一种曝光机及曝光方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种曝光机及曝光方法。
【背景技术】
[0002]在液晶面板制造工艺中主要包含曝光、刻蚀、显影等工艺过程，其中曝光的过程最为主要。
[0003]在曝光过程中，不但要求可以精确的曝光出图层图形(Pattern)，而且还要求消耗的时间少，以提高液晶面板制作效率。
[0004]如图1所示，目前使用的水平式单板曝光机装置结构示意图。由于水平式曝光机中的掩模板3 (Mask)水平放置，导致当污染物例如微粒(Par t i c 1 e)落在掩模板上时，污染物不容易自行脱落，从而对曝光精度等造成影响。并且，由于掩模板水平放置，可导致掩模板出现形变量，例如由于重力原因导致掩模板中部向下凹陷，从而影响图形曝光的准确性。
【发明内容】
[0005]本发明提供一种曝光机及曝光方法，可确保曝光的准确性。
[0006]本发明提供方案如下:
[0007]本发明实施例提供了一种曝光机，包括:
[0008]用于传送及固定待曝光基板的承载台；
[0009]用于固定掩模板的固定结构，被所述固定结构固定的掩模板与水平面之间呈现一角度，以用于实现待曝光基板的曝光处理。
[0010]优选的，所述曝光机还包括:
[0011]用于向所述掩模板发送光线以实现对待曝光基板进行曝光处理的曝光光源。
[0012]优选的，所述角度为90°。
[0013]优选的，所述承载台与待曝光基板接触的一侧设置有用于吸附待曝光基板的真空吸孔结构。
[0014]优选的，所述承载台与待曝光基板接触的一侧凹凸不平。
[0015]优选的，所述承载台与待曝光基板接触的一侧涂覆有导电碳涂层。
[0016]优选的，被承载台承载的待曝光基板与所述掩模板平行。
[0017]优选的，被承载台承载的待曝光基板呈水平状态；
[0018]所述曝光机还包括:
[0019]用于将经过所述掩模板的光线导向水平状态的待曝光基板的第一导光器件。
[0020]优选的，所述曝光机包括多个承载台，以用于分别承载多个待曝光基板，所述多个承载台按一预设顺序排布；
[0021]所述曝光机还包括:
[0022]用于将经过所述掩模板的光线导向所述多个承载台分别承载的多个待曝光基板的第二导光器件。
[0023]优选的，所述曝光机内设置有第一承载台、第二承载台、第三承载台、第四承载台；
[0024]所述第二导光器件包括第一棱镜、第二棱镜、第三棱镜、第四棱镜;其中:
[0025]所述第一棱镜镀有1/4透射3/4反射的光学薄膜，用于将经过所述掩模板的第一光线中的1/4光线透射至所述第一承载台承载的第一待曝光基板，将所述第一光线中的3/4光线反射至所述第二棱镜；
[0026]所述第二棱镜镀有2/3透射1/3反射的光学薄膜，用于将所述第一棱镜反射的光线中的2/3光线透射至第二承载台承载的第二待曝光基板，将第一棱镜反射的光线中的1/3光线透射至第三棱镜；
[0027]所述第三棱镜镀有半透半反射的光学薄膜，用于将所述第二棱镜透射的光线中的一半光线反射至第三承载台承载的第三待曝光基板，将第二棱镜反射的光线中的一半透射至第四棱镜；
[0028]所述第四棱镜镀有全反射膜，用于将第三棱镜透射的光线全部反射至第四承载台承载的第四待曝光基板。
[0029]本发明实施例还提供了一种曝光方法，该曝光方法具体可以应用于上述本发明实施例提供的曝光机中；
[0030]所述方法包括:
[0031]使掩模板与水平面之间呈现一角度并固定所述掩模板；
[0032]利用掩模板对承载台承载的待曝光基板进行曝光处理。
[0033]从以上所述可以看出，本发明提供的曝光机及曝光方法，通过设置用于传送及固定待曝光基板的承载台；用于固定掩模板的固定结构，被所述固定结构固定的掩模板与水平面之间呈现一角度，以用于实现待曝光基板的曝光处理。从而可避免掩模板被污染，确保曝光工艺的精度和准确性。
【附图说明】
[0034]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0035]图1为现有技术示意图；
[0036]图2为本发明实施例提供的曝光机结构示意图一；
[0037]图3为本发明实施例提供的曝光机结构示意图二；
[0038]图4为本发明实施例提供的曝光机结构示意图三；
[0039]图5为本发明实施例提供的曝光机结构示意图四；
[0040]图6为本发明实施例提供的承载台结构示意图；
[0041]图7为本发明实施例提供的曝光机结构示意图五；
[0042]图8为本发明实施例提供的曝光机结构示意图六；
[0043]图9为本发明实施例提供的曝光方法流程示意图。
【具体实施方式】
[0044]为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0045]除非另作定义，此处使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本发明专利申请说明书以及权利要求书中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”或者“一”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也相应地改变。
[0046]本发明实施例提供了一种曝光机，如图2所示，包括:
[0047]用于传送及固定待曝光基板1的承载台2;
[0048]用于固定掩模板3的固定结构4，被固定结构4固定的掩模板3与水平面之间呈现一角度，以用于实现待曝光基板1的曝光处理。
[0049]本发明实施例所提供的曝光机，将用于曝光工艺的掩模板3与水平面呈一角度即倾斜放置，可使污染物例如微粒(Particle)落在掩模板上时，污染物可自行脱落而不会留在掩模板3上，从而可避免掩模板被污染，确保曝光工艺的精度和准确性。
[0050]上述本发明实施例所涉及的掩模板3与水平面之间的角度，可基于实际生产需要设定，只要能够确保污染物由于自身重力等原因实现自行脱落即可。在一具体实施例中，该角度具体可为90°，即本发明实施例中掩模板3可竖直设置。竖直设置的掩模板3，即可避免其表面出现污染物残留的情况，还可以避免掩模板3本身发生形变，从而可进一步确保曝光工艺的精度和准确性。
[0051]本发明实施例所涉及的掩模板3，在非工作状态时，可与现有技术相同，即呈水平状态放置，并可以被一保护装置遮挡保护。当需要使用掩模板3时，可通过人工手动或者在一可动器件的带动下，使掩模板3处于倾斜或竖直状态，并被固定结构4固定。另外，掩模板3也可在固定结构4的带动下，在水平与竖直状态之间切换状态。
[0052]为了实现曝光处理，曝光光源5是比不可少的器件，因此，本发明实施例所提供的曝光机中，如图3、4所示，还可以包括:
[0053]用于向掩模板3发送光线以实现对待曝光基板1进行曝光处理的曝光光源5。
[0054]该曝光光源5能够提供平行均匀的光线，且其所照射的光线可垂直于掩模板3，从而可确保曝光处理的精度。本发明实施例中，并不限定该曝光光源5的类型。
[0055]为了使经过掩模板3的光学照射在待曝光基板1上，本发明实施例中，被承载台2承载的待曝光基板1具体可与掩模板3平行设置。这种平行，可基于承载台2或者待曝光基板1与水平面之间的角度，与掩模板3与水平面之间的角度相同来实现。
[0056]如图2、3所示，当掩模板3被固定结构4固定后为竖直状态(S卩90°设置)时，承载台2(承载有待曝光基板1)也为竖直设置。这样，通过使承载台2在纵向上移动，可使承载台2承载的待曝光基板1移动至掩模板3对应范围之内，以利用经过掩模板3的光线实现曝光处理。
[0057]图2、3所示实施例可证明，本发明所提供的曝光机具体可为直立式曝光机。
[0058]图2、3所示实施例可存在一种衍生变形，如图4所示，即承载台2本身为水平设置，但待曝光基板1为竖直设置，这样也可以实现待曝光基板1与掩模板3之间为平行设置。
[0059]在本发明的另一具体实施例中，如图5所示，掩模板3仍可为竖直设置，