯、环丁砜、环庚酮、2-庚酮、甲乙酮、己烷及这些的组合中的至少1种。

20、〔8〕

21、根据〔1〕至〔7〕中任一项所述的药液的供给方法，其还具有：

22、药液准备工序，在与上述管路连通的储存槽中准备上述药液，上述气体压送工序为将上述气体导入到上述储存槽的内部，并从上述储存槽通过上述管路内而送出上述药液的工序。

23、〔9〕

24、根据〔1〕至〔8〕中任一项所述的药液的供给方法，其还具有：

25、纯化工序，使用过滤器过滤通过上述气体压送工序而送出的药液。

26、〔10〕

27、根据〔9〕所述的药液的供给方法，其中，通过上述纯化工序而过滤的上述药液中的fe成分、cr成分、ni成分及al成分的总含量相对于上述药液的总质量为0.04～1200质量ppt。

28、〔11〕

29、根据〔9〕或〔10〕所述的药液的供给方法，其中，通过上述纯化工序而过滤的上述药液中的fe成分、cr成分、ni成分及al成分的总含量相对于上述药液的总质量为0.2～400质量ppt。

30、〔12〕

31、根据〔9〕至〔11〕中任一项所述的药液的供给方法，其中，通过上述纯化工序而过滤的上述药液中的fe成分、cr成分、ni成分及a1成分的总含量相对于上述药液的总质量为0.2～60质量ppt。

32、〔13〕

33、根据〔9〕至〔12〕中任一项所述的药液的供给方法，其中，通过上述纯化工序而过滤的上述药液中的水分含量相对于上述药液的总质量为0.0005～0.03质量％。

34、〔14〕

35、根据〔9〕至〔13〕中任一项所述的药液的供给方法，其中，通过上述纯化工序而过滤的上述药液中的水分含量相对于上述药液的总质量为0.001～0.02质量％。

36、〔15〕

37、根据〔9〕至〔14〕中任一项所述的药液的供给方法，其中，通过上述纯化工序而过滤的上述药液中的水分含量相对于上述药液的总质量为0.001～0.01质量％。

38、〔16〕

39、根据〔9〕至〔15〕中任一项所述的药液的供给方法，其中，通过上述纯化工序而过滤的上述药液中的邻苯二甲酸二辛酯的含量相对于上述药液的总质量为0.001～10质量ppb。

40、〔17〕

41、根据〔9〕至〔16〕中任一项所述的药液的供给方法，其中，通过上述纯化工序而过滤的上述药液中的邻苯二甲酸二辛酯的含量相对于上述药液的总质量为0.01～5质量ppb。

42、〔18〕

43、根据〔9〕至〔17〕中任一项所述的药液的供给方法，其中，通过上述纯化工序而过滤的上述药液中的邻苯二甲酸二辛酯的含量相对于上述药液的总质量为0.01～1质量ppb。

44、〔19〕

45、根据〔1〕至〔18〕中任一项所述的药液的供给方法，其还具有：

46、气体纯化工序，使用气体过滤器纯化原料气体，将在上述气体纯化工序中纯化的气体在上述气体压送工序中使用。

47、〔20〕

48、一种图案形成方法，其具有：预湿工序，使预湿液与基板接触；抗蚀剂膜形成工序，使用抗蚀剂组合物在上述基板上形成抗蚀剂膜；曝光上述抗蚀剂膜的工序；显影工序，利用显影液使经曝光的上述抗蚀剂膜显影并形成抗蚀剂图案；及淋洗工序，使淋洗液与形成有抗蚀剂图案的基板接触，选自上述预湿液、上述显影液及上述淋洗液中的至少1种为通过〔1〕至〔19〕中任一项所述的供给方法供给的药液。

49、发明效果

50、根据本发明，能够提供一种药液的供给方法，在使用气体来送出药液的气体压送工序中，能够抑制从管路溶出到药液中的杂质量。并且，根据本发明，能够提供一种图案形成方法。