一种摄像头滤光片托架的制作方法

1.本实用新型涉及一种产品托架，特别涉及一种摄像头滤光片托架，属于模组组件高端制造技术领域。


背景技术：

2.目前，虽然相机的拍照性能越来越强，但因为相机光学构造上先天的限制，大家在拍照时还是会经历一些画面异常。我们日常所说的“鬼影”、眩光等画面异常，大都是因为摄像头模组件的反光相互干涉造成，所以为了提高摄像头的拍照质量，减少杂散光，摄像头里面内部的滤光片、保护盖板往往都采用镀制了超低反射膜的镜片，即使如此，也很难避免杂散光产生，主要原因是摄像头内部依然有反射较强的部件产生反射干扰，比如各个支撑固定滤光片的托架。
3.为了降低滤光片托架的反光问题，传统的滤光片托架上一般具有三种层架构，其上分别是底漆、中漆和面漆。其缺点主要反应在：
4.(1)油漆层硬度低、附着力差。作为镜头模组内部的结构件，在安装过程中的接触磕碰都会导致油漆剥落，剥落后的滤光片镜架漏出不锈钢底材，依然对成像质量造成很大影响。且通常会对整个模组进行报废处理。
5.(2)厚度较厚，现在不论手机，数码相机等智能化电子产品都要求组件精小化，喷涂的厚度又都是微米级别，相比真空镀膜纳米级别的膜层，油漆厚度会对整个模组大小的控制造成较大的影响。
6.(3)反射率高。真空镀制的超低反射膜在可见光即380-780nm波段，反射率可以控制2％以下，而喷涂最好只能将反射率控制在5％，所以并不能根本解决反射光干涉问题。
7.(4)表面粗糙度高，相比于真空镀膜纳米级别的膜层，喷涂油漆会因为油漆颜料的粒径以及流平等因素影响，导致漆面坑坑洼洼，更容易产生漫反射，使拍摄质量更差。


技术实现要素：

8.本实用新型的目的在于，提供一种摄像头滤光片托架，该托架在真空环境下制备的光学膜层更纯净，膜层与托架的附着力更强，且膜层的硬度更高，不易被刮花、剥落；膜层更薄，有利于摄像头整体模组的精小化。
9.为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案在于，一种摄像头滤光片托架，包括基材，所述基材的四周通过注塑机注塑有注塑边，所述基材与注塑边形成放置滤光片的托架体，所述基材的正反面分别镀有吸光材料层，正反面所述吸光材料层上分别镀有光学镀层。
10.本专利中，吸光材料层可以将可见光380-780nm波段的反射率由40-70％降低至2％以下，让照射在摄像头滤光片托架上的杂光几乎全被吸收，避免鬼影和紫斑的产生。
11.作为优选，所述基材为不锈钢，所述吸光材料层镀在基材的不锈钢区域。
12.作为优选，所述吸光材料层为高纯ni层。高纯ni层为基材上的第一层膜层，所述高
纯ni不仅硬度高，与摄像头滤光片托架的不锈钢结合之后的附着力更好，而且在整个膜系结构中充当吸光材料。
13.作为优选，所述光学镀层以远离高纯ni层的方向依次设置有第一sio2层、nb2o5层和第二sio2层。所述第二层至所述第四层为光学镀层，主要的作用是增透，将光大部分导入至第一吸光层，使光线被吸收，减少反射。
14.作为优选，所述
15.第一sio2层的厚度为40-50nm，
16.nb2o5层的厚度为20-30nm，
17.第二sio2层的厚度为70-80nm。
18.作为优选，所述高纯ni层的厚度为300-400nm。
19.作为优选，所以托架体在镀膜前通过九槽超声波进行清洗。采用九槽超声波清洗是为了洗掉摄像头滤光片托架表面的灰尘、颗粒、油渍等脏污，避免膜层因这些脏污问题而脱落。
20.作为优选，所述托架体清洗后采用150℃烘烤60min。主要目的是为了去除清洗后的摄像头滤光片托架表面的水汽，增加摄像头滤光片托架表面活性，提高膜层附着力。
21.作为优选，所述托架体的镀膜温度为150℃。为了防止摄像头滤光片托架的注塑边因高温变形，镀膜温度采用150℃
±
20℃。
22.本实用新型的有益效果：
23.(1)采用真空环境下制备的光学膜层更纯净，薄膜和摄像头滤光片托架的附着力更强，且膜层的硬度更高，避免了其表面在装配等过程中造成膜层被刮花，剥落的问题。
24.(2)膜层更薄，在能有效改善成像质量的前提下，保证摄像头滤光片托架整体厚度，有利于摄像头整体模组的精小化设计。
25.(3)将摄像头滤光片托架表面在可见光380-780nm波段的反射率由40-70％降低至2％以下，让照射在摄像头滤光片托架的杂光几乎全被吸收，避免鬼影和紫斑的产生。
附图说明
26.为了更清楚地说明本实用新型的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。
27.图1为本实用新型的结构示意图；
28.图2为本实用新型的正面结构示意图；
29.图3为本实用新型的背面结构示意图；
30.图4为本实用新型层结构的分解图；
31.图5为现有膜层反射率与本技术膜层发射率的对比图；
32.图中：1.基材，2.注塑边，3.托架体，4.高纯ni层，5.第一sio2层，6.nb2o5层，7.第二sio2层。
具体实施方式
33.为了使本技术领域的人员更好地理解本技术中的技术方案，下面将结合实施例对本技术中的技术方案进行清楚、完整地描述。
34.在本专利中，所述基材的材质为不锈钢，第一层：ni为镍，sio2为二氧化硅，nb2o5五氧化二铌。s1为基材的正面，s2为基材的背面，箭头方向代表远离高纯ni层的方向。
35.如图1-图4所示，一种摄像头滤光片托架，包括基材1，所述基材1的四周通过注塑机注塑有注塑边2，所述基材1与注塑边2形成放置滤光片的托架体3，所述基材1的正反面分别镀有吸光材料层，正反面所述吸光材料层上分别镀有光学镀层。
36.本专利中，基材表面的第一层需要镀制一层高吸收的薄膜材料，即吸光材料层。然后在此高吸收膜料上镀制多层光学增透膜，让光穿透至高吸收膜层上，使光被吸收。
37.如图5所示，为现有的摄像头托架和本技术摄像头托架膜层的反射率曲线，本技术的吸光材料层可以将可见光380-780nm波段的反射率由40-70％降低至2％以下，让照射在摄像头滤光片托架上的杂光几乎全被吸收，避免鬼影和紫斑的产生。
38.所述基材1为不锈钢，所述吸光材料层镀在基材的不锈钢区域。
39.所述吸光材料层为高纯ni层4。高纯ni层为基材上的第一层膜层，所述高纯ni不仅硬度高，与摄像头滤光片托架的不锈钢结合之后的附着力更好，而且在整个膜系结构中充当吸光材料。
40.所述光学镀层以远离高纯ni层的方向依次设置有第一sio2层5、nb2o5层6和第二sio2层7。所述第二层至所述第四层为光学镀层，主要的作用是增透，将光大部分导入至第一吸光层，使光线被吸收，减少反射。
41.所述第一sio2层的厚度为40-50nm，nb2o5层的厚度为20-30nm，第二sio2层的厚度为70-80nm。目前，同行业的膜层厚度一般在200nm以下的水平，本技术将膜层的厚度控制到了极薄的厚度，使得摄像头整体模组的厚度减小，做到了精小化设计。
42.所述高纯ni层4的厚度为300-400nm。
43.所述托架体3在镀膜前通过九槽超声波进行清洗。采用九槽超声波清洗是为了洗掉摄像头滤光片托架表面的灰尘、颗粒、油渍等脏污，避免膜层因这些脏污问题而脱落。
44.所述托架体3清洗后采用150℃烘烤60min。主要目的是为了去除清洗后的摄像头滤光片托架表面的水汽，增加摄像头滤光片托架表面活性，提高膜层附着力。
45.所述托架体3的镀膜温度为150℃
±
20℃。为了防止摄像头滤光片托架的注塑边因高温变形，镀膜温度采用150℃。在实际操作过程中温度太高产品变形，温度太低，镀膜层容易剥落，控制在150℃
±
20℃。
46.本实用新型的能达到的效果如下：
47.(1)采用真空环境下制备的光学膜层更纯净，膜层和摄像头滤光片托架的附着力更强，且膜层的硬度更高，避免了其表面在装配过程中造成膜层被刮花，剥落的问题。
48.(2)膜层更薄，在能有效改善成像质量的前提下，保证摄像头滤光片托架整体厚度，有利于摄像头整体模组的精小化设计。
49.(3)将摄像头滤光片托架表面在可见光380-780nm波段的反射率由40-70％降低至2％以下，让照射在摄像头滤光片托架的杂光几乎全被吸收，避免鬼影和紫斑的产生。
50.所描述的实施例只是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。