信息处理装置和方法、光刻装置、物品的制造方法及介质与流程

本发明涉及信息处理装置、光刻装置、信息处理方法、物品的制造方法、以及存储介质。

背景技术：

1、以往，已知一种使用利用机器学习的统计学的手法的半导体曝光装置的曝光精度的校正方法。在日本特开2020-34682号公报中，公开一种根据工序处理信息、下层图案的偏移量、下层图案的光掩模的校正量、上层图案的偏移量、上层图案的光掩模的校正量，使用校正模型来计算重叠预测校正值的方法。

技术实现思路

1、在日本特开2020-34682号公报公开的方法中，为了预测曝光结果的复杂的测量结果来校正曝光精度，需要大量的曝光装置数据和正确地提取出的特征量。但是，难以正确地提取所有特征量，即便通过大量准备曝光装置数据来进行学习，由于需要很多学习时间而比较困难。

2、因此，本发明的目的在于提供一种能够以较少的数据高精度地校正的信息处理装置、光刻装置、信息处理方法、物品的制造方法、以及存储介质。

3、本发明的一个侧面提供一种信息处理装置，具有：第1取得单元，取得与在基板上的第1层形成了图案的工序有关的第1数据；第2取得单元，取得与在所述基板上的作为所述第1层的下层的第2层形成了图案的工序有关的第2数据；第3取得单元，取得与在所述第1层形成了所述图案的所述基板有关的测定数据；以及计算单元，使用所述第1数据、所述第2数据、以及所述测定数据来计算校正数据，所述计算单元将所述测定数据分解为多个分量来生成针对每个分量的多个推测模型，合成所述多个推测模型来计算所述校正数据。

4、在以下的实施方式中说明本发明的其他目的以及特征。

5、根据本发明，能够提供能够以较少的数据高精度地校正的信息处理装置、光刻装置、信息处理方法、物品的制造方法、以及存储介质。

技术特征：

1.一种信息处理装置，其特征在于，具有：

2.根据权利要求1所述的信息处理装置，其特征在于，

3.根据权利要求1所述的信息处理装置，其特征在于，

4.根据权利要求2所述的信息处理装置，其特征在于，

5.根据权利要求2所述的信息处理装置，其特征在于，

6.根据权利要求2所述的信息处理装置，其特征在于，

7.根据权利要求1所述的信息处理装置，其特征在于，

8.根据权利要求1所述的信息处理装置，其特征在于，

9.根据权利要求1所述的信息处理装置，其特征在于，

10.根据权利要求1至9中的任意一项所述的信息处理装置，其特征在于，

11.一种光刻装置，向基板形成图案，其特征在于，

12.一种信息处理方法，其特征在于，具有：

13.一种物品的制造方法，其特征在于，具有：

14.一种存储介质，其特征在于，

技术总结
本公开涉及信息处理装置和方法、光刻装置、物品的制造方法及介质。信息处理装置(100)具有：第1取得单元(101)，取得与在基板上的第1层形成了图案的工序有关的第1数据；第2取得单元(102)，取得与在基板上的作为第1层的下层的第2层形成了图案的工序有关的第2数据；第3取得单元(103)，取得与在第1层形成了图案的基板有关的测定数据；以及计算单元(104)，使用第1数据、第2数据以及测定数据来计算校正数据，计算单元将测定数据分解为多个分量来生成针对每个分量的多个推测模型，合成多个推测模型来计算校正数据。

技术研发人员：大谷健,宝田洋佑
受保护的技术使用者：佳能株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/1/12