掩模板和曝光装置的制作方法

本发明属于显示，具体涉及一种掩模板和曝光装置。

背景技术：

1、液晶光配向技术是使用光对光敏感度高、稳定性好的配向材料进行光配向，用其制作的液晶面板不需要制作域分界物，具有高开口、快响应、高对比等特性，成为液晶行业研究的热点。配向膜需要进行配向处理才能有效地控制液晶分子的排列。在配向过程中，掩膜版遮光区与透光区均为近1/2子像素，相邻的遮光区与透光区为一个子像素单元，且与一个子像素对应。掩膜版搭载于两个曝光平台，一个子像素单元对应的不同曝光平台上的遮光区与透光区相反，两曝光平台光配向偏光方向相反。现行配向过程经过多次光配向处理，需配置多个曝光平台，设备成本高，产能低。

技术实现思路

1、本发明实施例的目的是提供一种掩模板和曝光装置，用以解决现行配向过程需要经过多次光配向处理的问题。

2、第一方面，本发明实施例提供了一种掩模板，包括：

3、基板，所述基板包括邻近分布的第一透光区与第二透光区，所述基板的一侧设有反射结构，所述反射结构设置于所述第二透光区的外周，所述反射结构用于反射从所述基板的一侧投射至所述反射结构的光，所述反射结构反射的光透过所述第二透光区投射至所述基板的另一侧。

4、可选地，所述掩模板还包括：

5、半透膜，所述第二透光区包括中间区域与边缘区域，所述边缘区域围绕所述中间区域的外周设置，所述半透膜设置于所述边缘区域。

6、可选地，所述反射结构在垂直于所述基板方向上的高度可调节。

7、可选地，所述反射结构与所述第二透光区之间的间隔距离可调节。

8、可选地，所述反射结构包括反光板，所述反光板与所述基板之间的夹角的角度可调节。

9、可选地，所述掩模板还包括：

10、第一遮光结构，所述第一遮光结构与所述反射结构设置于所述基板的同一侧，所述第二透光区设置于所述第一遮光结构与所述反射结构之间。

11、可选地，所述第一遮光结构在垂直于所述基板方向上的高度可调节。

12、可选地，所述第一遮光结构与第二透光区之间的间隔距离可调节。

13、可选地，所述第一遮光结构包括第一遮光板，所述第一遮光板与所述基板之间的夹角的角度可调节。

14、可选地，所述掩模板还包括：

15、第二遮光结构，所述反射结构设置于所述第二遮光结构与所述基板之间，所述第二遮光结构与所述第一遮光结构在平行于所述基板的方向上间隔设置，所述第二遮光结构与所述第一遮光结构在垂直于所述基板的方向上间隔设置，所述反射结构用于反射从所述第二遮光结构与所述第一遮光结构之间投射至所述反射结构的光。

16、可选地，所述第二遮光结构与所述第一遮光结构在平行于所述基板的方向上的间隔间距可调节；和/或

17、所述第二遮光结构与所述第一遮光结构在垂直于所述基板的方向上的间隔间距可调节。

18、可选地，所述第一遮光结构包括第一遮光板，所述第二遮光结构包括第二遮光板，所述第一遮光板垂直于所述基板设置，所述第二遮光板平行于所述基板设置。

19、可选地，所述第一透光区与所述第二透光区交替分布。

20、可选地，所述反射结构邻近所述第二透光区的边缘设置。

21、第二方面，本发明实施例提供了一种曝光装置，包括上述实施例中所述的掩模板。

22、在本发明实施例的掩模板中，所述基板包括邻近分布的第一透光区与第二透光区，所述基板的一侧设有反射结构，所述反射结构设置于所述第二透光区的外周，所述反射结构用于反射从所述基板的一侧投射至所述反射结构的光，所述反射结构反射的光透过所述第二透光区投射至所述基板的另一侧。在使用过程中，光源的光线从基板的一侧投射至第一透光区与反射结构，投射至第一透光区的光透过第一透光区投射至基板的另一侧，投射至反射结构的光透过第二透光区投射至基板的另一侧，通过反射结构反射的光线改变了光线的方向，透过第一透光区投射至基板的另一侧的光方向与反射结构的反射光透过第二透光区投射至基板的另一侧的光方向不同，使得投射至基板的另一侧的光具有两种光传输方向，通过两种方向的光可以实现单次曝光双向光配向，在配向过程中，可以减少曝光次数，减少配置的曝光平台的数量，降低设备成本，减少基板流动路径长，提高产能。

技术特征：

1.一种掩模板，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，还包括：

3.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述反射结构在垂直于所述基板方向上的高度可调节。

4.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述反射结构与所述第二透光区之间的间隔距离可调节。

5.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述反射结构包括反光板，所述反光板与所述基板之间的夹角的角度可调节。

6.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，还包括：

7.根据权利要求6所述的掩模板，其特征在于，所述第一遮光结构在垂直于所述基板方向上的高度可调节。

8.根据权利要求6所述的掩模板，其特征在于，所述第一遮光结构与第二透光区之间的间隔距离可调节。

9.根据权利要求6所述的掩模板，其特征在于，所述第一遮光结构包括第一遮光板，所述第一遮光板与所述基板之间的夹角的角度可调节。

10.根据权利要求6所述的掩模板，其特征在于，还包括：

11.根据权利要求10所述的掩模板，其特征在于，所述第二遮光结构与所述第一遮光结构在平行于所述基板的方向上的间隔间距可调节；和/或

12.根据权利要求10所述的掩模板，其特征在于，所述第一遮光结构包括第一遮光板，所述第二遮光结构包括第二遮光板，所述第一遮光板垂直于所述基板设置，所述第二遮光板平行于所述基板设置。

13.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述第一透光区与所述第二透光区交替分布。

14.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述反射结构邻近所述第二透光区的边缘设置。

15.一种曝光装置，其特征在于，包括权利要求1-14中任一项所述的掩模板。

技术总结
本发明公开了一种掩模板和曝光装置，掩模板包括：基板，所述基板包括邻近分布的第一透光区与第二透光区，所述基板的一侧设有反射结构，所述反射结构设置于所述第二透光区的外周，所述反射结构用于反射从所述基板的一侧投射至所述反射结构的光，所述反射结构反射的光透过所述第二透光区投射至所述基板的另一侧。在使用过程中，通过反射结构反射的光线改变了光线的方向，透过第一透光区投射至基板的另一侧的光方向与反射结构的反射光透过第二透光区投射至基板的另一侧的光方向不同，使得投射至基板的另一侧的光具有两种光方向，通过两种方向的光可以实现单次曝光双向光配向，可以减少曝光次数。

技术研发人员：张少平,羊书康,雒斌,李梁梁,刘佳,王颖,陈钒
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/12