一种亚分辨率辅助图形生成方法、生成装置及存储介质与流程

一种亚分辨率辅助图形生成方法、生成装置及存储介质
【技术领域】
1.本发明涉及集成电路制造过程中的掩模制造技术领域，具体涉及一种亚分辨率辅助图形生成方法、生成装置及存储介质。


背景技术：

2.光刻工艺是现代极大规模集成电路制造过程中最重要的制造工艺，体现在光刻机将掩模上集成电路的设计图形转移到硅片上的过程中。随着技术节点的不断降低，为提高成像分辨率和成像质量并解决光学临近效应(optical proximity effect)带来的瓶颈，光学临近效应的校正即opc(optical proximity correction)变得必不可少。而在设计中添加亚分辨率辅助图形(sraf)可以解决禁止图形工艺窗口太小等技术难题。sraf一般是一些细小的图形，被放置在分布较稀疏的图形附近，使得稀疏图形在光学的角度上看像密集图形。它们须小于光刻机的分辨率，在曝光时对光线只起到散射作用，而不会在光刻胶上形成图像。辅助图形也不能过小，否则将增大掩模的制造困难度，使得掩模造价大幅提高。因此通常在实际的掩模设计和优化中，辅助图形的几何特征和相对位置都须遵循一定的放置规则，这使得基于规则掩模优化生成亚分辨率辅助图形的方法仍面临着规则过于复杂、灵活性不足和生成的辅助图形过于零散，难以达到在满足制造规则的前提下还能提高工艺窗口。


技术实现要素：

3.为解决现有技术中的问题，本发明提供了一种亚分辨率辅助图形生成方法、生成装置及存储介质。
4.为了解决上述技术问题，本发明的技术方案是提供一种亚分辨率辅助图形生成方法，所述亚分辨率辅助图形生成方法包括以下步骤：
5.输入掩膜图形，选取所述掩膜图形中具有预设长度或宽度的边并界定为主图形；
6.输入至少两个初始亚分辨率辅助图形并将所述初始亚分辨率辅助图形放置于所述主图形中；
7.检测所述初始亚分辨率辅助图形与所述主图形间的冲突，并对存在冲突的所述初始亚分辨率辅助图形进行第一次冲突处理；及
8.选取经第一次冲突处理后和未进行第一次冲突处理的亚分辨率辅助图形中符合预设条件的亚分辨率辅助图形进行合并处理；
9.对进行合并处理后和经第一次冲突处理后未进行合并处理的亚分辨率辅助图形进行优化处理并生成最终的亚分辨率辅助图形输出。
10.优选地，对存在冲突的所述初始亚分辨率辅助图形进行第一次冲突处理包括：对所述初始亚分辨率辅助图形进行缩短或切割。
11.优选地，所述预设条件为：经第一次冲突处理后的两所述亚分辨率辅助图形之间的间距在预设数值范围内。
12.优选地，所述预设数值范围为3nm～15nm。
13.优选地，对进行合并处理后或经第一次冲突处理后未进行合并处理的亚分辨率辅助图形进行优化处理具体包括步骤：
14.检测经合并处理后和经第一次冲突处理后未进行合并处理的亚分辨率辅助图形与主图形的冲突并对存在冲突的所述亚分辨率辅助图形进行第二次冲突处理；
15.对经第二次冲突处理后的亚分辨率辅助图形之间存在冲突的亚分辨率辅助图形进行第三次冲突处理；
16.对经第二次冲突处理后的亚分辨率辅助图形自身的存在冲突的亚分辨率辅助图形进行第四次冲突处理。
17.优选地，对亚分辨率辅助图形进行第二次冲突处理具体包括：对所述亚分辨率辅助图形进行缩短或切割；及移除不满足自身制造规则的亚分辨率辅助图形。
18.优选地，对经第二次冲突处理后的亚分辨率辅助图形之间存在冲突的亚分辨率辅助图形进行第三次冲突处理具体包括步骤：
19.先将在同一方向上存在冲突的亚分辨率辅助图形进行缩短、切割或移除；
20.再将不在同一方向上存在冲突的亚分辨率辅助图形进行缩短、切割或移除。
21.优选地，对第二次冲突处理后的亚分辨率辅助图形自身的存在冲突的亚分辨率辅助图形进行第四次冲突处理具体包括步骤：
22.先将宽度小于第一预设值的亚分辨率辅助图形移除和将宽度大于第一预设值的亚分辨率辅助图形缩短；
23.再将长度小于第二预设值的亚分辨率辅助图形移除和将长度大于第二预设值的亚分辨率辅助图形进行缩短或切割。
24.本发明解决上述技术问题的又一技术方案是提供一种亚分辨率辅助图形生成装置，应用于上述的亚分辨率辅助图形生成方法，所述生成装置包括：
25.第一输入模块：用于输入掩膜图形；
26.选取模块：用于选取所述掩膜图形中具有预设长度或宽度的边并界定为主图形；
27.第二输入模块：输入至少两个初始亚分辨率辅助图形；
28.放置模块：用于将所述初始亚分辨率辅助图形均放置于所述主图形中；
29.检测模块：用于检测所述初始亚分辨率辅助图形与所述主图形间的冲突；
30.处理模块：用于对存在冲突的所述初始亚分辨率辅助图形进行第一次冲突处理；
31.合并模块：用于选取经处理后和未进行第一次冲突处理的所述亚分辨率辅助图形中符合预设条件的亚分辨率辅助图形进行合并处理；
32.输出模块：用于对进行合并处理后和经第一次冲突处理后未进行合并处理的亚分辨率辅助图形进行优化处理以生成最终的亚分辨率辅助图形输出。
33.本发明解决上述技术问题的又一技术方案是提供一种存储介质，包括处理器，所述存储介质被处理器执行时实现上述的亚分辨率辅助图形生成方法。
34.与现有技术相比，本发明提供的一种亚分辨率辅助图形生成方法、生成装置及存储介质具有以下优点：
35.1、本发明的实施例提供的亚分辨率辅助图形生成方法，由于初始亚分辨率辅助图形不满足制造规则，因此本发明先检测亚分辨率辅助图形与主图形间的冲突，并对存在冲
突的亚分辨率辅助图形进行第一次冲突处理，使得初始亚分辨率辅助图形能够与主图形间满足制造规则，而将进行第一次冲突处理后的亚分辨率辅助图形中符合预设条件的亚分辨率辅助图形进行合并处理，能够使得放置的亚分辨率辅助图形不会过于零散，方便后续进行优化处理、减小掩膜制造的难度及制造成本；最后再将经合并处理后或经第一次冲突处理后未进行合并处理的亚分辨率辅助图形进行优化处理，能够保证生成的亚分辨率辅助图形符合掩膜的制造规则，且生成的亚分辨率辅助图形具有一定的完整性和对称性。可见，通过本方案生成的亚分辨率辅助图形能够在满足自身制造规则的同时还能够提高工艺窗口，从而使得生成的亚分辨率辅助图形在和优化后的设计版图一起满足集成电路的制造规则。
36.2、本发明的实施例提供的亚分辨率辅助图形生成方法，通过对初始亚分辨率辅助图形进行缩短或切割，能够消除与主图形间存在的冲突，进而保证了亚分辨率辅助图形能够满足与主图形之间的制造规则。
37.3、本发明的实施例提供的亚分辨率辅助图形生成方法，预设条件为两个亚分辨率辅助图形之间的间距在预设数值范围内，通过此设计能够进一步地防止亚分辨率辅助图形过于零碎，从而导致后续的掩模制造的难度大和增加掩模制作成本的问题。
38.4、本发明的实施例提供的亚分辨率辅助图形生成方法，通过对经合并后或经第一次冲突处理后未进行合并处理的亚分辨率辅助图形进行第二次冲突处理，能够解决经合并后或经第一次冲突处理后未进行合并处理的亚分辨率辅助图形与主图形的冲突，保证其满足与主图形的制造规则；通过对经第二次冲突处理后的亚分辨率辅助图形进行第三次冲突处理和第四次冲突处理能够使得经第二次冲突处理后的亚分辨率辅助图形满足掩膜的制造规则，此外，通过第四次冲突处理还能够避免亚分辨率辅助图形太大导致掩膜在曝光时产生曝光轮廓。
39.5、本发明的实施例提供的亚分辨率辅助图形生成方法，第二次冲突处理具体包括：对亚分辨率辅助图形进行缩短或切割；及移除不满足自身制造规则的亚分辨率辅助图形。通过此设计能够使经合并处理后的亚分辨率辅助图形在满足与主图形间的制造规则的同时还能够增加工艺窗口的效果。
40.6、本发明的实施例提供的亚分辨率辅助图形生成方法，对亚分辨率辅助图形之间存在冲突进行第三次冲突处理，能够使得两个亚分辨率辅助图形之间满足设定的掩模制造规则。
41.7、本发明的实施例提供的亚分辨率辅助图形生成方法，对经合并处理后的亚分辨率辅助图形自身的存在冲突的亚分辨率辅助图形进行第四次冲突处理，能够使得亚分辨率辅助图形自身满足设定的掩模制造规则外还能够防止最终生成辅助图形太大而产生曝光轮廓。
42.8、本发明的实施例提供的亚分辨率辅助图形生成装置，具有与上述的亚分辨率辅助图形生成方法相同的有益效果，在此不再赘述。
43.9、本发明的实施例提供的存储介质，具有与上述的亚分辨率辅助图形生成方法相同的有益效果，在此不再赘述。
【附图说明】
44.图1是本发明的第一实施例的亚分辨率辅助图形生成方法的流程示意图；
45.图2是本发明的第一实施例的亚分辨率辅助图形生成方法之详细步骤流程示意图一；
46.图3是本发明的第一实施例的亚分辨率辅助图形生成方法之详细步骤流程示意图二；
47.图4是本发明的第一实施例的亚分辨率辅助图形生成方法之详细步骤流程示意图三；
48.图5是本发明的第一实施例的亚分辨率辅助图形生成方法之主图形与亚分辨率辅助图形的示意图一；
49.图6是本发明的第一实施例的亚分辨率辅助图形生成方法之主图形与亚分辨率辅助图形的示意图二；
50.图7是本发明的第一实施例的亚分辨率辅助图形生成方法之主图形与亚分辨率辅助图形的示意图三；
51.图8是本发明的第一实施例的亚分辨率辅助图形生成方法之主图形与亚分辨率辅助图形的示意图四；
52.图9是本发明的第一实施例的亚分辨率辅助图形生成方法之主图形与亚分辨率辅助图形的示意图五；
53.图10是本发明的第二实施例的亚分辨率辅助图形生成装置的系统框图。
54.附图标识说明：
55.1、亚分辨率辅助图形生成方法；2、亚分辨率辅助图形生成装置；
56.21、第一输入模块；22、选取模块；23、第二输入模块；24、放置模块；25、检测模块；26、处理模块；27、合并模块；28、输出模块。
【具体实施方式】
57.为了使本发明的目的，技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施实例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
58.请参阅图1，本发明的第一实施例提供一种亚分辨率辅助图形生成方法，包括以下步骤：
59.s1：输入掩膜图形，选取掩膜图形中具有预设长度或宽度的边并界定为主图形；
60.s2：输入至少两个初始亚分辨率辅助图形并将初始亚分辨率辅助图形放置于主图形中；
61.s3：检测初始亚分辨率辅助图形与主图形间的冲突，并对存在冲突的初始亚分辨率辅助图形进行第一次冲突处理；及
62.s4：选取经第一次冲突处理后和未进行第一次冲突处理的亚分辨率辅助图形中符合预设条件的亚分辨率辅助图形进行合并处理；
63.s5：对进行合并处理后和经第一次冲突处理后未进行合并处理的亚分辨率辅助图形进行优化处理并生成最终的亚分辨率辅助图形输出。
64.需要说明的是，本发明的第一实施例的步骤s1中的预设长度或宽度的边指的是掩膜图形中具有一定长度或宽度的边，其具体的长度或宽度可以实际需求进行设定。步骤s3
中的冲突指的是初始亚分辨率辅助图形到主图形的距离小于设定的值。具体地，在步骤s3中检测初始亚分辨率辅助图形与主图形间的冲突具体为：检测初始亚分辨率辅助图形与主图形直接的边到边的距离及角到角的距离是否小于设定的值。也可以理解地，该设定的值可以根据不同的使用场景进行设定，在此不做任何限定。
65.可以理解地，在掩膜设计中可以添加亚分辨率辅助图形以解决禁止图形工艺窗口太小的技术难题，但是现有的亚分辨率辅助图形的几何特征和相对位置都需要遵循一定的放置规则，否则将会增大掩模的制造困难和增大成本。鉴于此，本发明实施例提供了一种亚分辨率辅助图形生成方法。
66.可以理解地，由于初始亚分辨率辅助图形不满足制造规则，因此本发明先检测亚分辨率辅助图形与主图形间的冲突，并对存在冲突的亚分辨率辅助图形进行第一次冲突处理，使得初始亚分辨率辅助图形能够与主图形间满足制造规则，而将进行第一次冲突处理后的亚分辨率辅助图形中符合预设条件的亚分辨率辅助图形进行合并处理，能够使得放置的亚分辨率辅助图形不会过于零散，方便后续进行优化处理、减小掩膜制造的难度及制造成本；最后再将经合并处理后或经第一次冲突处理后未进行合并处理的亚分辨率辅助图形进行优化处理，能够保证生成的亚分辨率辅助图形符合掩膜的制造规则，且生成的亚分辨率辅助图形具有一定的完整性和对称性。可见，通过本方案生成的亚分辨率辅助图形能够在满足自身制造规则的同时还能够提高工艺窗口，从而使得生成的亚分辨率辅助图形在和优化后的设计版图一起满足集成电路的制造规则。
67.进一步地，对存在冲突的初始亚分辨率辅助图形进行第一次冲突处理包括：对初始亚分辨率辅助图形进行缩短或切割。
68.可以理解地，通过对初始亚分辨率辅助图形进行缩短或切割，能够消除初始亚分辨率辅助图形与主图形间存在的冲突，进而保证了初始亚分辨率辅助图形能够满足与主图形之间的制造规则。
69.进一步地，预设条件为：经第一次冲突处理后的两亚分辨率辅助图形之间的间距在预设数值范围内。
70.需要说明的是，本发明实施例中的间距包括但不限于端对端的距离、亚分辨率辅助图形的中心线的偏移程度或两个亚分辨率辅助图形的宽度的差距。此外，在步骤s3中的检测过程中，若该初始亚分辨率辅助图形与主图形间不存在冲突，只要两个亚分辨率辅助图形之间的间距在预设数值范围内也会进行合并处理。
71.可以理解地，当两个亚分辨率辅助图形之间的间距小于预设数值范围时，这两个亚分辨率辅助图形才能合并，通过此设计，能够进一步地防止亚分辨率辅助图形过于零碎，从而导致后续的掩模制造的难度大和增加掩模制作成本的问题。
72.进一步地，预设数值范围为3nm～15nm。
73.可选地，预设数值范围可以为但不限制于3nm～15nm、3nm～6nm、3nm～9nm、3nm～12nm、6nm～9nm、6nm～12nm、6nm～15nm、9nm～12nm或9nm～15nm。可以根据使用场景对该预设数值范围进行设置。
74.还需要说明的是，若初始辅助亚分辨率辅助图形进行第一次冲突处理后不满足合并处理的预设条件，也会直接进入后续的优化处理步骤。
75.进一步地，请参阅图2，对进行合并处理后或经第一次冲突处理后未进行合并处理
的亚分辨率辅助图形进行优化处理具体包括步骤：
76.s51：检测经合并处理后和经第一次冲突处理后未进行合并处理的亚分辨率辅助图形与主图形的冲突并对存在冲突的所述亚分辨率辅助图形进行第二次冲突处理；
77.s52：对经第二次冲突处理后的亚分辨率辅助图形之间存在冲突的亚分辨率辅助图形进行第三次冲突处理；
78.s53：对经第二次冲突处理后的亚分辨率辅助图形自身的存在冲突的亚分辨率辅助图形进行第四次冲突处理。
79.可以理解地，通过对经合并后或经第一次冲突处理后未进行合并处理的亚分辨率辅助图形进行第二次冲突处理，能够解决经合并后或经第一次冲突处理后未进行合并处理的亚分辨率辅助图形与主图形的冲突，保证其满足与主图形的制造规则；通过对经第二次冲突处理后的亚分辨率辅助图形进行第三次冲突处理和第四次冲突处理能够使得经第二次冲突处理后的亚分辨率辅助图形满足掩膜的制造规则，此外，通过第四次冲突处理还能够避免亚分辨率辅助图形太大导致掩膜在曝光时产生曝光轮廓。
80.进一步地，对亚分辨率辅助图形进行第二次冲突处理具体包括：对亚分辨率辅助图形进行缩短或切割；及移除不满足自身制造规则的亚分辨率辅助图形。
81.可以理解地，通过此设计能够使得经合并处理的亚分辨率辅助图形在满足与主图形间的制造规则的同时还能够增加工艺窗口的效果。
82.进一步地，请参阅图3，对经第二次冲突处理后的亚分辨率辅助图形之间存在冲突的亚分辨率辅助图形进行第三次冲突处理具体包括步骤：
83.s521：先将在同一方向上存在冲突的亚分辨率辅助图形进行缩短、切割或移除；
84.s522：再将不在同一方向上存在冲突的亚分辨率辅助图形进行缩短、切割或移除。
85.可以理解地，请参阅图4，对亚分辨率辅助图形之间存在冲突进行第三次冲突处理，能够使得两个亚分辨率辅助图形之间满足设定的掩模制造规则。
86.进一步地，对经第二次冲突处理后的亚分辨率辅助图形自身的存在冲突的亚分辨率辅助图形进行第四次冲突处理具体包括步骤：
87.s531：先将宽度小于第一预设值的亚分辨率辅助图形移除和将宽度大于第一预设值的亚分辨率辅助图形缩短；
88.s532：再将长度小于第二预设值的亚分辨率辅助图形移除和将长度大于第二预设值的亚分辨率辅助图形进行缩短或切割。
89.需要说明的是，本实施例的第一预设值为18～22nm；第二预设值为28～32nm。也可以理解地，该预设值可以根据实际需求进行设定。作为本发明实施例优选地方案，第一预设值为20nm，第二预设值为30nm.
90.可以理解地，对经合并处理后的亚分辨率辅助图形自身的存在冲突的亚分辨率辅助图形进行第四次冲突处理，能够使得亚分辨率辅助图形自身满足设定的掩模制造规则外还能够防止最终生成辅助图形太大而产生曝光轮廓。
91.综上所述，请结合图5至图9，本发明的亚分辨率辅助图形生成方法在具体应用时，先输入一张掩膜图形，并选取掩膜图形中具有预设长度或宽度的边并界定为主图形，然后将初始亚分辨率辅助图形放置到主图形中(即图5所示)，可以看出此时的初始亚分辨率辅助图形不满足制造规则，检测初始亚分辨率图形与主图形间的冲突并对存在冲突的初始亚
分辨率辅助图形进行第一次冲突处理(即图6所示)，可以看出此时的亚分辨率辅助图形与主图形之间的冲突大大减小，再将满足预设条件的两个亚分辨率辅助图形进行合并处理(即图7所示)，可以看出此时的亚分辨率辅助图形很密集不零散，再解决经合并后或经第一次冲突处理后的亚分辨率辅助图形进行第二次冲突处理以使得亚分辨率辅助图形与主图形间满足制造规则，再对经第二次冲突处理后的亚分辨率辅助图形之间存在冲突的进行第三次冲突处理，能够辅助图形满足设定的掩模制造规则(即图8所示)，最后在对第二次冲突处理后的亚分辨率辅助图形自身存在冲突的辅助图形进行第四次冲突处理(即图9所示)以使得亚分辨率辅助图形的尺寸不会太大从而防止后续产生曝光轮廓。图9也是本发明最终生成的亚分辨率辅助图形，该辅助图形具有一定完整性和对称性、且满足制造规则和能够提高工艺窗口。
92.请参阅图10，本发明的第二实施例提供一种亚分辨率辅助图形生成装置2，应用于上述的亚分辨率辅助图形生成方法，亚分辨率辅助图形生成装置2包括：
93.第一输入模块21：用于输入掩膜图形；
94.选取模块22：用于选取所述掩膜图形中具有预设长度或宽度的边并界定为主图形；
95.第二输入模块23：输入至少两个初始亚分辨率辅助图形；
96.放置模块24：用于将所述初始亚分辨率辅助图形均放置于所述主图形中；
97.检测模块25：用于检测所述初始亚分辨率辅助图形与所述主图形间的冲突；
98.处理模块26：用于对存在冲突的所述初始亚分辨率辅助图形进行第一次冲突处理；
99.合并模块27：用于选取经处理后和未进行第一次冲突处理的所述亚分辨率辅助图形中符合预设条件的亚分辨率辅助图形进行合并处理；
100.输出模块28：用于对进行合并处理后和经第一次冲突处理后未进行合并处理的亚分辨率辅助图形进行优化处理以生成最终的亚分辨率辅助图形输出。
101.本发明的第三实施例提供一种存储介质，包括处理器，存储介质被处理器执行时实现本发明的第一实施例提供的亚分辨率辅助图形生成方法。
102.应理解，说明书通篇中提到的“一个实施例”或“一实施例”意味着与实施例有关的特定特征、结构或特性包括在本发明的至少一个实施例中。因此，在整个说明书各处出现的“在一个实施例中”或“在一实施例中”未必一定指相同的实施例。此外，这些特定特征、结构或特性可以任意适合的方式结合在一个或多个实施例中。本领域技术人员也应该知悉，说明书中所描述的实施例均属于可选实施例，所涉及的动作和模块并不一定是本发明所必需的。
103.在本发明的各种实施例中，应理解，上述各过程的序号的大小并不意味着执行顺序的必然先后，各过程的执行顺序应以其功能和内在逻辑确定，而不应对本发明实施例的实施过程构成任何限定。
104.在本发明的附图中的流程图和框图，图示了按照本技术各种实施例的系统、方法和计算机程序产品的可能实现的体系架构、功能和操作。在这点上，流程图或框图中的每个方框可以代表一个模块、程序段或代码的一部分，该模块、程序段或代码的一部分包含一个或多个用于实现规定的逻辑功能的可执行指令。也应当注意，在有些作为替换的实现方案
中，方框中所标注的功能也可以不同于附图中所标注的顺序发生。例如，两个接连地表示的方框实际上可以基本并行的执行，它们有时也可以按相反的顺序执行，在此基于涉及的功能而确定。需要特别注意的是，框图和/或流程图中的每个方框、以及框图和/或流程图中的方框的组合，可以用执行规定的功能或操作的专用的基于硬件的系统来实现，或者可以用专用硬件与计算机指令的组合来实现。
105.与现有技术相比，本发明提供的一种亚分辨率辅助图形生成方法、生成装置及存储介质具有以下优点：
106.1、本发明的实施例提供的亚分辨率辅助图形生成方法，由于初始亚分辨率辅助图形不满足制造规则，因此本发明先检测亚分辨率辅助图形与主图形间的冲突，并对存在冲突的亚分辨率辅助图形进行第一次冲突处理，使得初始亚分辨率辅助图形能够与主图形间满足制造规则，而将进行第一次冲突处理后的亚分辨率辅助图形中符合预设条件的亚分辨率辅助图形进行合并处理，能够使得放置的亚分辨率辅助图形不会过于零散，方便后续进行优化处理、减小掩膜制造的难度及制造成本；最后再将经合并处理后或经第一次冲突处理后未进行合并处理的亚分辨率辅助图形进行优化处理，能够保证生成的亚分辨率辅助图形符合掩膜的制造规则，且生成的亚分辨率辅助图形具有一定的完整性和对称性。可见，通过本方案生成的亚分辨率辅助图形能够在满足自身制造规则的同时还能够提高工艺窗口，从而使得生成的亚分辨率辅助图形在和优化后的设计版图一起满足集成电路的制造规则。
107.2、本发明的实施例提供的亚分辨率辅助图形生成方法，通过对初始亚分辨率辅助图形进行缩短或切割，能够消除与主图形间存在的冲突，进而保证了亚分辨率辅助图形能够满足与主图形之间的制造规则。
108.3、本发明的实施例提供的亚分辨率辅助图形生成方法，预设条件为两个亚分辨率辅助图形之间的间距在预设数值范围内，通过此设计能够进一步地防止亚分辨率辅助图形过于零碎，从而导致后续的掩模制造的难度大和增加掩模制作成本的问题。
109.4、本发明的实施例提供的亚分辨率辅助图形生成方法，通过对经合并后或经第一次冲突处理后未进行合并处理的亚分辨率辅助图形进行第二次冲突处理，能够解决经合并后或经第一次冲突处理后未进行合并处理的亚分辨率辅助图形与主图形的冲突，保证其满足与主图形的制造规则；通过对经第二次冲突处理后的亚分辨率辅助图形进行第三次冲突处理和第四次冲突处理能够使得经第二次冲突处理后的亚分辨率辅助图形满足掩膜的制造规则，此外，通过第四次冲突处理还能够避免亚分辨率辅助图形太大导致掩膜在曝光时产生曝光轮廓。
110.5、本发明的实施例提供的亚分辨率辅助图形生成方法，第二次冲突处理具体包括：对亚分辨率辅助图形进行缩短或切割；及移除不满足自身制造规则的亚分辨率辅助图形。通过此设计能够使经合并处理后的亚分辨率辅助图形在满足与主图形间的制造规则的同时还能够增加工艺窗口的效果。
111.6、本发明的实施例提供的亚分辨率辅助图形生成方法，对亚分辨率辅助图形之间存在冲突进行第三次冲突处理，能够使得两个亚分辨率辅助图形之间满足设定的掩模制造规则。
112.7、本发明的实施例提供的亚分辨率辅助图形生成方法，对经合并处理后的亚分辨率辅助图形自身的存在冲突的亚分辨率辅助图形进行第四次冲突处理，能够使得亚分辨率
辅助图形自身满足设定的掩模制造规则外还能够防止最终生成辅助图形太大而产生曝光轮廓。
113.8、本发明的实施例提供的亚分辨率辅助图形生成装置，具有与上述的亚分辨率辅助图形生成方法相同的有益效果，在此不再赘述。
114.9、本发明的实施例提供的存储介质，具有与上述的亚分辨率辅助图形生成方法相同的有益效果，在此不再赘述。
115.以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的原则之内所作的任何修改，等同替换和改进等均应包含本发明的保护范围之内。