景像摄影合成器的制作方法

文档序号:2764153阅读:942来源:国知局
专利名称:景像摄影合成器的制作方法
技术领域
本实用新型涉及一种景像合成装置,属于特技摄影的专用附件。
目前的景像摄影合成装置有两大类一类为用幻灯片作背景,将背景投影到幕布上,然后被摄体站在布景幕前摄影,景像合为一体,这类装置缺点是体积大、投资高。另一类是二次曝光合成装置,如ZL92235653.X中公开的摄影装置,是由罩体和两块装于前端的遮光板组成,其中一块板的任意部位设有透光部分,另一块板相应部位设有遮光部分,分别使用两块板曝光两次,就可达到特技摄影效果。这种摄影装置要在同一张底片上曝光两次,因此需要上两次卷,而且两次上卷时位置应完全一致,如果稍有错位,照出像来就会出现景像重叠现象,操作繁琐且很不容易掌握。
本实用新型的目的在于提供一种能够一次曝光实现景像合成的景像摄影合成器。
本实用新型的目的是这样实现的摄影合成器由布景框、平面镜、镜片架、近视凹透镜、挡板、底座和镜片托架组成,布景框插在底座的后边并由固定在底座上的后挡板支撑,平面镜插在底座的前边并由固定在底座上的前挡板支撑,镜面与布景框相对,在布景框和平面镜的任何部位对应开一对摄像孔,紧贴平面镜的背面装有能在底座上左右移动的镜片架,近视凹透镜装在镜片架上并沿着架上的滑道可上下调整,近视凹透镜的下沿装有固定近视凹透镜位置的镜片托架,将近视凹透镜固定在平面镜的摄像孔位置上。

背景技术
相比,本实用新型具有以下优点1、景像合成只需一次曝光即可实现,避免了二次曝光底片错位造成的景像重叠现象。
2、一次即可摄好合成像片,防止了两次曝光因操作失误造成的景像混拍的损失。
3、所采用的布景画很小,不需要大幕布,投资少、占地面积小。


图1为景像摄影合成器的主视图;图2为
图1的俯视图;图3为
图1的右视图。
以下结合附图对本实用新型实施例做进一步洋细说明如
图1、2、3所示,布景框(1)插在底座(6)的后边并由固定在底座(6)上的后挡板(5)支撑,平面镜(2)插在底座(6)的前边并由固定在底座(6)上的前挡板(5)支撑,镜面与布景画相对。在布景框(1)和平面镜(2)的任何部位对应开一对摄像孔,紧贴平面镜(2)的背面装有能在底座(6)上左右移动的镜片架(3),将一个500度的近视凹透镜(4)装在镜片架(3)上并沿着架上的滑道可上下调整,近视凹透镜(4)的下沿装有固定近视凹透镜(4)位置的镜片托架(7),托架(7)上有紧固螺栓固定其位置。调整镜片架(3)和镜片托架(7)将近视凹透镜(4)置于平面镜(2)摄像孔位置上。
摄影时,将照像机放在布景框后的摄像孔处,被摄体位于近视凹透镜后,布景画映射在平面镜内,与近视凹透镜内的被摄体合为一体,即可摄出景像合成作品来。
选择不同组的布景框(1)和平面镜(2)并调整近视凹透镜(4)位置,可在布景画的任何位置摄上被摄体。选择近视凹透镜的不同度数,可调整被摄体大小。
权利要求1.一种景像摄影合成器,其特征在于它由布景框(1)、平面镜(2)、镜片架(3)、近视凹透镜(4)、挡板(5)、底座(6)和镜片托架(7)组成,布景框(1)插在底座(6)的后边并由固定在底座(6)上的后挡板(5)支撑,平面镜(2)插在底座(6)的前边并由固定在底座(6)上的前档板(5)支撑,镜面与布景画相对,在布景框(1)和平面镜(2)的任何部位对应开一对摄像孔,紧贴平面镜(2)的背面装有能在底座(6)上左右移动的镜片架(3),近视凹透镜(4)装在镜片架(3)上并沿着架上的滑道可上下调整,近视凹透镜(4)的下沿装有固定近视凹透镜(4)位置的镜片托架(7),近视凹透镜(4)固定在平面镜(2)的摄像孔位置上。
专利摘要一种景像摄影合成器,由布景框、平面镜、近视凹透镜、镜片架等组成,布景框插在底座后边,平面镜插在底座前边并分别由挡板支撑,布景框与平面镜对应位置开有摄像孔,平面镜背面装有近视凹透镜。这种装置结构简单,操作方便,解决了二次曝光摄影中景像重叠现象的发生。
文档编号G03B15/08GK2177958SQ9324126
公开日1994年9月21日 申请日期1993年10月5日 优先权日1993年10月5日
发明者焦尚财 申请人:焦尚财
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