光栅压印模板的制作方法及模板、近眼显示装置与流程

本文涉及但不限于显示，尤其涉及一种光栅压印模板制作方法及模板、近眼显示装置。

背景技术：

1、近年来，虚拟现实(virtual reality，vr)技术和增强现实(augmented reality，ar)技术越来越受到人们的关注，诸多科技企业对其加大研发力度，希望能够早日开发出应用于消费者终端的相关产品。头戴显示器(head mount display，hmd)作为增强现实技术的重要实现手段，近二十年来得到了迅速发展。头戴显示器中光模块解决方案主要包括自由曲面、几何反射光波导和光栅衍射光波导等。现有光栅衍射光波导的制备方法存在制造精度低以及制造效率低等问题。

技术实现思路

1、本公开实施例提供一种光栅压印模板制作方法及模板、近眼显示装置，可以解决现有光栅压印模板制造精度低以及制造效率低的问题。

2、本公开实施例提供了一种光栅压印模板的制作方法，所述光栅压印模板的制作方法包括：

3、在底板一侧形成胶层；

4、对所述胶层采用同一图案化工艺形成光栅图案，所述光栅图案包括多个光栅，所述多个光栅的高度不完全相同。

5、一些示例性实施例中，所述在底板一侧形成胶层包括：

6、在所述底板一侧形成沉积层，在所述沉积层远离所述底板一侧形成所述胶层。

7、一些示例性实施例中，所述沉积层的材料包括金属材料或者无机材料中的至少一种。

8、一些示例性实施例中，所述光栅压印模板的制作方法还包括：

9、在所述胶层远离所述底板的一侧形成保护层；其中，所述保护层在所述胶层的正投影包括所述光栅图案在所述胶层的正投影。

10、一些示例性实施例中，所述保护层包括无机膜层与金属膜层中的至少一种。

11、一些示例性实施例中，所述保护层的厚度范围为1纳米至200纳米。

12、一些示例性实施例中，所述光栅周期的范围为150纳米至600纳米。

13、一些示例性实施例中，所述光栅的占空比的范围为0.1至0.9。

14、一些示例性实施例中，所述同一图案化工艺为灰度光刻工艺。

15、另一方面，本公开实施例提供一种光栅压印模板，所述光栅压印模板采用上述任一实施例所述的光栅压印模板的制作方法制得。

16、另一方面，本公开实施例提供一种近眼显示装置，所述近眼显示装置包括光波导元件，所述光波导元件包括波导基板、耦入结构和耦出结构，且所述耦入结构和所述耦出结构位于所述波导基板的同一侧；

17、其中，所述耦出结构采用上述任一实施例所述光栅压印模板的制作方法制得。

18、一些示例性实施例中，所述耦入结构包括闪耀光栅。

19、一些示例性实施例中，所述光波导元件还包括折转结构，所述折转结构与所述耦出结构位于所述波导基板的同一侧，且所述折转结构位于所述耦入结构与所述耦出结构之间；

20、其中，所述折转结构采用上述任一实施例所述光栅压印模板的制作方法制得。

21、本公开实施例所提供的光栅压印模板的制作方法，可以通过同一图案化工艺形成具有不同高度的光栅的光栅图案，相比采用多次套刻工艺，本公开实施例所提供的光栅压印模板的制作方法具有较高的制造精度、且具有较高的生产效率。

22、本申请的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本申请而了解。本申请的其他优点可通过在说明书以及附图中所描述的方案来实现和获得。

技术特征：

1.一种光栅压印模板的制作方法，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的光栅压印模板的制作方法，其特征在于，所述在底板一侧形成胶层包括：

3.如权利要求2所述的光栅压印模板的制作方法，其特征在于，所述沉积层的材料包括金属材料或者无机材料中的至少一种。

4.如权利要求1所述的光栅压印模板的制作方法，其特征在于，还包括：

5.如权利要求4所述的光栅压印模板的制作方法，其特征在于，所述保护层包括无机膜层与金属膜层中的至少一种。

6.如权利要求4所述的光栅压印模板的制作方法，其特征在于，所述保护层的厚度范围为1纳米至200纳米。

7.如权利要求1至6任一所述的光栅压印模板的制作方法，其特征在于，所述光栅周期的范围为150纳米至600纳米。

8.如权利要求1至6任一所述的光栅压印模板的制作方法，其特征在于，所述光栅的占空比的范围为0.1至0.9。

9.如权利要求1至6任一所述的光栅压印模板的制作方法，其特征在于，所述同一图案化工艺为灰度光刻工艺。

10.一种光栅压印模板，其特征在于，采用如权利要求1至9任一所述的光栅压印模板的制作方法制得。

11.一种近眼显示装置，其特征在于，包括光波导元件，所述光波导元件包括波导基板、耦入结构和耦出结构，且所述耦入结构和所述耦出结构位于所述波导基板的同一侧；

12.如权利要求11所述的近眼显示装置，其特征在于，所述耦入结构包括闪耀光栅。

13.如权利要求11所述的近眼显示装置，其特征在于，所述光波导元件还包括折转结构，所述折转结构与所述耦出结构位于所述波导基板的同一侧，且所述折转结构位于所述耦入结构与所述耦出结构之间；

技术总结
一种光栅压印模板的制作方法及模板、近眼显示装置。所述光栅压印模板的制作方法包括：在底板一侧形成胶层，对所述胶层采用同一图案化工艺形成光栅图案，所述光栅图案包括多个光栅，所述多个光栅的高度不完全相同。本公开实施例所提供的光栅压印模板的制作方法，可以通过同一图案化工艺形成具有不同高度的光栅的光栅图案，相比采用多次套刻工艺，本公开实施例所提供的光栅压印模板的制作方法具有较高的制造精度、且具有较高的生产效率。

技术研发人员：陈宏,郭康,张笑,段正,李多辉,宋梦亚,张栋梁,孙永旗,谷新,冯鸿博
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/16