一种版图修正方法、系统及计算机介质与流程

【】本发明涉及光刻，特别涉及一种版图修正方法、系统及计算机介质。

背景技术

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背景技术：

1、光刻工艺是现代极大规模集成电路制造过程中最重要的制造工艺，掩模上集成电路设计图形通过光刻机的投影物镜在硅片上成像时，随着掩模上图形特征尺寸的较小，光的衍射现象逐渐显著。当某些高阶衍射光因投影物镜光学系统孔径限制而无法参与成像时，在硅片上的成像将产生变形和图形无法分辨的现象。这一现象被称为光学临近效应(optical proximity effect)。为提高成像分辨率和成像质量，人们可以通过对掩模上图形进行优化实现对上述光学临近效应的修正即opc(optical proximity correction)。

2、当前的掩膜图案选取方法需要人工不断对目标掩膜图案和非目标掩膜图案的自身属性及其所处环境进行比对，这会随着目标掩膜图案的不同，造成目标掩膜图案选取难易程度上的差异，最重要的是尚不能通过某一个参数一步到位选取出目标掩膜图案，而需在多种参数间进行多次人工对比，严重制约着实际工作中的掩膜修正效率。

技术实现思路

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技术实现要素：

1、为实现对不满足预期修正要求的掩膜图案快速选取，从而提升掩膜修正效率，本发明提供了一种版图修正方法、系统及计算机介质。

2、本发明解决技术问题的方案是提供一种版图修正方法，包括以下步骤：获取包括至少一个目标掩膜图案及其他掩膜图案的初始版图，并获取所述初始版图中目标掩膜图案的线段的坐标值；获取初始版图中其他掩膜图案的形状特征，并基于坐标值生成区别于该形状特征且与目标掩膜图案相交的预设掩膜图案；将目标掩膜图案中与生成的预设掩膜图案相交的线段标记为特征线段；将初始版图中所有掩膜图形的每条线段与其周围相邻的所有线段进行特征计算，并将计算的结果作为每个图形每条线段的特征值记录；基于记录的特征值筛选出具有与特征线段相同特征值的线段并标记，并将该线段所在掩膜图案作为结果输出。

3、优选地，所述特征值至少为关于周围所有的线段的位置、长度以及方向的函数。

4、优选地，定义需要计算特征值的线段为sj，特征值对应为a，si为线段sj周围的线段，则a通过如下的哈希函数计算：

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6、si(x,y)为线段sj周围的线段si以线段sj的中点为原点的相对坐标，sil为线段si的长度，sid为线段si相对线段sj的方向的相对值。

7、优选地，获取包括至少一个目标掩膜图案及其他掩膜图案的初始版图之前还包括对全版图的拆分步骤，具体包括以下步骤：提供一个全版图，并获取全版图中所有掩膜图案的修正结果，将修正结果不满足预期的掩膜图案标记为目标掩膜图案；基于目标掩膜图案的位置对全版图进行拆分得到拆分版图，并判断拆分版图是否包括目标掩膜图案；判定不包括目标掩膜图案的拆分版图为优选版图；包括至少一个目标掩膜图案的拆分版图为初始版图。

8、优选地，获取具有与特征线段相同特征值的掩膜图案的筛选结果之后还包括对全版图的验证过程，具体包括以下步骤：获取全版图中所有掩膜图形的每条线段的特征值；基于获取的特征值将全版图的掩膜图案中具有与特征线段相同特征值的线段标记，并将被标记的线段的掩膜图案作为结果输出。

9、优选地，所述初始版图为预设边长范围的正四边形。

10、优选地，所述预设边长大于等于10um。

11、优选地，所述优选版图为夹角呈90°的多边形。

12、本发明为解决上述技术问题还提供一种版图修正系统，包括信息获取模块：用于获取初始版图中的所有掩膜图案的形状特征，目标掩膜图案，目标掩膜图案的线段的坐标值，及目标掩膜图案的特征线段；图形生成模块：基于所述坐标值生成区别于所述初始版图中其他掩膜图案形状特征的预设掩膜图案；特征值计算模块：用于对所述初始版图中每个掩模图形所有的线段分别与其周围的线段执行计算，获得并记录与每个掩模图形每条线段对应的特征值；筛选模块：用于统计初始版图中每个图形的所有线段的特征值，基于所述特征值及特征线段对初始版图中所有掩膜图案进行筛选。

13、本发明为解决上述技术问题还提供一种计算机介质，包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，所述处理器执行所述计算机程序时，实现如上所述的版图修正方法。

14、与现有技术相比，本发明的一种版图修正方法、系统及计算机介质具有以下优点：

15、1、本发明的版图修正方法，包括以下步骤：获取包括至少一个目标掩膜图案及其他掩膜图案的初始版图，并获取所述初始版图中目标掩膜图案的线段的坐标值；获取初始版图中其他掩膜图案的形状特征，并基于坐标值生成区别于该形状特征且与目标掩膜图案相交的预设掩膜图案；将目标掩膜图案中与生成的预设掩膜图案相交的线段标记为特征线段；将初始版图中所有掩膜图形的每条线段与其周围相邻的所有线段进行特征计算，并将计算的结果作为每个图形每条线段的特征值记录；基于记录的特征值筛选出具有与特征线段相同特征值的线段并标记，并将该线段所在掩膜图案作为结果输出。通过输入的坐标点信息生成独特于版图上的掩膜图案，并以此来精准标记目标掩膜图案，排除了主流选取方法中需要人工反复提炼目标掩膜图案和非模板掩膜图案的自身属性及其所处环境差异的过程，极大缩短了目标掩膜图案的选取周期；通过计算版图上所有掩膜图案线段的特征值，将目标掩膜图案上的标记赋予到与目标掩膜图案上目标边具有相同的特征值的掩膜图案上，从而选取出版图上与目标图案环境一致掩膜图案，能极大地提升光学临近修正的效率。

16、2、本发明的版图修正方法，获取包括至少一个目标掩膜图案及其他掩膜图案的初始版图之前还包括对全版图的拆分步骤，具体包括以下步骤：提供一个全版图，并获取全版图中所有掩膜图案的修正结果，将修正结果不满足预期的掩膜图案标记为目标掩膜图案；基于目标掩膜图案的位置对全版图进行拆分得到拆分版图，并判断拆分版图是否包括目标掩膜图案；不包括目标掩膜图案的拆分版图为优选版图；包括至少一个目标掩膜图案的拆分版图为初始版图。通过将全版图拆分且拆分后的子版图能独立运算，能进一步提高掩膜修正效率，且通过对不包含模板掩膜图案及包含掩膜图案的版图进行拆分，从而只需要对包含目标掩膜图案的版图进行测量，进一步提升掩膜修正效率。

17、3、本发明的版图修正方法，获取具有与特征线段相同特征值的掩膜图案的筛选结果之后还包括对全版图的验证过程，具体包括以下步骤：获取全版图中所有掩膜图形的每条线段的特征值；基于获取的特征值将全版图的掩膜图案中具有与特征线段相同特征值的线段标记，并将被标记的线段的掩膜图案作为结果输出。通过验证过程能降低对全版图拆分时的错误导致降低预期修正效果的可能性，同时对不同初始版图存在的不同情况进行全面检验，避免偶然结果出现。

18、4、本发明的版图修正方法，初始版图为预设边长范围的正四边形。正四边形便于拆分获取，且拆分速度快，从而提升修正效率。

19、5、本发明的版图修正方法，预设边长大于等于10um。通过对边长的范围限定，也即对初始版图中能包含的目标掩膜图案的数量，从而提升掩膜修正效率。

20、6、本发明还提供一种版图修正系统，包括信息获取模块：用于获取初始版图中的所有掩膜图案的形状特征，目标掩膜图案，目标掩膜图案的线段的坐标值，及目标掩膜图案的特征线段；图形生成模块：基于所述坐标值生成区别于所述初始版图中其他掩膜图案形状特征的预设掩膜图案；特征值计算模块：用于对所述初始版图中每个掩模图形所有的线段分别与其周围的线段执行计算，获得并记录与每个掩模图形每条线段对应的特征值；筛选模块：用于统计初始版图中每个图形的所有线段的特征值，基于所述特征值及特征线段对初始版图中所有掩膜图案进行筛选。版图修正系统具有与上述版图修正方法相同的有益效果，在此不做赘述。

21、7、本发明还提供一种存储介质，包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，该计算机程序被执行时实现上述版图修正方法，存储介质具有与上述版图修正方法相同的有益效果，在此不做赘述。