本发明涉及光学成像，特别涉及一种微光学成像系统、制作方法及微光学成像系统模板。
背景技术：
1、基于微光学成像系统可以广泛应用于商品包装、防伪标签等处。通过微光学成像系统呈现裸眼立体效果，以丰富商品包装视觉效果，或提高防伪标签的识别性。
2、相关技术中，微光学成像系统采用基材膜作为支撑，在基材膜相对的两面上分别形成微光学阵列和微图文阵列。其中，基材膜通常为聚对苯二甲酸类塑料(polyethyleneterephthalate，pet)、聚碳酸酯(polycarbonate，pc)等聚酯类塑料薄膜。
3、但是，相关技术中采用基材膜的微光学成像系统具有使用缺陷。具体来说，基材膜，特别是聚酯类基材膜都有一定的韧性和抗拉伸性。因此相关技术中的微光学成像系统很容易被撕拉下来。当微光学成像系统应用于伪标签时很容易被不法分子从商品上取下进行二次利用。并且，在环保越来越被重视的今天，去塑已在全球达成共识，基材膜作为主体结构之一的微光学成像系统难以适应当今去塑去膜化的要求。
技术实现思路
1、本发明要解决的技术问题是为了克服现有技术中微光学成像系统难以适应去塑去膜化的要求的缺陷，提供一种微光学成像系统、制作方法及微光学成像系统模板。
2、本发明是通过下述技术方案来解决上述技术问题：
3、第一方面，提供了一种微光学成像系统，所述微光学成像系统包括：
4、承载件；
5、微缩图文层，与所述承载件相连，且设置有微缩图文；以及
6、微透镜阵列，与所述微缩图文层远离所述承载件的一侧连接，并对应所述微缩图文设置；
7、所述微透镜阵列包括若干个微透镜单体，所述微透镜单体包括光学通道和聚焦结构，所述光学通道与所述微缩图文层相连，所述聚焦结构与所述光学通道远离所述微缩图文层的一端相连。
8、在一个实施例中，所述光学通道的长度与所述聚焦结构的焦距的差值小于或者等于第一设定阈值。
9、在一个实施例中，沿远离所述微缩图文层的方向，所述光学通道的横截面宽度逐渐减小。
10、在一个实施例中，所述光学通道的侧壁与纵向成第一夹角，所述第一夹角小于或者等于第二设定阈值。
11、在一个实施例中，一个光学通道至少连接一个所述聚焦结构。
12、在一个实施例中，所述聚焦结构的径向截面为圆形或多边形。
13、在一个实施例中，所述聚焦结构与所述光学通道相接处的横截面宽度为10～200微米；和/或，所述聚焦结构的高度为5～100微米。
14、在一个实施例中，所述微缩图文层包括若干个所述微缩图文形成的微缩图文阵列，一个所述光学通道对应至少一个所述微缩图文设置。
15、在一个实施例中，若干个所述微缩图文沿第一方向和第二方向分布，所述第一方向和所述第二方向相交；
16、所述聚焦结构沿第三方向和第四方向分布，所述第三方向与所述第一方向平行，所述第四方向与所述第二方向平行；或者，
17、所述聚焦结构沿第三方向和第四方向分布，所述第三方向与所述第一方向成第二夹角，所述第四方向与所述第二方向成第三夹角。
18、在一个实施例中，相邻所述微缩图文的排布距离和相邻所述聚焦结构的排布距离，基于所述微光学成像系统的预设放大倍率和预设景深配置。
19、在一个实施例中，所述微缩图文层包括堆叠设置的至少两个子图文层，所述子图文层上设置有所述微缩图文。
20、第二方面，本发明实施例提供了一种微光学成像系统的制作方法，所述方法用于制备第一方面提供的微光学成像系统，所述方法包括：
21、制备微光学成像系统模板，所述微光学成像系统模板包括凹陷部，所述凹陷部与所述微光学成像系统中微透镜阵列的结构相匹配；
22、在所述成像系统模板内涂布填充材料形成中间构件，在所述中间构件远离所述凹陷部的一面形成微缩图文；
23、将所述中间构件设置所述微缩图文的一侧与承载体连接，并剥离所述微光学成像系统模板。
24、在一个实施例中，所述制备微光学成像系统模板，包括：
25、制作聚焦结构阵列模板，所述聚焦结构阵列模板包括凹陷区；
26、根据预先确定的光学通道的长度在所述聚焦结构阵列模板上形成填充层，所述填充层的厚度与所述长度相同；
27、去除所述填充层中的与所述凹陷区对应的部分，得到中间模板；
28、根据所述中间模板得到压印模具，通过所述压印模具压印模板材料得到所述微光学成像系统模板。
29、第三方面，本发明实施例提供了一种微光学成像系统模板，所述模具用于制作第一方面所提供的所述微光学成像系统，所述模具形成有凹陷部，所述凹陷部与所述微光学成像系统中微透镜阵列的结构相匹配。
30、本发明的积极进步效果在于：
31、本发明实施例提供的微光学成像系统，通过采用光学通道替代基材膜，使得微光学成像系统满足去塑和去膜化要求。并且，该微光学成像系统难以受外力完整剥离，当应用于防伪标识、产品商标等场景下，降低了被不法分子盗取、盗用的情况，解决了相关技术中微光学成像系统使用不当的缺陷。
1.一种微光学成像系统，其特征在于，所述微光学成像系统包括：
2.根据权利要求1所述的微光学成像系统，其特征在于，所述光学通道的长度与所述聚焦结构的焦距的差值小于或者等于第一设定阈值。
3.根据权利要求1所述的微光学成像系统，其特征在于，沿远离所述微缩图文层的方向，所述光学通道的横截面宽度逐渐减小。
4.根据权利要求3所述的微光学成像系统，其特征在于，所述光学通道的侧壁与纵向成第一夹角，所述第一夹角小于或者等于第二设定阈值。
5.根据权利要求2所述的微光学成像系统，其特征在于，一个光学通道至少连接一个所述聚焦结构。
6.根据权利要求1所述的微光学成像系统，其特征在于，所述聚焦结构的径向截面为圆形或多边形。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的微光学成像系统，其特征在于，所述聚焦结构与所述光学通道相接处的横截面宽度为10～200微米；和/或
8.根据权利要求1所述的微光学成像系统，其特征在于，所述微缩图文层包括若干个所述微缩图文形成的微缩图文阵列，一个所述光学通道对应至少一个所述微缩图文设置。
9.根据权利要求8所述的微光学成像系统，其特征在于，若干个所述微缩图文沿第一方向和第二方向分布，所述第一方向和所述第二方向相交；
10.根据权利要求8所述的微光学成像系统，其特征在于，相邻所述微缩图文的排布距离和相邻所述聚焦结构的排布距离，基于所述微光学成像系统的预设放大倍率和预设景深配置。
11.根据权利要求1所述的微光学成像系统，其特征在于，所述微缩图文层包括堆叠设置的至少两个子图文层，所述子图文层上设置有所述微缩图文。
12.一种微光学成像系统的制作方法，其特征在于，所述方法用于制备权利要求1～11中任一项所述的微光学成像系统，所述方法包括：
13.根据权利要求12所述的制作方法，其特征在于，所述制备微光学成像系统模板，包括：
14.一种微光学成像系统模板，其特征在于，所述模板用于制作权利要求1～11中任一项所述微光学成像系统，所述模板形成有凹陷部，所述凹陷部与所述微光学成像系统中微透镜阵列的结构相匹配。