照明校正设备的制作方法

本公开涉及一种照明校正设备和包括该照明校正设备的曝光设备。

背景技术：

1、曝光设备是将期望图案施加至晶圆上的机器。图案可转移至衬底的目标部分上。通常通过在设置在晶圆上的抗蚀剂层上成像执行图案的转移。

2、曝光设备可包括产生预定波长的辐射束的辐射源和传输辐射束以最终将掩模板(reticle)上的图案转移至晶圆的扫描仪。扫描仪可包括用于传输辐射束的光学系统，光学系统可包括在辐射束入射于掩模板上之前用于校正辐射束的非均匀性的照明校正设备。例如，照明校正设备可包括：用于覆盖辐射束的边缘以校正辐射束的取决于位置的强度的变化的致动指状物。

技术实现思路

1、本公开的一方面提供了一种用于在辐射束的路径上测量入射于掩模板上的辐射束的强度的照明校正设备。

2、本公开的另一方面提供了一种用于通过测量入射于掩模板上的辐射束的强度计算光学系统的功率损失程度的曝光设备。

3、本公开的另一方面提供了一种用于通过测量入射于掩模板上的辐射束的强度检测光学系统的像差和对齐中的异常的曝光设备。

4、根据本公开的一方面，一种被配置为校正从曝光设备入射于掩模板上的辐射束的照明校正设备包括：多个指状物，其各自具有面对辐射束的入射方向的表面，所述多个指状物在第一方向上排列为邻近于辐射束的路径，并且被配置为通过在与第一方向交叉的第二方向上移动调整入射的辐射束的量；控制器，其连接至所述多个指状物，并且被配置为控制所述多个指状物的移动，使得辐射束的强度在第一方向上具有均匀性；至少一个光学传感器，其在所述多个指状物中的至少一个指状物的表面上；以及测量单元，其被配置为基于所述至少一个光学传感器的输出测量辐射束的强度。

5、根据本公开的一方面，一种被配置为校正从曝光设备入射于掩模板上的辐射束的照明校正设备包括：多个指状物，其被配置为以所述多个指状物在预定方向上的移动调整入射于掩模板上的辐射束的强度；能量传感器，其邻近于所述多个指状物；以及多个光学传感器，其在所述多个指状物中的至少一个指状物的表面上，其中，照明校正设备被配置为利用能量传感器和所述多个光学传感器测量掩模板水平上的辐射束的强度，并且掩模板水平上的辐射束的强度用于监视曝光设备的投影系统的能量传输效率。

6、根据本公开的一方面，一种被配置为校正从曝光设备入射于掩模板上的辐射束的照明校正设备包括：多个指状物，其被配置为通过多个指状物在预定方向上的移动调整入射于掩模板上的辐射束的量；能量传感器，其邻近于所述多个指状物；以及多个光学传感器，其在所述多个指状物中的至少一个指状物的表面上，其中，照明校正设备被配置为利用能量传感器和所述多个光学传感器测量表示入射于掩模板上的辐射束的取决于位置的强度的掩模板水平强度轮廓，并且掩模板水平强度轮廓用于监视投影系统的像差或对齐中是否存在异常。

7、根据本公开的一方面，一种曝光设备包括：辐射源，其被配置为输出辐射束；掩模板台，其上安装有包括光学图案的掩模板；晶圆台，其上安装有晶圆；照明系统，其被配置为将从辐射源输出的辐射束传输至掩模板；照明校正设备，其被配置为校正从照明系统入射于掩模板上的辐射束的均匀性；以及投影系统，其被配置为将从掩模板反射的辐射束传输至晶圆，其中照明校正设备包括：多个指状物，其被配置为通过所述多个指状物在预定方向上的移动调整入射于掩模板上的辐射束的强度；邻近于所述多个指状物的能量传感器；以及多个光学传感器，其位于所述多个指状物中的至少一个指状物的表面上，并且其中照明校正设备被配置为利用能量传感器和所述多个光学传感器测量掩模板水平上的辐射束的强度。

8、根据本公开的一方面，一种曝光设备包括：被配置为输出辐射束的辐射源；掩模板台，其上安装包括光学图案的掩模板；晶圆台，其上安装晶圆，晶圆台包括被配置为测量表示入射于晶圆上的辐射束的取决于位置的强度的晶圆水平强度轮廓的狭缝点传感器；照明系统，其被配置为将辐射源输出的辐射束传输至掩模板；照明校正设备，其被配置为校正从照明系统入射于掩模板上的辐射束的均匀性；投影系统，其被配置为将从掩模板反射的辐射束传输至晶圆；以及监视单元，其被配置为监视投影系统是否异常，其中，照明校正设备包括：多个指状物，其被配置为通过所述多个指状物在预定方向上的移动调整入射于掩模板上的辐射束的量；邻近于所述多个指状物的能量传感器；以及在所述多个指状物中的至少一个指状物的表面上的多个光学传感器，其中，照明校正设备被配置为利用能量传感器和所述多个光学传感器测量表示入射于掩模板上的辐射束的取决于位置的强度的掩模板水平强度轮廓，并且监视单元被配置为根据晶圆水平强度轮廓和掩模板水平强度轮廓彼此比较的结果监视在投影系统中的像差或对齐是否存在异常。

9、根据本公开的示例实施例，一种照明校正设备可将光学传感器置于致动指状物中的每一个的表面上，并且致动所述致动指状物以将光学传感器暴露于辐射束，从而测量在辐射束的路径上入射于掩模板上的辐射束的强度。

10、根据本公开的示例实施例，一种曝光设备可基于由照明校正设备测量的辐射束的强度和由晶圆测量的辐射束的强度计算光学系统的功率损失程度。

11、根据本公开的示例实施例，一种曝光设备可以基于由照明校正设备测量的辐射束的强度和由晶圆测量的辐射束的强度检测照明光的像差和对齐中的异常。

12、本公开要解决的问题不限于上述问题，本领域技术人员将从以下描述中清楚地理解未描述的其他问题。

技术特征：

1.一种照明校正设备，其被配置为校正从曝光设备入射于掩模板上的辐射束，所述照明校正设备包括：

2.根据权利要求1所述的照明校正设备，其中：

3.根据权利要求2所述的照明校正设备，其中：

4.根据权利要求1所述的照明校正设备，其中：

5.根据权利要求4所述的照明校正设备，其中：

6.根据权利要求1所述的照明校正设备，其中，所述照明校正设备还包括：

7.根据权利要求1所述的照明校正设备，其中，所述至少一个光学传感器包括被配置为对10nm至30nm的辐射束执行光电转换的光电二极管。

8.根据权利要求1所述的照明校正设备，其中，所述照明校正设备还包括附着于所述至少一个光学传感器的表面的多个光学滤波器。

9.根据权利要求8所述的照明校正设备，其中，所述多个光学滤波器被配置为选择性地传输极紫外束。

10.根据权利要求1所述的照明校正设备，其中，所述照明校正设备还包括在所述至少一个光学传感器的朝着所述至少一个指状物取向的表面上的珀耳帖装置。

11.根据权利要求1所述的照明校正设备，其中，所述测量单元被配置为基于所述至少一个光学传感器的所述输出来输出表示取决于所述辐射束在所述第一方向上的位置的所述辐射束的强度的强度轮廓。

12.根据权利要求11所述的照明校正设备，其中，所述控制器被配置为基于所述测量单元输出的所述强度轮廓控制所述多个指状物的移动，使得所述辐射束的强度在所述第一方向上具有均匀性。

13.根据权利要求1所述的照明校正设备，其中，所述测量单元包括：

14.根据权利要求1所述的照明校正设备，其中，所述至少一个光学传感器中的对应一个位于所述多个指状物中的每一个的表面上。

15.根据权利要求1所述的照明校正设备，其中，所述至少一个光学传感器中的对应一个位于所述多个指状物中的一些指状物的表面上。

16.根据权利要求1所述的照明校正设备，其中，所述至少一个光学传感器在所述第一方向上的长度为1μm或更大且为1cm或更小。

17.一种照明校正设备，其被配置为校正从曝光设备入射于掩模板上的辐射束，所述照明校正设备包括：

18.根据权利要求17所述的照明校正设备，其中，所述照明校正设备被配置为控制所述多个指状物，使得在曝光模式下所述多个光学传感器不暴露于入射于所述掩模板上的所述辐射束，并且控制所述多个指状物，使得在测量模式下所述多个光学传感器暴露于所述辐射束。

19.根据权利要求18所述的照明校正设备，其中，所述照明校正设备被配置为：

20.一种照明校正设备，其被配置为校正从曝光设备入射于掩模板上的辐射束，所述照明校正设备包括：

技术总结
一种照明校正设备，其用于校正从曝光设备入射于掩模板上的辐射束，照明校正设备包括：多个指状物，其各自具有面对辐射束的入射方向的表面，所述多个指状物在第一方向上排列为邻近于辐射束的路径，并且被配置为通过在与第一方向交叉的第二方向上移动来调整入射的辐射束的量；控制器，其连接至所述多个指状物，并且被配置为控制所述多个指状物的运动，使得辐射束的强度在第一方向上具有均匀性；至少一个光学传感器，其在所述多个指状物中的至少一个指状物的表面上；以及测量单元，其被配置为基于所述至少一个光学传感器的输出测量辐射束的强度。

技术研发人员：金东炯,郑殷喜,泰恩·博伦,李胤尚,金桢吉,朴景彬
受保护的技术使用者：三星电子株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/3/4