光偏转器、扫描光学装置以及成像设备的制作方法

文档序号:37435205发布日期:2024-03-25 19:32阅读:10来源:国知局
光偏转器、扫描光学装置以及成像设备的制作方法


背景技术:

1、本发明涉及一种光偏转器、一种扫描光学装置以及一种成像设备,例如一种包括用于将激光扫描到图像承载构件上的光偏转器的扫描光学装置,以及一种使用所述扫描光学装置的成像设备。

2、在诸如激光打印机的成像设备中使用的常规扫描光学装置根据图像信号调制从光源发射的激光,并且调制的激光被包括例如可旋转多面镜的光偏转器偏转和扫描。偏转和扫描的激光通过诸如fθ透镜的扫描透镜形成在感光鼓上,并且形成静电潜像。接着,成像设备通过显影装置将感光鼓上的静电潜像显影成调色剂图像,将调色剂图像转印到记录材料并将其传送到定影装置,并且通过加热和定影记录材料上的调色剂来执行打印。通常,光偏转器由可旋转多面镜、转子、与转子和用于安装可旋转多面镜的基座集成的旋转轴、与板集成的轴承套以及定子构成。并且当可旋转多面镜压靠在基座上时,可旋转多面镜通过诸如弹簧的推压构件固定到基座上。推压构件用于将可旋转多面镜精确且稳定地固定到基座上。

3、当可旋转多面镜的每个反射表面通过接收来自弹簧的推压力和弹簧与可旋转多面镜之间的摩擦力而不同地变形时,会发生抖动和表面倾斜,并且可以发生图像缺陷,因为反射表面之间的反射表面精度的差会增加。另一方面,当为了抑制每个反射表面的变形而减小弹簧的推压力时,例如,因为可旋转多面镜未正确地固定到基座上,可旋转多面镜可能在电机旋转期间偏离基座。在这种情况下,因为抖动增加,可能出现图像缺陷。为了抑制这些问题,期望将可旋转多面镜牢固地固定到基座上,同时通过将弹簧的推压力均匀地分配到可旋转多面镜来减小反射表面之间的反射表面精度的差异。例如,在日本公开专利申请(jp-a)hei08-171067中,其被配置成使得弹簧与可旋转多面镜之间几乎不产生摩擦力,这是因为使用了截面为u形的弹簧,并且弹簧的推压力作用在电机的旋转轴线方向上。

4、然而,在常规示例中,弹簧设置在开口部分中,以用于在旋转轴线的径向方向上安装弹簧,因此推压力几乎不会均匀地作用于可旋转多面镜。因此,可旋转多面镜可能变形,并且因为每个反射表面的变形量不同,反射表面之间的反射表面精度的差异可能增大。

5、针对上述问题,本发明的一个目的是更准确且更稳定地将可旋转多面镜固定到基座,并且抑制抖动、表面倾斜等的发生。


技术实现思路

1、针对上述问题,本发明包括以下配置。根据本发明的一个方面,提供一种光偏转器,所述光偏转器包括:可旋转多面镜,所述可旋转多面镜包括用于反射光的多个反射表面;驱动单元,所述驱动单元被配置成驱动所述可旋转多面镜;推压构件,所述推压构件被配置成将所述可旋转多面镜朝向所述驱动单元推压以将所述可旋转多面镜固定到所述驱动单元;以及限制构件,所述限制构件被配置成按压所述推压构件并限制所述推压构件相对于所述可旋转多面镜的旋转轴线方向的移动,其中所述推压构件包括具有接触所述可旋转多面镜的环形表面的环形部分和与所述环形部分一体形成的多个臂部分,并且其中所述多个臂部分从所述环形部分的外周径向延伸,并相对于围绕所述可旋转多面镜的旋转中心的旋转方向以相等的间隔设置,并且被所述限制构件按压。

2、参考附图,根据示例性实施例的以下描述,本发明的其他特征将变得显而易见。



技术特征:

1.一种光偏转器,包括:

2.根据权利要求1所述的光偏转器,其中所述多个臂部分设置成所述反射表面的数量的整数倍。

3.根据权利要求1所述的光偏转器,其中所述可旋转多面镜包括用于将所述臂部分定位在与所述环形部分相对的表面上的多个突出部分,并且

4.根据权利要求3所述的光偏转器,其中所述多个突出部分设置在以所述可旋转多面镜的旋转中心为中心的假想圆上,并且设置在连接所述多个反射表面中彼此相邻的两个反射表面之间的顶点和所述可旋转多面镜的旋转中心的假想线上。

5.根据权利要求4所述的光偏转器,其中所述可旋转多面镜由树脂形成。

6.根据权利要求1所述的光偏转器,其中所述臂部分中的每一个臂部分包括:

7.根据权利要求6所述的光偏转器,其中在所述推压构件被所述限制构件按压的状态下,所述第一部分在所述旋转轴线方向上远离所述可旋转多面镜。

8.根据权利要求1所述的光偏转器,其中所述臂部分中的每一个臂部分包括:

9.一种扫描光学装置,包括:

10.一种成像设备,包括:


技术总结
一种光偏转器包括可旋转多面镜和推压构件,所述推压构件用于将可旋转多面镜朝向驱动单元推压以将可旋转多面镜固定到驱动单元。推压构件包括具有接触可旋转多面镜的环形表面的环形部分和与环形部分一体形成的多个臂部分。所述多个臂部分从环形部分的外周径向延伸,相对于围绕可旋转多面镜的旋转中心的旋转方向以相等的间隔设置,并且被限制构件按压。

技术研发人员:松下直树,田中孝敏,田中嘉彦
受保护的技术使用者:佳能株式会社
技术研发日:
技术公布日:2024/3/24
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