一种高反射率的阻焊干膜及其制备方法与流程

15000cps；进一步优选的，所述酚醛环氧丙烯酸酯的酸值≤2mgkoh/g，60℃下的粘度为10000-12000mpa
·
s。
16.在一些优选的方案中，所述酚醛环氧丙烯酸酯购买自淮南市科迪化工科技有限公司生产的hl-183系列酚醛环氧丙烯酸酯。
17.优选的，所述聚氨酯类丙烯酸酯的官能度为2-15，25℃下的粘度为20000-80000cps；进一步优选的，所述聚氨酯类丙烯酸酯的官能度为15，25℃下的粘度为35000-65000cps。
18.在一些优选的方案中，所述聚氨酯类丙烯酸酯购买自广东叁漆新材料有限公司生产的l-6902。
19.申请人发现，选用酸值≤5mgkoh/g，60℃下的粘度为5000-15000cps的酚醛环氧丙烯酸酯，能够在提高制备出的阻焊干膜与基体的附着力的同时，还能够改善阻焊干膜的耐候性和耐化学性能，这可能是由于其官能团较多，而且苯环的密度大，刚性大，从而能够提高制备出的阻抗干膜的硬度、耐候性和耐化学性能，但是其上侧链基团较多，会导致制得的阻焊干膜柔韧性差，易降解或断裂粉化。申请人意外发现，选用官能度为2-15，25℃下的粘度为20000-80000cps，酸值≤5mgkoh/g的聚氨酯类丙烯酸酯与本技术中所述酚醛环氧丙烯酸酯进行复配，且所述环氧丙烯酸酯和聚氨酯类丙烯酸酯的重量比为(1-3)：1时，两种丙烯酸树脂协同作用，不仅能够提高阻抗干膜的附着力，还能够改善阻焊干膜的柔韧性和耐磨性，减小体系收缩率，进一步提高制备出的阻焊干膜的稳定性，且本技术中采用特定的丙烯酸酯类固化树脂，能够提高制备得到的阻焊干膜的绝缘性。
20.优选的，所述稀释单体为2-苯氧基乙基丙烯酸酯、乙氧基乙氧基乙基丙烯酸酯、环三羟甲基丙烷甲缩醛丙烯酸酯、甲基丙烯酸环己酯、丙氧化新戊二醇二丙烯酸酯、双环戊烷基甲基丙烯酸酯、丙烯酸羟乙酯、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯、异冰片基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、异冰片基甲基丙烯酸酯、2-羟基乙基甲基丙烯酸酯磷酸酯、4-叔丁基环己基丙烯酸酯和3,3,5-三甲基环己基甲基丙烯酸酯中的一种或多种；进一步优选的，为异冰片基甲基丙烯酸酯和三羟甲基丙烷三丙烯酸酯。
21.优选的，所述异冰片基甲基丙烯酸酯和三羟甲基丙烷三丙烯酸酯的重量比为(2-4)：(1-3)；进一步优选的，为3:2。
22.优选的，所述光敏剂为自由基型光敏剂、大分子光敏剂、可见光敏剂和阳离子聚合型光敏剂中的一种或两种；进一步优选的，为自由基型光敏剂。
23.优选的，所述自由基型光敏剂选自裂解型光敏剂和夺氢型光敏剂中的一种或两种；进一步优选的，为裂解型光敏剂。
24.优选的，所述裂解型光敏剂为安息香醚类裂解型光敏剂、苯偶酰缩酮类裂解型光敏剂、苯乙酮类裂解型光敏剂和酰基磷氧化物类裂解型光敏剂中的一种或多种；进一步优选的，为酰基磷氧化物类裂解型光敏剂。
25.优选的，所述酰基磷氧化物类裂解型光敏剂为2,4,6-三甲基苯甲酰基膦酸乙酯。
26.所述2,4,6-三甲基苯甲酰基膦酸乙酯的cas号为84434-11-7。
27.优选的，所述微米粒子选自碳酸钙、滑石粉、硫酸钡、氢氧化铝、二氧化硅、氧化铝、钛白粉、二氧化钛、氧化锆、氧化锌、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸乙酯、聚甲基丙烯酸丁酯、聚四氟乙烯中的一种或多种；进一步优选的，为聚甲基丙烯酸甲酯和钛白
粉。
28.优选的，所述聚甲基丙烯酸甲酯和钛白粉的重量比为(1-2)：(1-2)；进一步优选的，为1:1。
29.优选的，所述钛白粉中金红石含量≥95％，亮度≥95％；进一步优选的，所述钛白粉中金红石含量≥98％，亮度≥96％。
30.在一些优选的方案中，所述钛白粉购买自上海缘江化工有限公司生产的金红石型钛白粉r218。
31.优选的，所述聚甲基丙烯酸甲酯的粒径为5-20μm，均匀度＜5％；进一步优选的，所述聚甲基丙烯酸甲酯的粒径为10μm，均匀度＜3％。
32.在一些优选的方案中，所述聚甲基丙烯酸甲酯购买自中科雷鸣(北京)科技有限公司生产的pmma010000。
33.在一些优选的方案中，所述微米粒子选自重量比为(1-2)：(1-2)的聚甲基丙烯酸甲酯和钛白粉，能够在提高制备出的阻焊干膜的反射率的同时，还不会影响其耐化学性。这可能是由于金红石含量≥95％，亮度≥95％的钛白粉折射率高，从而能够大大提高阻焊干膜的反射率，但是钛白粉添加量多会导致uv固化能力差，且耐化学性下降。申请人意外发现，选用粒径为5-20μm，均匀度＜5％的聚甲基丙烯酸甲酯与其复配，且所述聚甲基丙烯酸甲酯和钛白粉的重量比为(1-2)：(1-2)时，能够在保证阻焊干膜的耐化学性和稳定性的同时，提高其反射率。这可能是由于微米级聚甲基丙烯酸酯的加入，不仅能够提高微米粒子在体系中的分散均匀性，还能够与环氧丙烯酸酯和聚氨酯类丙烯酸酯两种固化树脂相互配合，进一步促进光在阻焊干膜表面的均匀分布，从而进一步提高了阻焊干膜的反射率。
34.优选的，所述消泡剂为聚醚改性硅类消泡剂、聚酯改性类消泡剂、矿物油消泡剂、脂肪酸类消泡剂中的一种或多种；进一步优选的，为聚醚改性硅类消泡剂。
35.优选的，所述聚醚改性硅类消泡剂在25℃下的粘度为1000-4000mpa
·
s，固含量为15-20％；进一步优选的，所述聚醚改性硅类消泡剂在25℃下的粘度为1000-4000mpa
·
s，固含量为18％。
36.在一些优选的方案中，所述聚醚改性硅类消泡剂购买自大田化学公司生产的js-60。
37.本发明第二方面提供了一种如上所述的高反射率的阻焊干膜的制备方法，包括以下步骤：
38.s1、将固化树脂、稀释单体、光敏剂、微米粒子、消泡剂按照比例进行混合，搅拌40min～80min，得到感光胶膜层溶液；
39.s2、在载体保护膜层上涂布感光胶膜层溶液后，再贴合离型保护膜层，经uv光照固化后，进一步加热固化，即得。
40.优选的，所述uv灯照射固化时间为20-40s，光强度为70-100mw/cm2。
41.优选的，所述加热温度为60-100℃；进一步优选的，为80℃。
42.有益效果：
43.1、通过选用酸值≤5mgkoh/g，60℃下的粘度为5000-15000cps的酚醛环氧丙烯酸酯，能够在提高制备出的阻焊干膜与基体的附着力的同时，还能够改善阻焊干膜的耐候性和耐化学性能。
44.2、通过选用官能度为2-15，25℃下的粘度为20000-80000cps，酸值≤5mgkoh/g的聚氨酯类丙烯酸酯与本技术中所述酚醛环氧丙烯酸酯进行复配，且所述环氧丙烯酸酯和聚氨酯类丙烯酸酯的重量比为(1-3)：1时，不仅能够提高阻抗干膜的附着力，还能够改善阻焊干膜的柔韧性和耐磨性，提高制备得到的阻焊干膜的绝缘性。
45.3、通过金红石含量≥95％，亮度≥95％的钛白粉大大提高阻焊干膜的反射率。
46.4、通过选用粒径为5-20μm，均匀度＜5％的聚甲基丙烯酸甲酯与其复配，且所述聚甲基丙烯酸甲酯和钛白粉的重量比为(1-2)：(1-2)时，能够在保证阻焊干膜的耐化学性和稳定性的同时，提高其反射率。
47.5、通过选用重量比为(2-4)：(1-3)的异冰片基甲基丙烯酸酯和三羟甲基丙烷三丙烯酸酯作为稀释单体，能够调节体系的粘度，从而改善原料的加工性能和与基体之间的润湿性，进而提高了附着力，减少原料的固化时间。
48.6、本发明通过选用特定的固化树脂、稀释单体和微米粒子等原料，制备了一种高反射率的阻焊干膜，在提高反射率的同时，具有较高的固化能力以及绝缘特性，且附着力高，耐候性和耐化学稳定性好，适合应用于电子元器件领域，尤其适用于印制电路板上保护电路，从而提高印制电路板和电子元器件的寿命。
具体实施方式
49.实施例
50.实施例1
51.实施例1提供了一种高反射率的阻焊干膜，提供了一种高反射率的阻焊干膜，阻焊干膜的结构从下往上包括：载体保护膜层、感光胶膜层、离型保护膜层。
52.所述载体保护膜层的厚度为18μm。
53.所述感光胶膜层的厚度为40μm。
54.所述离型保护膜层的厚度为40μm。
55.所述载体保护膜层和离型保护膜层均购买自广东硕成科技股份有限公司。
56.按重量份计，所述感光胶膜层的制备原料包括：固化树脂25份、稀释单体15份、光敏剂4份、微米粒子18份、消泡剂2份。
57.所述固化树脂为环氧丙烯酸酯和聚氨酯类丙烯酸酯。
58.所述环氧丙烯酸酯和聚氨酯类丙烯酸酯的重量比为2:1。
59.所述环氧丙烯酸酯为酚醛环氧丙烯酸酯。
60.所述酚醛环氧丙烯酸酯的酸值≤2mgkoh/g，60℃下的粘度为10000-12000mpa
·
s。
61.所述酚醛环氧丙烯酸酯购买自淮南市科迪化工科技有限公司生产的hl-183系列酚醛环氧丙烯酸酯。
62.所述聚氨酯类丙烯酸酯的官能度为15，25℃下的粘度为35000-65000cps。
63.所述聚氨酯类丙烯酸酯购买自广东叁漆新材料有限公司生产的l-6902。
64.所述稀释单体为异冰片基甲基丙烯酸酯和三羟甲基丙烷三丙烯酸酯。
65.所述异冰片基甲基丙烯酸酯和三羟甲基丙烷三丙烯酸酯的重量比为3:2。
66.所述光敏剂为自由基型光敏剂。
67.所述自由基型光敏剂为裂解型光敏剂。
68.所述裂解型光敏剂为酰基磷氧化物类裂解型光敏剂。
69.所述酰基磷氧化物类裂解型光敏剂为2,4,6-三甲基苯甲酰基膦酸乙酯。
70.所述2,4,6-三甲基苯甲酰基膦酸乙酯的cas号为84434-11-7。
71.所述微米粒子为聚甲基丙烯酸甲酯和钛白粉。
72.所述聚甲基丙烯酸甲酯和钛白粉的重量比为1:1。
73.所述钛白粉中金红石含量≥98％，亮度≥96％。
74.所述钛白粉购买自上海缘江化工有限公司生产的金红石型钛白粉r218。
75.所述聚甲基丙烯酸甲酯的粒径为10μm，均匀度＜3％。
76.所述聚甲基丙烯酸甲酯购买自中科雷鸣(北京)科技有限公司生产的pmma010000。
77.所述消泡剂为聚醚改性硅类消泡剂。
78.所述聚醚改性硅类消泡剂在25℃下的粘度为1000-4000mpa
·
s，固含量为18％。
79.所述聚醚改性硅类消泡剂购买自大田化学公司生产的js-60。
80.本发明第二方面提供了一种如上所述的高反射率的阻焊干膜的制备方法，包括以下步骤：
81.s1、将固化树脂、稀释单体、光敏剂、微米粒子、消泡剂按照比例进行混合，搅拌50min，得到感光胶膜层溶液；
82.s2、在载体保护膜层上涂布感光胶膜层溶液后，再贴合离型保护膜层，经uv光照固化后，进一步加热固化，即得。
83.所述uv灯照射固化时间为25s，光强度为80mw/cm2。
84.加热温度为80℃。
85.实施例2
86.实施例2提供了一种高反射率的阻焊干膜，具体实施方式同实施例1，不同点在于：所述固化树脂为环氧丙烯酸酯。
87.实施例3
88.实施例3提供了一种高反射率的阻焊干膜，具体实施方式同实施例1，不同点在于：所述微米粒子为钛白粉。
89.实施例4
90.实施例4提供了一种高反射率的阻焊干膜，具体实施方式同实施例1，不同点在于：所述聚甲基丙烯酸甲酯和钛白粉的重量比为3:1。
91.实施例5
92.实施例5提供了一种高反射率的阻焊干膜，具体实施方式同实施例1，不同点在于：所述稀释单体为异冰片基甲基丙烯酸酯。
93.性能测试方法
94.分别将实施例1-5得到的阻焊干膜热压合在0.15mm的slp板上，真空时间25s，75℃压合30s，di曝光机1500mj/cm2曝光后静置半小时，在155℃下热固60min，去除保护膜，在30℃、压强为1.0kg/cm2、1wt％碳酸钠溶液中显影60s后，测试其性能。
95.1、反射率
96.对实施例1-5所制备的阻焊干膜，使用分光光度计来测定其反射率，结果记入表1。
97.2、附着力
98.对实施例1-5所制备的阻焊干膜，在其显影后，采用百格测试法，在其表面划出0.4
×
0.4mm的格群，将胶纸牢牢粘在方格上后180
°
迅速撕下，同一位置重复三遍，观察是否有脱落，无脱落记为合格，否则记为不合格，结果记入表1。
99.3、绝缘性测试
100.对实施例1-5得到的阻焊干膜，在其显影后，参考ipc-tm-6502.6.25b要求对其进行caf测试，测试步骤如下：
101.焊接测试线，清洗去除焊接残留物后，在105℃烘烤半小时，以100vdc测试烘烤后试样作为初始绝缘阻值，记为r1；将样品放置在85℃，85％rh湿热条件下静置596h后，再以100vdc测试试样的绝缘阻值，记为r2，结果记入表1。
102.4、耐化学稳定性
103.耐碱性测试：
104.将上述实施例1-5得到的阻焊干膜，在其显影后，放置在温度为35℃，浓度为10wt％的氢氧化钠水溶液中浸泡10分钟，观察干膜是否发生脱落，未发生脱落则记为合格，否则记为不合格，结果记入表1。
105.耐酸性测试
106.将上述实施例1-5得到的阻焊干膜，在其显影后，放置在温度为35℃，浓度为10wt％的硫酸水溶液中浸泡10分钟，观察干膜是否发生脱落，未发生脱落则记为合格，否则记为不合格，结果记入表1。
107.5、耐冷热冲击性
108.将上述实施例1-5得到的阻焊干膜，在其显影后，参考ipc-tm-650，放置在温度为-35℃和135℃的环境中，滞留时间45min，循环500之后，观察干膜的情况，干膜未发生脱落则记为合格，否则记为不合格，结果记入表1。
109.6、耐高温高湿性
110.将上述实施例1-5得到的阻焊干膜，在其显影后，参考ipc-tm-650，在温度为85℃，85％rh湿热条件下静置596h后，观察干膜情况，干膜未发生脱落开裂则记为合格，否则记为不合格，结果记入表1。
111.表1
112.